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73.
用 INDO系列方法研究 C60 (OH) 88种异构体的结构和光谱 ,探讨羟基不同加成位置对异构体稳定性的影响 ,表明 8个羟基以 1,2 -加成方式加在 C60 的五元环与六元环相邻棱上所得的异构体最稳定 ,其生成热比次稳定异构体低 2 5 e V,故实验室合成的 C60 (OH) 8主要以这种构型存在。以优化构型为基础 ,计算了 8种异构体的 UV谱 ,对电子跃迁进行理论指认 ,讨论产物 UV谱带红移的原因 ,对反应机理进行探讨 ,并对 C60 R8(R=F,OH,Cl)的某些性质进行了对比。 相似文献
74.
采用拉曼光谱方法和光学二次谐波方法,观察蒸镀在石英玻璃上的C60薄膜在空气中的变化,根据实验中观察的C60薄膜1469cm^-1拉曼谱的演变情况,结合二次谐波的测量结果,初步推断C60分子发生了聚合反应和氧化反应。 相似文献
75.
高硅分子筛ZSM-23的合成及表征 总被引:1,自引:0,他引:1
采用静态水热晶化法以吡咯烷为模板剂,合成出结晶度良好的ZSM-23分子筛晶体.对合成条件的研究结果表明,合成的关键是避免ZSM-35分子筛的生成.当n(Si)/n(Al)=25~110,n(H20)/n(SiO2)=1.3~4.8,n(pyr.)/n(SiO2)=0.12~0.5时,均能稳定生成ZSM-23分子筛晶体.当n(Si)/n(Al)>110时,不能得到分子筛晶体;当n(Si)/n(Al)<25时,生成的是ZSM-35分子筛晶体.采用XRD,SEM,TG-DTA,FTIR等技术,对合成的ZSM-23分子筛晶体的形貌,以及影响分子筛合成的因素进行了详细的研究. 相似文献
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77.
采用TEA CO_2激光器研究了1,4-二氧六环、吡咯烷和噻吩等杂环化合物的红外多光子解离过程,探讨了解离机理,给出解离率与激光能流的关系。解离阈值分别为0.85、1.0、1.5J/cm~(-2)。 相似文献
78.
C60(OH)x的简便合成及性质 总被引:6,自引:1,他引:6
C_(60)(OH)_x的简便合成及性质孙大勇,刘子阳,郭兴华,佘益民,周雨,刘淑莹(中国科学院长春应用化学研究所应用谱学开放实验室,长春,130022)关键词C_(60),水溶性富勒醇,钾,不稳定性,溶解度水溶性C60化合物的合成及性质研究作为C60?.. 相似文献
79.
C60吡咯烷羧酸衍生物的合成及其清除超氧阴离子自由基(O )的活性 总被引:3,自引:0,他引:3
亚氨基二乙酸酯(NH(CH2COOR)
2 ,R=Me、Et、t-Bu)与C60的光化学反应制得C60吡咯烷衍生物2,产率为 55%~36%
(基于已反应的C60),反应活性与R基的空间效应有关,反应活性的顺序为R=Me>Et>t-Bu.
C60吡咯烷衍生物2(R=Me)用NaH、CH3OH水解后,经盐酸酸化得相应的羧酸衍生物3,产率为65%(基于C60吡咯烷衍生物2).
C60吡咯烷衍生物2和3的结构为1H NMR、13C NMR、IR和元素分析所证实.
用化学发光法检测了C60羧酸衍生物3对邻苯三酚自氧化产生的超氧阴离子(O2-·)的清除效果.
结果表明,C60羧酸衍生物3能有效地清除O2-· ,并且有明显的量效关系.
当C60羧酸衍生物3浓度为0.3 mmol/L时,清除效率可达70%.
讨论了结构因素对C60衍生物清除活性的影响. 相似文献
80.
C60羟基化合物的合成与应用 总被引:5,自引:1,他引:5
简要回顾了C60发展十多年来在C60羟在化合物的应用及合成方面取得的进展,对一些具有潜在应用前景的研究方向加以介绍。 相似文献