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241.
模拟受体聚合物的合成及吸附行为研究 总被引:3,自引:2,他引:3
采用紫外光引发聚合的分子印迹技术,分别制备阿替洛尔、美托洛尔、尼莫地平、酮糠唑4种模板化合物的分子印迹聚合物(molecularlyimprinted polymers,MIP).利用紫外平衡吸附法研究了聚合物的吸附性能和选择识别能力.结果表明,阿替洛尔、美托洛尔印迹聚合物对各自的模板分子呈现良好的再识别性能,而尼莫地平、酮糠唑印迹聚合物对原模板则几乎没有识别能力.Scatchard分析显示了功能单体甲基丙烯酸(MAA)与模板分子阿替洛尔、美托洛尔在自组装过程中通过氢键和离子键形成了至少两类不等价的结合位点.对底物交叉结合实验也表明阿替洛尔、美托洛尔这两种印迹聚合物具有良好的选择性,分离因子α值分别达到了1.75和1.62,而空白聚合物则分别仅为1.07和0.97. 相似文献
242.
243.
纳米氧化铝微柱富集-等离子体发射光谱法测定植物中痕量稀土元素 总被引:1,自引:0,他引:1
以负载了1-苯基-3-甲基-4-苯甲酰基-吡唑酮[5](PMBP)的纳米氧化铝为微柱吸附材料,采用等离子体原子发射光谱法(ICP-AES),系统地研究了其在动态条件下对稀土离子Sc^3 、Y^3 和La^3 的吸附性能,并确定了最佳吸附及解脱条件。实验结果表明:在pH为4.5时,分析物均可被上述吸附材料定量吸附;用0.5moL/L盐酸溶液可将吸附在微柱上的稀土离子完全解脱。本法对Sc^3 、Y^3 和La^3 的检出限分别为0.16、0.19和0.39μg/L;相对标准偏差(RSD)分别为2.7%、3.2%和1.6%(n=9,C=0.5mg/L)。方法应用于植物标样中痕量Sc、Y和La的测定,其测定值与标样值吻合很好。 相似文献
244.
硅胶-氧化铝层析柱-气相色谱法测定沉积物中邻苯二甲酸酯类有机物 总被引:14,自引:0,他引:14
建立了硅胶-氧化铝层析柱净化分离,GC—MS、GC—FID定性定量分析沉积物样品邻苯二甲酸酯类有机污染物Phthalate esters(PAEs)的方法。比较了Florisil、硅胶、氧化铝和硅胶-氧化铝层析柱对PAEs分离特征;优化了硅胶-氧化铝层析柱净化分离PAEs的条件。方法线性范围0.05~500μg/g,回收率75.3%~113.6%,相对标准偏差2.74%~12.2%,检出限0.29~1.2ng/g。内标法定量,应用于珠江口沉积物样品中PAEs测定,获得满意的结果。 相似文献
245.
合成了SnO2-Sb2O3/Ti电极材料.实验结果证实,在14mol/L NaOH水溶液中和完全避免析氧反应的条件下,Fe(Ⅲ)物种在该电极上进行电化学氧化并生成FeO4^2-.结果表明,Fe(OH)。在浓NaOH溶液中发生酸式电离,形成可溶于水的FeO2^-,该离子的浓度随着碱溶液浓度变化而发生明显变化,而且它还是发生化学氧化和电化学氧化的反应物.在SnO2-Sb2O3/Ti电极上,FeO4^2-的电化学还原起始电位为0.38V(vs.Hg/HgO,14mol/L NaOH),FeO2^-电化学氧化起始电位为0.54V.结果还表明,用电化学方法氧化Fe(Ⅲ)物种生成FeO4^2-是个多步骤过程. 相似文献
246.
超分子模板法合成层状中孔结构氧化铝 总被引:7,自引:1,他引:7
利用烷基硫酸钠作为模板剂在室温下合成了层状中孔结构氧化铝,考察了表面活性剂碳链长度和表面活性剂混合比例对层状氧化铝中孔相结构参数的影响.当使用单一表面活性剂作为模板剂时,层状中孔结构氧化铝的层间距d及其层状结构的长程有序度随着表面活性剂碳链长度的增加而增加;若使用C8H17SO4Na与C14H29SO4Na混合表面活性剂作为混合模板剂,当C14H29SO4Na摩尔分数x处在0~0.5时,层间距基本恒定,接近于具有二者平均碳链长度(n=11)的单一表面活性剂作为模板剂时的情形;当x>0.5时,层间距随x的增大而逐渐增大.通过提出的混合表面活性剂在无机层中的分子排列结构模型对该结果做了解释. 相似文献
247.
248.
249.
250.
界面缓蚀剂的吸附稳定性 总被引:9,自引:0,他引:9
研究表明:在一定条件下,阳极脱附电位可作为评价缓蚀剂吸附稳定性的一个经验参数:缓蚀剂吸脱附诱导的电化学振荡是缓蚀体系的一种特殊失稳状态,即缓蚀剂吸附过程与电极反应中间吸附态产物耦合的结果;卤素离子的协同作用不仅可以提高某些有机缓蚀剂的吸附复盖度,而且可以增强其吸附稳定性;微分极化曲线是研究吸附稳定性的有效方法。 相似文献