STM在微细加工中的应用

 已提出的各种可能机理有束流引起的化学反应,高电流密度使表面局部区域内原子加热导致的局部原子的蒸发、熔化、再结晶等,有些结构可能是由于污染物或针尖材料在表面上的沉淀而产生的.当样品表面有覆层或处于特定的气体或液体氛围下时,用STM仍可在其上产生各种细微结构,其主要方法可分为两类,其一是电子束光刻,其二是电子束辅助淀积和刻蚀,以下分别进行讨论。     

胶束荧光法测定维生素B_2含量

维生素B_2(核黄素)为人体内黄酶类辅基的组成部分,参与人体内的生物氧化作用。药典规定其含量测定用分光光度法,文献报道有高效液相色谱法、荧光法等。但因维生素B_2(V_(B2))遇光易分解,尤其在碱性水溶液中,极易变质。其降解产物为感光黄素,二氢核黄素,光化色素等,因此给测定的准确度和灵敏度造成一定的麻烦,为了提     

高动态范围微通道板

导出微通道板动态范围的表达式,给出提高动态范围的几种可行途径,简要介绍一种高动态范围微通道板的主要特性。     

极性晶体外表面电子的量子像势及其极化子的基态能量

本从与真空接触的存在二支声子的半无限极性晶体表面附近极化子的哈密顿算符入手，应用二支模型理论，分别对GaAs和ZnO两种材料计算了外表面电子的量子像势及其极化子的基态能量，计算结果表明，利用二支模型理论求出的外表面极化子的基态能量与利用一支模型理论求出的外表在面极化子的基态能量相差较大，对GaAs，误差约为31.1%, 对ZnO，误差约为14.8%。     

世界级新型表面活性剂—烷基糖苷

世界级新型表面活性剂──烷基糖苷随着人们对环境质量要求的不断提高，一种新型的化工产品除了要有良好的性能和经济效益外，还须满足环境相容性的要求。近年来开发的烷基糖苷（ＡｌｋｙｌＰｏｌｙｇｌｙｃｏｓｉｄｅ，缩写ＡＰＧ）以无毒，对皮肤刺激小或无，生物降解迅...     

对期望理论的两个重要推进——损失厌恶系数λ及参考点研究

行为金融学是近20年来最为重要的新兴金融理论,期望理论更是其中的亮点,其运用领域之广超乎人们的想象,所以对它的完善改进具有非常重要的意义。本文对期望理论中的损失厌恶系数和参考点问题进行了深入研究,并且得出了创新性的结果:损失厌恶系数不是常数而是动态变量;得出了内生且纳入更多投资者行为特征的参考点。这些结果是对期望理论的重要改善和推进,对其在大量金融领域和涉及到财富偏好的问题的解决中都大有裨益。     

表面细分技术在二维声辐射和声散射中的应用

把表面细分技术应用于求解边界积分方程，既能把CAD模型直接用于边界元分析，又能精确描述复杂的边界几何形状，实现网格自动加密和形函数自动升阶，满足误差要求。把它应用于简单的二维声辐射和声散射，结果表明对提高边界元方法的计算精度是有效的。     

Bistable Behaviour of N Two-Level Atoms Interacting with the Field inside a High-Q Cavity Containing a Nonlinear Kerr-Like Medium

Taking the intensity-dependent coupling between atoms and cavity mode into account, we investigate a system consisting of N homogeneously broadened two-level atoms interacting with the field inside a single-mode Fabry- Perot cavity containing a nonlinear Kerr-like medium. We derive the steady-state bistable behaviour of the system, and further analyse in details the influence of several critical parameters on the bistable behaviour.     

3004铝合金“反常”锯齿屈服现象的研究

在应变速率为5.56×10^-5s^-1—5.56×10^-3s^-1的范围内，在不同温度下(从223K至773K)，对3004铝合金进行系列拉伸试验，探索其锯齿屈服规律；通过激活能的计算、内耗研究、微观组织观察和能谱分析，探讨锯齿屈服的机理与物理本质.结果表明，3004铝合金在形变过程中会出现动态应变时效现象；发现了一种“反常”的锯齿屈服现象：在出现锯齿屈服的温区内，存在锯齿屈服临界应变量转变温度T_t， 关键词： 动态应变时效 锯齿屈服 铝合金 内耗     

SiO2-羟基表面上金属原子的第一性原理研究

采用第一性原理方法研究了SiO2-羟基表面上几种金属原子的吸附性质,发现In和Ga在SiO2-羟基表面上的结合很弱,而Fe,Co,Ni在该表面上与Si,O形成强的化学键.等势能面和扩散势垒计算表明In(Ga)的扩散激活能只有0.1-0.3 eV,表明这两种原子容易在表面上扩散.这些结果可以定性地解释纳米合成中的一些实验现象.