铈,铝变质奥—贝钢中共晶体异质核心研究

Ｃｅ、Ａｌ复合变质团球状共晶体奥贝钢（简称ＡＢＮＥ钢）中的共晶体是由于Ｃ、Ｍｎ偏析，在凝固后期奥氏体枝晶间形成了渗碳体和奥氏体的伪共晶组织。通过热力学和二维点阵错配度计算，采用透射电镜和扫描电镜观察，发现ＣｅＯ２和ＣｅＡｌＯ３作为共晶体的异质核心而使共晶体球化。     

一种新型的表面声波阻抗传感器及其在液相体系中的应用

一种新型的表面声波阻抗传感器及其在液相体系中的应用姚守拙，陈康，刘德忠，聂利华（湖南大学化学化工系，长沙，４１００８２）关键词表面声波，阻抗传感器，液相应用表面声波传感器（ＳＡＷＳ）具有较高的灵敏度和检测精度，已广泛应用于气体微量组分分析、色谱检测和...     

呲咯电化学聚合的现场ESR波谱和Raman光谱研究

本文采用ESR波谱和Raman光谱方法现场(in situ)研究吡咯在水溶液中的电化学聚合过程。ESR结果显示,形成的聚吡咯(PP)膜的氧化态结构(PP++)对吡咯的氧化聚合具有电催化活性;由此可解释吡咯在PP膜上更易聚合的实验事实。利用表面增强共振Raman散射(SERRS)效应,可研究PP膜在金电极上的形成和增厚过程的结构。光照下吡咯的电化学聚合电位显著降低(约300mV),此光催化作用可望在制备新型有机器件等方面获得应用。     

二溴苯基萤光酮和金属离子显色反应的研究及其分析应用——Ⅰ锗(Ⅳ)——二溴苯基萤光酮——溴化十六烷基三甲铵显色体系

萤光酮类试剂对于多价阳离子具有较高的反应灵敏度,在某些表面活性剂或辅助络合配位体存在下可形成灵敏度更高的多元络合物。锗(Ⅳ)和苯基萤光酮的显色反应报导较多,其摩耳吸光系数一般是1.2-1.4×10~5。沈含熙等最近发表的水杨基萤光酮——溴化十六烷基三甲铵一锗(Ⅳ)显色反应体系的灵敏度达1.89×10~5。     

混合超表面窄带吸收器的仿真设计及特性研究

金属-介质-金属结构的超表面窄带吸收器应用广泛,但金属固有的欧姆损耗会导致吸收峰的半高全宽偏大,影响吸收器在传感领域的应用。本文用介质顶层结构取代超表面的金属顶层结构,设计了一种介质-介质-金属结构的混合超表面窄带吸收器。吸收器由Al₂O₃倒圆台顶层阵列、SiO₂中间介质层以及银膜基底组成,通过有限元法对吸收器的吸收光谱进行仿真,结果显示吸收器在可见光波段产生最大吸收率为99.88%、半高全宽为2.26 nm的吸收峰。通过与相同尺寸参数的金属-介质-金属超表面窄带吸收器进行吸收光谱和吸收峰处电场分布的对比,分析两种结构不同的吸收原理。同时对混合超表面窄带吸收器尺寸参数对吸收峰的影响,吸收器对外界折射率的传感性能进行仿真和分析,为该结构吸收器的可调性和稳定性,以及在折射率传感上的应用提供参考。     

皮秒量级的快速率可重构光混沌逻辑运算

基于垂直腔表面发射激光器(VCSEL)自身的光反馈以及线性电光调制效应,设计了一种实现动态可重构的光混沌逻辑运算的技术方案.归一化注入电流被调制为逻辑输入,横向电场被调制为控制信号,逻辑输出通过对VCSEL输出的x偏振光光强的均值与阈值做差进行解调.通过转换控制信号与逻辑输入的逻辑运算关系,系统就能在基本的逻辑运算如N...     

脂环含氟环氧化合物的光固化及其性能研究

脂环环氧树脂是高活性的光固化材料,但折射率、介电常数以及耐水性方面需要改进。本文对比研究了两种脂环型含氟环氧化合物1,4-双(2,3-环氧环己基氧基)四氟丁烷(TCE)和1,6-双(2,3-环氧环己基氧基)八氟己烷(OCE),并与结构相近的商品脂环环氧树脂ERL-4221比较了光固化动力学,动态力学、热、光学以及表面能性能。TCE和OCE具有类似ERL-4221的高光固化反应活性,提高固化反应温度对含氟环氧化合物的速率和转化率的促进作用更明显;DMA以及TGA测试的结果显示,光固化的含氟环氧化合物C-TCE和C-OCE的玻璃化转变温度都高于150℃,分子链更柔软,耐热性略优于C-ERL-4221;接触角测试结果表明,氟原子取代提高了材料表面的疏水和疏油性,氟含量越高,表面能越低;光固化的C-TCE和C-OCE在可见-近红外波段光学透明。表明TCE和OCE作为先进可光固化材料有极大的应用前景。     

逐像素调制的高反光表面三维测量方法

高反光表面的三维面形测量是光学三维测量领域的难题之一,本文提出一种基于逐像素调制的高反光表面三维测量方法,可解决光学三维测量中因过度曝光而导致的相位信息无法获取的问题。首先,通过投影最大灰度值的灰度图识别饱和像素点的位置;然后,依据投影低灰度下横纵条纹图进行过饱和区域坐标匹配,并结合一种新的相机-投影仪强度映射关系,逐像素求解过饱和像素点的最佳投影灰度值;最后,投影重新生成自适应条纹投影序列,并结合多频外差相移法用于相位恢复和三维重建。实验结果表明：所提方法的间距平均误差和标准偏差均小于文中其他方法所得的测量值,相对于传统方法,该方法的平均误差减少了61.9%,标准偏差减少了67.7%。本文所提方法的调制度高,速度快,能保证很高的测量精度。     

LBO晶体超光滑表面抛光机理

胶体SiO2抛光LBO晶体获得无损伤的超光滑表面,结合前人对抛光机理的认识,探讨了超光滑表面抛光的材料去除机理,分析了化学机械抛光中的原子级材料去除机理.在此基础上,对胶体SiO2抛光LBO晶体表面材料去除机理和超光滑表面的形成进行了详细的描述,研究抛光液的pH值与材料去除率和表面粗糙度的关系.LBO晶体超光滑表面抛光的材料去除机理是抛光液与晶体表面的活泼原子层发生化学反应形成过渡的软质层,软质层在磨料和抛光盘的作用下很容易被无损伤的去除.酸性条件下,随抛光液pH值的减小抛光材料的去除率增大;抛光液pH值为4时,获得最好的表面粗糙度.