钨/石墨烯/钨面向等离子体复合材料力学与热学及耐辐照性能衰减的第一性原理计算

通过第一性原理计算研究了钨/石墨烯/钨复合材料相比于纯钨金属在力学与热学性质方面的变化,并用氦原子-空位缔合缺陷模拟核聚变辐照损伤评估等离子体辐照条件下的性能。计算结果表明：钨/石墨烯/钨复合材料的体积弹性模量、杨氏模量与剪切模量呈现一定程度的下降,但是提升了钨基材料的延展性;钨/石墨烯/钨复合材料的热膨胀系数有所增加,但是具有较高的最小热导率。本文阐述了石墨烯界面层可以对基体杂质与缺陷进行吸附的独特机制,通过这种机制,钨/石墨烯/钨复合材料在力学、热膨胀系数以及最小热导率有更低程度的衰减,这显示了钨/石墨烯/钨复合材料在抗辐照性能方面具有较大的应用潜力。     

碲钨杂多酸—丁基罗丹明B超高灵敏显色反应的研究

聚乙烯醇存在下，碲与钨酸钠形成碲钨杂多酸，继而丁基罗丹明Ｂ形成离子缔合物。     

稀土元素1∶12系列钨硅杂多配合物的合成及性质

用复分解法合成了七种稀土元素Keggin结构钨硅杂多配合物:LnHSiW_(12)O_(40)·xH_2O。用ICP、~(29)SiNMR、XPS、XRD、IR.UV、极谱、CV和TG—DTA对它们进行了系统研究,并讨论了其结构和性质的关系。     

NH4Cl作助熔剂合成CaS：Ce的光谱特性及其浓度效应

以ＮＨ４Ｃｌ作助溶剂，碳还原硫酸钙的方法合成了ＣａＳ：Ｃｅ。在紫外光激发下，ＣａＳ：Ｃｅ中存在着Ｃｅ＾３＋的＾２Ｄ－＾２Ｆ５／２（５００ｎｍ）和＾２Ｄ－＾２Ｆ７／２（５５０ｎｍ）跃迁发射，但在蓝色光激发下，只有波峰为５３２ｎｍ半宽度为９２ｎｍ的宽带发射。当Ｃｅ＾３＋的浓度为０．０７５ｍｏｌ％时，＾２Ｄ－＾２Ｆ５／２跃迁发射强度与＾２Ｄ－＾２Ｆ７／２跃迁发射强度相等，而５３２ｎｍ发射猝灭。     

Strongly Correlated Effect in TiS2

The thermoelectric compound TiS2 is studied by using the full-potential linearized augmented plane-wave method on the density functional theory with the generalized gradient approximation （GGA） as well as the on-site Coulomb interaction correction （＋U）. The Seebeck coefficient of TiS2 is calculated based on the electronic structure obtained within the GGA under the consideration of the on-site Coulomb interaction. The calculated Seebeck coefficient at 300K shows that Coulomb interaction U in the range of 4.97-5.42eV is important to reproduce the experimental data. The obtained energy gap Eg around 0.05 eV indicates that TiS2 is an indirect narrow-gap semiconductor.     

格拉司琼与磷钨杂多酸相互作用的共振光散射及分析应用

在pH 2.2 BR缓冲介质中, 磷钨杂多酸(PTA)与格拉司琼(GSN)相互作用形成离子缔合物, 不仅引起吸收光谱的变化, 还导致共振散射光谱(RLS)的显著增强并产生新的RLS光谱, 最大RLS峰位于333 nm附近, 其RLS增强程度与格拉司琼浓度成线性关系, 检出限和线性范围分别为12 ng/mL和0.04～3.0 μg/mL。文中研究了反应产物的吸收和RLS光谱特征, 优化反应条件的影响, 据此发展了以磷钨杂多酸为光谱探针的灵敏、简便、快速测定格拉司琼的新方法。将方法用于血清中格拉司琼含量的快速定, 结果满意。讨论了离子缔合反应和RLS增强机理。     

橡胶硫化促进剂DZ合成工艺探讨

采用两步合成法制备橡胶硫化促进剂ＤＺ（Ｎ，Ｎ－二环己胺－２－苯并噻唑次磺酰胺），控制Ｍ钠盐与氯代二环乙胺的摩尔比为１，选择乙醇作有机溶剂，将缩合反应滴加Ｍ钠盐的温度控制在３０－３５℃，即可制得熔点在９０℃以上，溶程小于１℃，且收率近８０％的高品质ＤＺ产品。     

光泽精与钨（Ⅲ）的流动注射－胶束增敏化学发光反应

采用了Jones柱在线还原钨（Ⅵ）为钨（Ⅲ），详细研究了钨（Ⅲ）与光泽精的化学发光反应，加入乳化剂OP能明显提高发光的信噪比，基于此建立了痕量钨的流动注射化学发光分析法。该法线性范围为1×10－6～1×10－2 g·L－1, 检出限为5×10－7 g·L－1 , 相对标准偏差为2.0％（5×10－5 g·L－1, n=11）。文中还探讨了反应机理。