荷兰聚合物研究所(Dutch Polymer Institute)——学院与工业间的战略联盟

在 8 0年代 ,工业与高等院校的接触和协作研究在荷兰已是常见的现象。事实上过去有些创造发明是源于各个荷兰大学院校的聚合物研究室组。然而 ,聚合物科学与技术的规模在荷兰高校里尚未能反映出这一领域在荷兰工业与社会中的重要性。鉴于荷兰聚合物制造工业在经济上日益成为主要的组成部份 ,而荷兰高校的聚合物研究仅局限于新的特殊聚合物和高级的纤维 复合材料 ,对主要领域如涂层和弹性体等均未覆盖的原因 ,遂于 1 997年成立荷兰聚合物研究所 (ＤＰＩ)作为荷兰聚合物制造和加工工业与荷兰公共内政机构 ,即高校与ＴＮＯ组成在荷兰政府强力支…     

新书介绍

《铝及铝合金标准汇编》分上、下两册，上册主要收集了截止于2004年8月国家质量监督检验检疫总局和国家标准化管理委员会及中国有色金属工业协会发布的有关铝生产基础标准、化学分析方法、理化性能试验方法标准，其中国家标准163项，行业标准33项；下册主要收集了截止到2004年8月相关部门发布的有关铝及铝产品标准，其中国家标准46项，行业标准38项，上册170元，下册110元。     

日本工业标准中对超声诊断仪器的强度限制

日本对工业产品的工业标准(JIS)是国家标准.下列超声诊断仪器的强度标准是在1984年由工业部和卫生部公布的.     

狭长CsI(Tl)闪烁体发光效率的研究

提出了基于狭长CsI（Tl）闪烁体和面阵CCD器件,采用光纤和光纤面板进行光耦合及传输,以扇形束线阵扫描方式实现对X射线探测与成像的工业X-CT系统探测器方案.基此,通过物理分析及数学建模,利用Matlab模拟研究了X光能量小于450 keV时狭长CsI（Tl）闪烁体的发光效率等性能指标.研究结果表明：当光电吸收截面μph和康普顿吸收截面μc分别为0.000313和0.0000295、反射层反射系数R和衬底反射系数Rs分别取0.95和0.8、荧光线性吸收系数σ取0.000222 μm－1时,得到狭长CsI(Tl)闪烁晶体的长度l、高度h和宽度w取值范围分别是926～4512 μm、242～5000 μm和242～5000 μm的结论.在此范围内,既可使闪烁晶体有较好的空间分辨率又可获得最高的发光效率.     

一种新的二维CT扫描方式及其重建算法

介绍了一种二维CT扫描方式及其重建算法。它是一种利用近轴X光线,针对大型回转试件的二维CT检测方法。被扫描试件依次绕与探测器平行的多个旋转中心各旋转一周。在旋转过程中,射线源在周向均布的多个角位置发射射线,同时探测器接收射线并记录投影数据。同传统的二代CT相比,对一个具体例子的计算表明,它可以节约3/4的扫描时间。计算机仿真表明了这种扫描方式和重建算法的可行性。     

RT二维CT扫描的精确重建

基于多个旋转中心的旋转/平移扫描方法(RT扫描)可利用近轴X射线对大型回转试件进行二维CT检测。同传统的二代CT平移/旋转扫描(TR)相比,RT二维CT扫描的扫描时间是TR二维CT扫描时间的1/3。但由RT二维CT扫描插值全局重建的图像,在物体内部,其特征边缘有明显的伪影。采用一种精确的分区域重建方法可消除这种伪影。计算机仿真验证了这种重建算法的可行性。     

FeOCl层状材料及其插层化合物:结构、性质与应用

氧基氯化铁(FeOCl)是一种典型的Fe基层状材料,于20世纪30年代被发现,并于20世纪70年代起作为一种优异的插层主体在超分子插层化学领域进行了大量的研究.FeOCl的层状结构赋予了其远比传统铁(氢)氧化物更加灵活的调变空间,自2013年第一次发现FeOCl具有优异的固体Fenton活性以来,围绕FeOCl及其插层...     

内蒙古部分行业大中型工业企业经济发展情况综合分析

本文利用熵权法和广T关联度法对内蒙古部分大中型工业企业经济发展情况进行了量化分析综合评价和排序。     

V-P-O/SiO2催化剂上表面氧性质的研究

 用浸渍法制备了组成为V2O5∶P2O5∶SiO2=20∶x∶100(x=0~60,质量比)的V-P-O/SiO2催化剂,用TPR, IR和TPD法测定了苯和氧在催化剂表面的吸附,在无气相氧和吸附氧存在的条件下用连续TPD方法测定了苯化学吸附与催化剂表面活性端基氧之间的关系. 发现V-P-O/SiO2催化剂对苯的吸附至少有四种吸附中心,但有两种吸附中心是不具有催化活性的,一种对应于苯的物理吸附,而另一种则被CO2所占据.V-P-O/SiO2催化剂表面上氧的吸附随催化剂中P2O5含量的增加而增加,而苯的化学吸附随催化剂表面活性端基氧的增加而增加.     

铈对铁系无铬变换催化剂还原的影响

以XRD,TPR,SEM,XPS为手段了含Ce铁系无铬变换催化剂的还原过程,在氧化态样品中,Ce有细化颗粒的作用,在还原过程中,Ce有表面富集现象,从而使初始还原温度降低而还原结束的温度升高。