Deposition of Er：A12O3 Films and Photoluminescence Characteristics

Er^3 -doped Al2O3 films were deposited on silicon substrates by reactive closed-field unbalanced magnetron sput-tering. The process parameters, such as target bias voltage, substrate bias voltage, O2 gas flows, sputtering gas pressure, were studied. The 1.53μm photoluminescence characteristics from Er^3 were measured. The relations among the PL peak intensity, annealing temperatures, and pump power were experimentally investigated.     

溅射银超细微晶膜分析

采用真空溅射沉积技术在硅单晶Si（111）面上制备厚度约为18nm的银超细微晶膜（AgUFCP）．用掠入射X射线散射技术分析了AgUFCP的结构和膜与衬底Ag/Si（111）界面形态．用广角X射线衍射和径向分布函数探索了AgUFCP的半晶态结构特征．用差热扫描量热法检测分析了银超细微晶粒子的表面原子结构，揭示了超细微晶粒子表面生长的热动力学机理对表面壳层结构的温度依赖性． 关键词：     

克尔型非线性薄膜波导的TE模

对于芯区为克尔型非线性介质，覆盖层和衬底为线性介质的平板波导，用Ｋｒｙｌｏｖ－Ｂｏｇｏｌｉｕｂｏｖ－Ｍｉｔｒｏｐｏｌｓｋｙ的渐近法导出了色散方程及场分布的二阶近似数学表达式，计算量大为减少且结果精确。给出了对称和非对称情况的典型实例。     

YBCO薄膜中自旋极化准粒子的注入效应

采用Nd0 .7Sr0 .3MnO3/SrTiO3/YBa2 Cu3O7-δ的异质结构 ,研究了自旋极化准粒子的注入效应 .在 5 6 μm宽的YBCO膜条上成功地制备了与超导膜条同样宽度但不同长度的六个注入结区 ,长度L分别为 80 μm ,4 0 μm ,2 0 μm ,10 μm ,5 μm和 2 μm .80nm厚的YBCO薄膜在 16K温度下Jc 为 2× 10 5A/cm2 .Iin=0 .5mA的自旋电流注入下 ,随L从 80 μm逐渐顺次减小时 ,注入效率 η =ΔJc/ΔJin逐渐增大 .而当L≤ 2 0 μm后 ,η不再增加 ,达到几乎相同的值 (～ 6 ) .初步分析认为这与自旋极化准粒子在超导膜内的有效自旋扩散长度有关 .异质结构中YBCO薄膜的超导电性以及注入窗口的尺寸对获得大的自旋注入效率十分重要 .     

MR/PVA薄膜的SP和PP偏振存储特性的比较

用两正交偏振光(SP)和两P偏振光(PP)作为记录光(λ=532nm)，记录光的功率均为5mW，用He—Ne激光器632．8nm红光作为读出光，分别得到两种记录条件下甲基红掺杂聚乙烯醇薄膜(MR／PVA)样品的光栅生长曲线．发现用两P偏振光作为记录光时，光栅生长曲线分为快、慢2个过程；两正交偏振光作为记录光时，光栅生长曲线只有一个过程，前者的慢过程和后者过程的响应时间近于相同．     

极值法膜厚控制的误差分析及其改进设计

分析了光学薄膜厚度的极值控制法,并利用矩阵的方法给出了极值法膜厚控制误差。基于极值法膜厚控制的原理,利用由IC/5薄膜沉积控制器和晶震探头组成的反馈系统,控制蒸发速率的大小,光控的信号由可编程的计算机探测接收。分别对ZrO2/SiO2,膜料进行了两组交替镀制实验测试。结果表明,整个系统稳定性好,自动化程度高,膜厚控制精度在1 02%左右。     

电子助进热丝化学汽相沉积金刚石薄膜

以CH₄和H₂为源反应气体，利用电子助进热丝化学汽相沉积（CVD）技术，在Si（100）晶面衬底上成功地得到了织构生长的金刚石薄膜．用扫描电子显微镜、Raman光谱、X射线衍射等多种技术对薄膜的形貌、成分、晶态等特性进行了分析，得到了在热丝CVD实验条件下织构生长金刚石薄膜的最佳工艺条件． 关键词：     

超薄膜磁性材料上XY模型的临界现象

采用经典XY模型，阐明了三角格子上层状超薄膜磁性材料的相变和临界现象.并用Monte-Carlo方法对该模型的内部能量、比热、chirality等热力学量进行了计算.使用finite-size scaling 分析法对临界现象的性质进行了论述.通过上述分析和计算，发现该模型在反强磁性层与强磁性层内的chirality在一定范围内随温度的变化急剧增加，这是一种新的chirality相变；而在另一范围内存在Kosterliz-Thouless相变和通常的chirality相变.这种新的chirality相变的 关键词： 层状XY模型 临界现象 Monte-Carlo模拟 磁性薄膜     

一种新型椭偏测量实验 --塞曼激光外差椭偏仪

分析了大学物理实验中传统的消光式椭偏仪实验存在的问题，提出以一种新型外差式椭偏测量系统取代．结合塞曼激光外差干涉和反射式椭偏测量原理，给出了光学结构设计．系统中没有任何运动部件，也无需手动操作，实验过程自动化程度高，测量速度快．