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应用原子吸收光谱法测定聚酰亚胺液晶定向膜 (IP -30 0B)中的微量钠。样品经硫酸消化 -炭化 ,再经马福炉灰化后 ,溶液上机测定。结果表明 ,钠的浓度与吸光度的线性关系 ( 0 1 0~ 2 0 0 μg/mL)、特征浓度 ( 3 5× 1 0 - 3 μg/mL/1 % )、精度 (S :0 0 0 6 8;CV % :3 0 )、和标准添加回收率 ( 92 3%~ 1 0 6 2 % )均达到要求 ,为液晶印刷电路板生产建立质控方法。 相似文献
43.
聚酰亚胺-二氧化硅杂化膜的制备及表征 总被引:21,自引:0,他引:21
采用溶胶-凝胶法制备了两类具有不同二氧化硅含量的聚酰亚胺-二氧化硅(PI-SiO2)杂化膜,并用SEM,IR,TG-DTA,氮吸附和气体渗透性能测试等手段对该膜材料的表面形貌、结构、热性能、孔径分布和气体渗透性能进行了表征.结果表明,PI-SiO2膜材料中SiO2粒子的分散良好,与有机相之间存在着分相和键联;膜材料的玻璃化温度θg均随SiO2含量的增加而升高.相比之下,在酸性条件下制备的T系列杂化膜比在碱性条件下合成的S系列杂化膜对θg的影响更大一些;杂化膜具有较好的气体渗透性能和亲水性能,其H2O/N2和H2O/CH4的分离系数远大于努森扩散的理论值. 相似文献
44.
聚酰亚胺复合材料的摩擦性能及其机理研究 总被引:15,自引:8,他引:15
研究了含有固体润滑剂的炭纤维增强 PI复合材料在干摩擦和水润滑 2种状态下的摩擦磨损性能及其磨损机理 .结果表明 ,在水润滑条件下 ,摩擦系数和磨损率都有不同程度的降低 ,其中含 PTFE的炭纤维增强 PI复合材料的耐磨性最佳 ,最低磨损率为 9.9× 10 - 7mm3/ N· m.其主要原因可能与材料存在极性酰胺基团有关 ,酰胺基易通过氢键与水分子结合 ,在摩擦表面形成水吸附膜 ,使摩擦表面直接接触减少 ,从而改善材料的摩擦磨损性能 相似文献
45.
以可溶性聚酰亚胺为反应底物,经氯甲基化反应制得氯甲基化聚酰亚胺,再以氯甲基为活性反应中心,在聚酰亚胺侧链上接枝聚丙二醇单丁醚(PPG),从而得到PPG侧链修饰聚酰亚胺.所制备的产物结构经红外光谱和核磁共振氢谱得以证实.介电常数及吸附脱附测试结果表明:经过大体积侧链PPG修饰后,聚合物的介电常数明显降低,由3.147降低至2.976;比体积和比表面积增大.同时,所制得的聚合物具有优良的溶解性能,在微电子工业中易于加工应用. 相似文献
46.
采用热蒸发气相沉积聚合方法(VDP)制备了聚酰亚胺(PI)薄膜,研究了设备、衬底温度、升温过程和单体配比因素对PI薄膜表面形貌的影响。利用干涉显微镜和扫描电镜对薄膜表面形貌进行了分析;利用原子力显微镜测定了薄膜表面粗糙度。结果表明:设定蒸发源-衬底距离为74 cm时可成连续膜;蒸发源采用一段升温和多段升温时,膜表面均方根粗糙度分别为291.23 nm和61.99 nm;采用细筛网可防止原料的喷溅;均苯四甲酸二酐和4,4′-二氨基二苯醚(PMDA和ODA)单体沉积速率比值为0.9∶1时,膜表面均方根粗糙度值可减小至3.30 nm;沉积衬底温度保持30 ℃左右时,膜表面均方根粗糙度为4.01 nm, 随温度的上升,膜表面质量会逐渐变差。 相似文献
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采用热蒸发气相沉积聚合方法(VDP)制备了聚酰亚胺(PI)薄膜,研究了设备、衬底温度、升温过程和单体配比因素对PI薄膜表面形貌的影响。利用干涉显微镜和扫描电镜对薄膜表面形貌进行了分析;利用原子力显微镜测定了薄膜表面粗糙度。结果表明:设定蒸发源-衬底距离为74 cm时可成连续膜;蒸发源采用一段升温和多段升温时,膜表面均方根粗糙度分别为291.23 nm和61.99 nm;采用细筛网可防止原料的喷溅;均苯四甲酸二酐和4,4′-二氨基二苯醚(PMDA和ODA)单体沉积速率比值为0.9∶1时,膜表面均方根粗糙度值可减小至3.30 nm;沉积衬底温度保持30 ℃左右时,膜表面均方根粗糙度为4.01 nm, 随温度的上升,膜表面质量会逐渐变差。 相似文献
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