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Thermal Rate Constants of the N(^4S)+O2(X^3∑g^-) → NO(X^2Ⅱ) +O(^3P) Reaction on the ^2A′ Potential Energy Surface
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A quasiclassical trajectory study with the sixth-order explicit symplectic algorithm for the N(^4S)+O2(X^3∑g^-) → NO(X^2Ⅱ) +O(^3P) reaction has been reported by employing a new ground potential energy surface. We have discussed the influence of the relative translational energy, the vibrational and rotational levels of O2 molecules on the total reaction cross section. Thermal rate constants at temperatures 300, 600, and 1000 K determined in this work for the reaction are 4.4 × 10^7, 1.8 × 10^10, and 3.1 × 10^11 cm^3mol^-1s^-1, respectively. It is found that they are in better agreement with the experimental data than previous theoretical values. 相似文献
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Hydrogen ions were implanted into separation by implantation of oxygen (SIMOX) silicon-on-insulator (SOI) wafers near the oxygen-implantation-induced damage peak under different conditions of energy and dose. It was found that the implanted hydrogen ions not only accelerate the diffusion of oxygen atoms from the annealing ambience into the wafer but also cause an outward diffusion of oxygen atoms in the buried oxide (BOX) layer. Thus, greatly broadened buried oxygen-rich (BOR) layers were formed in our experiments, which are 18%-79% broader than the BOX layer of standard SIMOX SOI wafers under the same conditions of oxygen implantation. The mechanism was discussed. A potential low cost method to fabricate SIMOX SOI wafers is proposed. 相似文献
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精密垫片零件,如图1所示,零件材料为1Cr18Ni9Ti,强度大(σb=650MPa),有一定塑性。从零件尺寸精度看,φ4mm外圆为IT7级精度,φ4mm外圆与φ2mm内孔有很高的同轴度要求,冲裁断面与零件两端面有垂直度要求,普通冲压不能达到零件精度:从工序的角度看,有冲孔和落料工序,剪切面粗糙度Ra≤3.2μm,属于光洁冲裁范畴;另外,技术条件中要求零件两大面不得有任何划伤,且光滑平整。总体上看,该零件的冲压加工性不好,难度较大,对模具的设计、选材、制造要求都较高。 相似文献
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碳氢(cH)及其掺杂材料常被用作ICF实验靶丸烧蚀层材料。制备CH薄膜及其掺杂材料的方法有很多,诸如:离子束辅助沉积、离子溅射沉积、低压等离子体化学气相沉积(LPPCVD)等。近年来,详细研究了LPPCVD法制备CH薄膜的制备方法与工艺,形成了比较成熟的技术路线与工艺路线,并为“神光”实验提供了一系列实验靶丸。 相似文献
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为了使光盘获得优良的记录/读出性能并能够长期稳定地使用,必须优化设计相变光盘的多层膜结构。采用自行设计的模拟分析相变光盘读出过程设计软件,从光学角度出发模拟计算了蓝光(405nm)相变光盘的膜层结构,研究了多层膜系的反射率和反射率对比度等光学参量与各层膜厚度和槽深的关系。研究得出的最佳多层膜结构为:下介电层/记录层/上介电层/反射层的厚度对于台记录为100nm/10nm/25nm,/60nm,而对于槽记录则为140nm/15nm/30nm,/60nm,槽深为50nm。模拟计算结果对于将来高密度蓝光相变光盘的制备具有一定的指导意义。 相似文献