恒电流吸附计时电位法的研究 Ⅱ.铜、铅的微分吸附计时电位法连测

研究了ＮＨ３／ＮＨ４Ｃｌ底液中，铜、铅与水杨基荧光酮（ＳＡＦ）形成的络合物在悬汞电极上的恒电流吸附计时电位溶出行为。讨论了富集时间，溶液ｐＨ值，溶出恒电流大小及铜、铅浓度比值等对ｄｔ／ｄＥ～Ｅ溶出曲线的影响。并得出了连测铜铅的条件。     

2-[（4'-N，N-二甲胺基）苯乙烯基]-5-二米基硼-噻吩的合成-结构与光物理性质

合成了以含硼（III）基团为电子受体，以二甲胺基为电子给体，以苯乙烯基 噻吩为共轭桥的新化合物2-[（4'-N，N-二甲胺基）苯乙烯基]-5-二米基硼-噻吩 trans-2-[(4'-N, N-dimethylamino) styryl]-5-dimesitylboryl-thiophene（简 写为DMASBT，5）。X射线衍射方法测定其单晶结构表明，硼原子与π共轭桥之间的 硼碳键相对于其它的硼碳键明显缩短，硼与π共轭桥之间存在除了σ键之外的p-π 共轭作用。研究了它在不同溶剂中的光物理性质，发现它具有突出的溶致变色效应 。在极性较大的溶剂中，有较高的荧光量子产率和较长的荧光寿命。激光实验发现 ，DMASBT在近红外波段（750～850 nm）有较强的非线性吸收，用波长为800 nm的 红色飞秒激光激发时，DMASBT在四氢呋喃中发现波长为559 nm的强的绿色上转换荧 光。     

从防垢剂对碳酸钙晶形分布影响的角度研究防垢机理

为研究防垢剂的作用机理, 收集了不同防垢剂加入前后出现的碳酸钙垢. SEM分析表 明, 加入防垢剂前, 碳酸钙垢的SEM表现为方解石的六方柱和菱面体; 加入防垢剂后, 碳酸钙垢的形态发生变化, 且防垢剂的效果越好, 垢的形态改变程度越大. 进一步通过FT-IR, XRD对碳酸钙垢进行了定性、定量分析, 发现加入防垢剂后, 垢中除方解石外, 出现了六方方解石和文石, 且防垢率越大, 垢中六方方解石的含量越高. 上述结果说明, 加入防垢剂后垢形态改变的本质原因是垢中碳酸钙晶型分布发生了变化. 结垢过程主要包括不稳定相的生成和消失、介稳相的生成和消失、稳定相的生长三个阶段. 不出现防垢剂时, 介稳相可以转变为稳定相, 碳酸钙垢的主要成分为方解石; 加入防垢剂后, 防垢剂阻止了介稳相的生成和转化, 导致碳酸钙垢中出现了六方方解石和文石. 防垢率越大, 碳酸钙垢中六方方解石含量越高, 说明防垢剂主要通过将结垢过程控制在第二阶段或第一阶段而起到防垢作用.     

MgO•3B2O3-18%MgSO4-H2O过饱和溶液析出固相组成和机理研究

针对青藏高原盐湖卤水析盐过程的特点, 模拟合成MgO•3B₂O_3-18%MgSO_4-H₂O过饱和溶液, 在150 ℃水热条件下对析出固相进行研究. 用化学分析方法、X射线衍射、红外光谱进行物相鉴定. 提出了可能的结晶反应机理, 分析了水热温度对析出物相的影响及MgSO₄对硼酸镁盐的盐溶效应随水热温度的变化.     

Li^＋／MgO上乙烷氧化脱氢制乙烯的研究（Ⅱ）：催化作用机理

借助ＸＲＤ、ＩＲ、ＴＧ等技术对Ｌｉ＾＋／ＭｇＯ进行了表征，结果表明，酸、碱中心的数目，强度、催化性与Ｌｉ＾＋的添加量相关 ，起酸碱作用的表面金属离子、表面低配位氧集团、Ｏ（Ｌ ｉ＾＋Ｏ＾－）是其反应的活性物种，反应机理可能由离子基、游离基协同完成。     

血卟啉衍生物的色谱分离

本文拟定的纸色谱法是以苯-乙酸乙酯-甲醇-乙酸(9:2:1:1)作展开剂,将血卟啉衍生物(HPD)分离为五部份,分别测定各部份浸取液的荧光发射光谱,作为一种对血卟啉衍生物组份作对比鉴定的参考方法。采用Ward的高效液相色谱程序对比研究结果表明,国产与美国产HPD的组份近似,均以血卟啉为主要组份,而前者血卟啉的含量较高;二者还均含有羟乙基乙烯基衍生物和羟基乙酸酯,初步研究了血卟啉衍生物在甲醇-水溶剂系统中的高效液相色谱行为,进一步将血卟啉衍生物分离为九部份,有利于单一组份研究。     

槲皮素-锑(Ⅲ)-Tween-80荧光光度法的研究及其应用

槲皮素与锑Ⅲ形成二元荧光络合物，Ｔｗｅｅｎ－８０对体系有强烈的增敏作用，研究并建立了测定槲皮素的荧光光度法。在０．０１２ｍｏｌ／ＬＨＣｌ介质中，槲皮素浓度在１．２×１０－５ｍｏｌ／Ｌ～２．８８×１０－４ｍｏｌ／Ｌ范围内与荧光强度呈线性关系，检出限为１．５×１０－５ｍｏｌ／Ｌ。该法用于地锦草中槲皮素的测定，结果满意。     

氧化铽团簇的表面修饰及对其荧光特性影响的研究

采用脉冲激光轰击浸于流动相中的氧化铽固体靶，考察了流动相及其流速、脉冲激光输出功率、修饰剂、添加修饰剂顺序等对所获得的氧化铽有机溶胶荧光性能的影响。UV-Vis和荧光光谱的测试表明：以含有修饰剂的无水乙醇作为流动相，可得到良好荧光性能的氧化铽乙醇溶胶，而环己酮与醋酸乙酯均不适合作为该体系的流动相;最佳流速为0.15 mL·s^-1；脉冲激光输出功率大有利于其荧光性能；最佳修饰剂为乙酰丙酮(acac)和2，2′-联吡啶(2，2′-bipy)，且应原位修饰。