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Iron trichloride as oxidizer in acid slurry for chemical mechanical polishing of Ge2Sb2Te5
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The effect of iron trichloride (FeC13) on chemical mechanical polishing (CMP) of Ge2Sb2Te5 (GST) film is inves- tigated in this paper. The polishing rate of GST increases from 38 nm/min to 144 nm/min when the FeC13 concentration changes from 0.01 wt% to 0.15 wt%, which is much faster than 20 nm/min for the 1 wt% H2O2-based slurry. This polish- ing rate trends are inversely correlated with the contact angle data of FeCl3-based slurry on the GST film surface. Thus, it is hypothesized that the hydrophilicity of the GST film surface is associated with the polishing rate during CMP. Atomic force microscope (AFM) and optical microscope (OM) are used to characterize the surface quality after CMP. The chemical mechanism is studied by potentiodynamic measurements such as Ecorr and Icorr to analyze chemical reaction between FeCl3 and GST surface. Finally, it is verified that slurry with FeCl3 has no influence on the electrical property of the post-CMP GST film by the resistivity-temperature (RT) tests. 相似文献
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DNA芯片的制备方法主要有离片合成法和在片合成法.离片合成是用点样法将DNA探针固定在基片上;在片合成是在基片表面直接原位合成寡核苷酸探针阵列.目前国外已有多种DNA芯片原位合成方法的报道,但其中仅Fordor等提出的光脱保护DNA固相原位合成技术已商品化,该方法制备成本高, 相似文献
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三氧化铬二吡啶、三氧化铬吡啶盐酸盐——两种有效的专用氧化剂 总被引:5,自引:0,他引:5
近年来,文献[1]陆续报道了多种能选择地将伯、仲醇氧化为醛和酮的专一氧化剂,例如四醋酸铅吡啶,铬酸叔丁酯,N氯代丁二烯亚胺,二甲硫醚,硝酸氨铈,三氧化铬的吡啶溶液,其中有些氧化剂制备较复杂,或是制备成本较高,使之应用范围较窄。而三氧化铬的吡啶溶液由于氧化醇时条件温和,产物分离方便,在近年来得到了广泛的应用,例在合成前列腺素和甾体的醛的中间体时,得到了几乎定量的产物。我们对三氧化铬吡啶溶液中最具代表性的氧化剂三氧化铬二吡啶及三氧化铬吡啶盐酸盐的合成、应用及氧化机理作了一些探讨。1 实验部分11 试剂和仪器文中所用试剂… 相似文献
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Secondary alcohols were catalytically oxidized with diace-toxyiodobenzene as oxidant in the presence of salen-Mn(Ⅲ)complex to aiTord the eorrespoltding ketones, in up to 99% yield, using CH2Cl2 or water as reaction media. 相似文献
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