氯化亚铜中亚铜及高价铜盐含量的示波滴定

１引言氯化亚铜含量的测定在国家标准分析方法中是根据亚铜离子能使Ｆｅ３＋还原为Ｆｅ２＋，然后以邻菲啉－硫酸亚铁络合物作指示剂用高铈盐进行滴定。氯化亚铜中高价铜盐测定则利用高价铜盐能溶于５ｍｏｌ／Ｌ乙酸．而亚铜盐不能溶解进行分离，然后再用碘量法进行测定，手续十分麻烦。本文根据ＣＵ（Ⅰ）与四苯硼钠定量生成沉淀，用示波滴定法中的四苯硼钠法进行氯化亚铜含量的测定，高价铜盐被抗坏血酸还原，再用四苯硼钠法进行滴定，差量法计算出高价铜盐含量，操作简便，终点直观，测定结果准确。２实验部分２．１主要仪器与试剂ＬＳ－…     

恒电流吸附计时电位法的研究 Ⅱ.铜、铅的微分吸附计时电位法连测

研究了ＮＨ３／ＮＨ４Ｃｌ底液中，铜、铅与水杨基荧光酮（ＳＡＦ）形成的络合物在悬汞电极上的恒电流吸附计时电位溶出行为。讨论了富集时间，溶液ｐＨ值，溶出恒电流大小及铜、铅浓度比值等对ｄｔ／ｄＥ～Ｅ溶出曲线的影响。并得出了连测铜铅的条件。     

偏最小二乘法辅助分光光度法同时测定痕量锰,铁铜和锌

痕量Ｍｎ（Ⅱ），Ｆｅ（Ⅲ），Ｃｕ（Ⅱ）和Ｚｎ（Ⅱ）与２－（５－溴－２－吡啶偶氮）－５－二乙氨基苯酚和聚乙二醉辛基苯基醚在ｐｈ８．８发生高灵敏的显色反应，所形成的三元胶束络合物的吸收光谱严重重叠，用偏最小二乘法（ＰＬＳ）辅助分光光度法成功地同时测定了模拟试样及铝合金和饲料添加剂中上述四各痕量组分，结果表明，ＰＬＳ法是化学计量学法中一种可适用于式体较复杂的实际试样中痕量组分同时分光光度测定的优良的多元     

新铜试剂—曙红Y萃取光度法测定微量铜

铜(I)-新铜试剂(NCP)-曙红Y(Eosin Y)能形成离子对三元络合物,其络合比为1:2:1。在氯仿中该络合物的λ_(max)=544nm,表观摩尔吸光系数ε=6.83×10~4 L mol~(-1)cm~(-1)。以柠檬酸盐作掩蔽剂,控制水相pH=4.5,相比(水相/氯仿)=2/1,可将络合物定量萃入氯仿中。一般常见的共存离子均不干扰测定,显色稳定性好,线性范围为0～5μg cu/5ml氯仿。方法灵救度高,选择性好。     

2,3-吡啶二羧酸铜(Ⅰ)配合物的合成与结构

铜配合物具有多变的配位结构,可活化小分子,可用于氧转移、氧化加成、新陈代谢、均相催化等许多领域。还可以用作金属酶的化学模拟和配合物结构及反应性能研究方面[1-3]。本文以2,3 二羧酸 吡啶为辅助配体及[(PPh3)2Cu(BH4)]作为起始原料,室温下,通过取代反应合成了单核铜(Ⅰ)配合物[(PPh3)2Cu(C7H4NO4)],经元素分析、电导、光电子能谱、红外光谱及单晶XRD方法对配合物进行了表征。1　实验部分1 1　仪器和试剂意大利ERBA 1106元素分析仪,JA96 970等离子光谱仪,Nicolet170SX分析仪(CsI压片),AV 300Bruker分析仪(CDCl3溶剂,8…     

催化荧光法测定痕量铜的研究

本文拟定了一个催化荧光法测定痕量铜的新方法,确定了该催化反应的速度方程式和反应级数。方法检测限达0.1ng Cu/ml,相对标准偏差为3.7％,具有较好的选择性,可不经分离直接用于头发样品中铜的测定,回收及对照实验结果令人满意。     

XPS研究电抛光铜表面粘液膜的组成

金属的电抛光应用越来越广泛.但电抛光机理至今仍不很清楚.我们曾用 XPS 和AES 研究了不同槽电压下电抛光铜表面的组成和物种,确认其表面均为纯铜,不存在含磷固体膜.本文用 XPS 研究电抛光液中1-羟基乙叉-1,1-膦酸(HEDP)浓度、抛光液的 pH 及其接受体(H_3PO_4,HEDP 和 HEDP H_3PO_4)变化时铜的表面组成,并进一步证明,电抛光时形成的粘液膜是水溶性膜,铜表面在不同抛光条件下并不形成难溶的含磷固体膜.通过电子能谱对固化后粘液膜组成和深度分布的研究确定,粘液膜可能是铜的多核聚合混合配体配合物,其组成可近似地表示为[Cu_4(PO_4)(HEDP)]_n.     

沉淀介质对合成醇Cu—Co—Fe系催化剂的影响

分别以水和乙醇为沉淀介质，按不同方法制备了低碳醇合成用Ｃｕ－Ｃｏ－Ｆｅ系催化剂，以乙醇为沉淀介质时，有利于提高生氏碳醇的活性和选择性，产物中正构醇含量增加，且不服从Ｓｃｈｕｌｚ－Ｆｌｏｒｙ方程分布方式，乙醇的存在，使沉淀体系中的杂质ＮａＮＯ３不易洗脱，催化剂还原温度提高；高的ＮａＮＯ３含量对进一步提高催化剂的活性和选择性不利，吸附实验结果表明，乙醇预处理可提高催化剂对ＣＯ的不可逆吸附能力，提高还原     

催化动力学光度法测定痕量铜的研究

本研究了在氨水介质中铜（Ⅱ）催化过氧化氢氧化亮黄的褪色反应及其动力学条件，建立了一种超高灵敏、高选择性的测定环境试样中痕量铜的新方法，可测定０．００４～０．５μｇ／２５ｍＬ范围内的铜（Ⅱ）。