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1.
采用交流法测量大功率商用钛酸钡(BT)陶瓷加热器的电阻和加热功率随温度的变化关系.结果显示,BT陶瓷的电导特性在80℃附近出现了明显的转变,从低温时的极化子跳跃导电转变为高温时的能带导电,此时,电阻出现极小值,而加热功率出现极大值. 相似文献
2.
对射频反应性溅射Cd-In合金靶制备的透明导电CdIn2O4薄膜,研究了基片温度及沉积后在氩气流中退火对薄膜的透射、反射和吸收光谱,光学常数和载流子浓度的影响。结果表明:提高基片温度减少了薄膜的载流子浓度,退火增加了薄膜的载流子浓度。随着基片温度提高,薄膜折射率n和消光系数κ的短波峰将逐渐蓝移,而退火使其出现红移。基片温度和退火对薄膜光学常数的影响与其对薄膜载流子浓度的影响是一致的。在制备CdIn2O4这样一种对于沉积方法和沉积条件极为敏感的透明导电薄膜的沉积过程中,这一现象对于实时监控具有极为重要的意义。 相似文献
3.
利用机械合金化制备纳米Zr-V粉末,对制备过程的材料进行物相分析和热分析试验。初始粉末Zr(150μm)和V(150μm)元素粉末(纯度99.15%)按原子比1:2或1:1进行混合后在氩气气氛中放入SimoloyerCMol—2球磨仓中,按几种不同的试验条件进行球磨。同时在997K和1047K下热处理40min和1h,并对热处理前后的粉末进行了物相和TG-DSC实验分析。 相似文献
5.
第一讲中子散射与散裂中子源 总被引:1,自引:0,他引:1
中子散射是研究物质微观结构和动态的理想工具之一,广泛地应用于凝聚态物质研究和应用的众多学科领域.散裂中子源能是新一代的加速器基脉冲中子源,能为中子散射提供高通量的脉冲中子.文章简明地介绍了中子散射的特点和它作为物质结构和动态探针的优越性,以及散裂中子源的基本原理、发展状况和多学科的应用优势.我国计划建设的散裂中子源CSNS中,靶站将由多片钨靶、铍/铁反射体和铁/重混凝土生物屏蔽体组成.质子束功率100kW下,脉冲中子通量约为2.4×1016n/cm2/s.第一期将设计建造高通量粉末衍射仪、高分辨粉末衍射仪、小角散射仪、多功能反射仪和直接几何非弹性散射仪等五台典型的中子散射谱仪,以覆盖大部分的中子散射研究领域. 相似文献
6.
7.
实验研究了Bi-2212粉末在空气,8%O2和纯O2种处理的相组成特征,指出通过改变热处理温度和气氛可控制前驱粉中对2223成相影响较大的(Bi,Pb)-2212相,Ca2PbO4相,2201相和14:24AEC等相。 相似文献
8.
QIC-160等静压机自动控制系统的设计与实现 总被引:1,自引:0,他引:1
QIC-160等静压机是20世纪80年代初引进的国外成套大型设备,主要用于粉末成型产品的压制。设备最高工作压力达200MPa,温度可达120℃。设备从引进到现在已经20多年了,电器元件也已老化,鉴于该设备现在液压系统及主体运行还基本正常,故对原设备控制系统进行了设计更新。 相似文献
9.
液晶显示器用导电粉的形状、尺寸及偏差对于液晶显示屏的质量控制来说是非常重要的。论述了液晶显示器(LCD)用导电粉的作用和性能要求。给出了液晶显示器用导电粉的扫描电镜图像。该图像对观测导电粉的粒径分布、导电粉在导电点中的浓度和分析导电点缺陷、提高液晶显示器的产品质量具有一定的意义。 相似文献
10.
Instability of longitudinal wave in magnetized strongly coupled dusty plasmas is investigated. The dust chargigrelaxation is taken into account. It is found that there exists threshold of interdust distance for the instability of wave, which is determined significantly by the dust charging relaxation, the coupling parameter of high correlation of dust as well the strength of magnetic field. 相似文献