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121.
由于目前常用的磁聚焦系统设计方法不能直接计算带有非轴对称开口磁环的磁系统,因此在行波管磁系统实验测试基础上,提出了双面带极靴的开口磁环体积等效概念:将开口磁环等效为相等体积磁性材料的2维轴对称磁环,两者都双面带极靴时轴上的磁场值相等。使用2维电磁计算软件FEMM计算了采用该等效模型后的周期磁聚焦系统的轴上磁场值,计算结果与带有开口磁环的实际系统测试值符合良好,两者相差仅3×10-3 T。该2维等效模型能代替开口磁环进行计算。 相似文献
122.
等熵轻质活塞风洞的管道中被压缩的气体是作为实验段的气源,在实验阶段,要求其压力维持恒值,称此压力为匹配压力,这一条件只有在忽略活塞质量的理想情况下才可实现,本文研究在实际情况下,即考虑活塞质量时,质量对匹配压力振荡的影响,从而得出活塞质量的选择范围。 相似文献
123.
利用NND有限差分格式,发展了一种新的完全隐式的有限体积数值方法,以求解与时间相关的N-S方程.对通过单元体界面的无粘流和粘性流通量均作隐式处理.对绕流钝锥体和不同攻角的气动辅助实验飞行器的高超声速粘性流和化学反应流获得了定常数值解.对流加热率和流场电子密度的计算值与实验数据进行了比较,符合较好,证实了本方法的精确性. 相似文献
124.
利用精密数字密度计测定了298.15K氯化氯化铵在N,N-二甲基甲酰胺(DMF)-水混合溶剂中的密度,计算了氯化钾及氯化铵的表观摩尔体积和极限偏摩尔体积,得到了相关离子的极限偏摩尔体积V′I^0和迁移偏摩尔体积△tV′i0,结果表明,当DMF浓度为15%-45%时,K^ 和NH4^ 的极限偏摩尔体积均表现增加趋势,而Cl^-的极限偏摩尔体积在同一DMF浓度范围内则表现为逐渐减小,利用溶质-溶剂和溶剂-溶剂相互作用对结果进行了讨论。 相似文献
125.
研究了一种空气槽光子晶体微腔,这种腔是由在平板型光子晶体上引入一条宽度可以调节的线缺陷空气槽形成的.腔模的电场被强烈局限在空气槽中,由于介电常量的不连续性,电场得到很大的提高,同时模体积被大大地降低.数值模拟与分析了微腔的能带结构和场分布,考虑到腔模的谐振频率和对称性,发现一阶偶膜同时具有较高的品质因子和较小的模体积;应用有限时域差分法,得到腔模的品质因子可以高达106,模体积仅为0.02(λ/n)3.计算了一阶偶模谐振波长随空气槽宽度以及空气孔半径的变化,发现随着宽度的增加,波长越来越短.而随着空气孔半径的增加,波长近似线性地减小;当空气孔半径为170 nm时,可以获得最高的腔品质因子. 相似文献
126.
基于任意形状颗粒集合的二值图像,提出了估计其体积(或质量)的方法.首先利用发光背景台面获取的颗粒灰度图像变换为相应的二值图像,得到颗粒的边界轮廓.然后再基于其边界信息,定义与颗粒形状特征相关的描述量,并将其无量纲化.将由此定义的无量纲参变量作为回归变量建立一个多元线性回归(multiple linear regression)模型用以估计颗粒集合的扁平度,进而估算颗粒体积.回归变量的系数由随机采样的501个样本颗粒(尺寸范围为4.75~25 mm)用误差最小平方和求得.将模型应用于由具有相似统计分布特征的其他颗粒集合,并将得到的体积估计值与其体积真实值相比较,实验结果显示模型的相对误差在±2%以内. 相似文献
127.
厚胶光刻非线性畸变的校正 总被引:3,自引:0,他引:3
利用厚胶光刻技术制作大深度微结构元件是一种有效的途径,但厚胶光刻过程中的非线性畸变对光刻面形质量的严重影响限制了该技术的应用,基于此,提出了一种对掩模透射率函数进行校正的方法。分析空间像形成及其在光刻胶内传递、曝光、显影等过程中非线性因素的影响,利用模拟退火算法对掩模透射率函数进行校正,以提高光刻面形质量,并以凹面柱透镜为例,给出了校正前后的显影轮廓模拟结果,其校正后浮雕面形的体积偏差仅为2.63%。该方法在有效改善面形质量的同时,并没有引起掩模的设计、制作难度及费用增加,这对于设计、制作高质量的微结构元件有重要意义。 相似文献
128.
根据国内激光惯性约束聚变研究对氘氚微球靶的更高要求,新研制了一套能制备15.0MPa氘氚玻璃微球靶系统,结构见图1。 相似文献
129.
为了提高固态体积式真三维立体显示器的显示亮度,根据方棒照明系统的特点,设计了一种基于直流驱动、平行光出射的双灯照明系统。该设计根据光学扩展量守恒原理,提出了一种通过延长投影光源汇聚距离的方法以实现双灯照明。通过光学仿真分析,对设计的双灯方棒照明系统进行优化,提高方棒照明系统的光能利用率和照明均匀性。搭建实际系统,并进行了测试。测试结果表明:采用双灯直流汞灯照明后,2层散射态光阀后的成像亮度为41 711 cd/m2,是单灯的1.4倍,有效提高了固态体积式真三维显示器的成像质量。 相似文献
130.