电感耦合等离子体原子发射光谱法测定化妆品中砷、铅、汞

本文采用五氧化二钒作催化剂，HNO3－H2SO4消解法对化妆品前处理后，用电感耦合等离子体发射光谱仪同时测定砷，铅，汞，方法简便，快速，回收率在95％－103．5％之间，相对标准偏差不大于3％。     

微分中值定理ξ的变化趋势

本文采用文献［１］的方法得到了当区间的两个端点都趋向于其内一定点时，微分中值定理中ξ的变化趋势。     

一种新颖的测定和分析羟自由基氧化损伤RNA及其分子机理的化学发光体系

近年来，羟自由基（^.OH)对DNA氧化损伤已受到广泛关注，但是很少研究^.OH对RNA的氧化损伤。其实，RNA与DNA一样，也是核酸的两大组分之一，也有许多重要功能。所以^.OH攻击RNA也会引起重后果，会造成细胞功能衰退甚至细胞死亡等。为此，我们建立了Vit.C-CuSO4-Phen-H2O2-PNA这一产生和测定^.OH氧化损伤RNA的化学发光体系，以便加强^.OH氧化损伤RNA的研究。通过对本体系测定条件的研究，得出了本体系最佳组方是：Vit.C,CuSO4,Phen,H2O2和RNA，浓度分别为350μmol/L,55μmol/L,350μmol/L,0.2mol/L和20μg/mL,体系pH为5．5，体系终体积为1mL。随后，利用本体系检测了槲皮素，咖啡酸，黄芩甙和芦丁抗^.OH氧化损伤RNA的作用，发现这四种抗氧化剂均能有效抑制^.OH氧化损伤RNA的分子机理，结果发现，^.OH清除剂硫脲几乎抑制全部发光，推测是因硫脲清除了引发剂^.OH所致；O^-.2清除剂SOD只能抑制小部分发光；^1O2清除剂叠氮化钠和苯甲酸都能抑制绝大部分发光。这些事实提示，^.OH是RNA氧化损伤的引发剂；O^-.2只是导致RNA氧化损伤的次要因素，^1O2才是导致RNA氧化损伤的最主要因素。     

ICP—AES法测定合金钢及镍基合金中钨

本文对ICP－AES法测定合金钢及镍基合金中的钨进行了系统的研究。试验表明，钨400.875纳米不受钼400.867纳米线干扰，亦无其它光谱干扰，测量范围在0.2-2%时相对标准偏差不大于3.7%，准确度较好。经过对不同基体及不同组分标钢的测定，有13种标钢能够很好共线，证明钨的测定非光谱干扰基本可忽略不计。本方法化学处理简单，不需分离掩蔽等手段可直接测定。     

几种约束广义逆矩阵的有限算法

1引言与引理众所周知，关于非奇异方阵的正则逆的有限算法是由Faddeev大给在1949年之前提出的，这就是著名的Faddeev算法[1，P…334-336]。自从五十年代中期广义逆矩阵的研究复兴与发展以来，有不少学者提出了关于广义逆矩阵的有限算法。第一个给出关于广义逆矩     

扰动方法在胎次递进人口系统中的应用

本文中应用线性算子扰动理论研究了胎次递进人口算子在递进比的小扰动下对主本征值及相应本征元的影响，给出了主本征值及相应本征元的修正值主项所满足的公式．