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181.
HZSM-5沸石上焦化苯的精制脱硫 总被引:5,自引:0,他引:5
研究了用ZSM-5沸石催化脱除焦化苯中噻吩的方法。通过对不同温度下噻吩在ZSM-5沸石上的吸附和反应的考察以及红外光谱表征,发现在较低温度下,噻吩通过氢键可逆地吸了会在酸性中心上,吸附在强B酸中心上的噻吩则部分发生反应生成类似硫醇和硫醚的物种,随着温度的提高,一些不稳定的硫化物分角,并伴有H2S气体的生成。 相似文献
182.
Ping LIU Wan Zhang PAN Ming Sheng HUANG Wen Ji DENG 《中国化学快报》2006,17(7):903-906
Organic photovoltaic devices have attracted a great attention because of their light weight and processability, and the ease of material design on the molecular level. There are a number of reports on organic photovoltaic devices using a variety of dyes1-… 相似文献
183.
热处理对聚噻吩结构性质的影响 总被引:1,自引:0,他引:1
用WAXS、FTIR、TGA方法研究了在氮气和空气中热处理聚噻吩(PT)某些结构性质.氯仿不溶分子量较高样品(PT_2)热稳定性高于氯仿可溶低分子量样品(PT_1).PT_2在氮气中380℃热处理30分钟,结晶度和相干长度都明显增加,可获得多于11个结晶衍射线.PT_1只能在较低温度下热处理,晶性无明显改善.结晶度低分子量大的样品,有利于掺杂进行.掺杂后得到较高的导电率.给出了热处理及掺杂前后的FTIR谱的解释与归属,热处理后688、831-833cm~(-1)明显减弱;经掺杂后出现了五个新吸收带:1016-1024、1105-1110、1196-1201、1323和1632cm~(-1). 相似文献
184.
185.
186.
以5-氯-2-甲基-3-乙酰基噻吩和二苯氨基苯甲醛为原料,经Aldol反应、Michael反应及McMurry反应,将光致变色单元和三苯胺基团结合起来,合成了三种二噻吩乙烯类光致变色化合物1a~1c,并通过MS,1H NMR和13C NMR对其结构进行了表征.与以往主要从两侧噻吩环引入不同功能性基团的研究不同,本文将具有荧光性的三苯胺基团通过单键桥连至环戊烯β位上,在保持光致变色反应活性的同时,也避免其它功能性基团对二噻吩乙烯骨架的影响.通过紫外-可见吸收光谱和荧光光谱研究了其在溶液及聚甲基丙烯酸甲酯薄膜中的光致变色性能和荧光性能.在302 nm紫外光照射下,1a~1c的溶液和薄膜由无色变为黄色,并能快速达到光稳态;用450 nm蓝光照射时,能在较短时间内恢复至无色.在紫外光的激发下,1a~1c的最大荧光发射波长随着取代基R供电子效应的增强而增大;1a~1c在正己烷、甲苯和乙酸乙酯中具有较强的荧光,在乙腈中荧光较弱,而在氯仿中几乎没有荧光.在302 nm紫外光照射下,1a~1c的三苯胺基团和二噻吩环戊烯基团之间发生荧光共振能量转移,其荧光强度随着光照时间的延长逐渐降低,表明其具有作为荧光分子开关的潜力. 相似文献
187.
针对有机光致变色材料实际应用中存在的光量子产率低,抗疲劳性差,记录信息在读取后遭到破坏等瓶颈问题,本文以2-甲基噻吩为原料,经过卤代、傅克酰基化、Mc Murry环合和Suzuki偶联反应得到的1-(5-氯-2-甲基噻吩-3-基)-2-(5-吡啶基-2-甲基噻吩-3-基)-环戊烯与锰(Ⅱ)-四苯基卟啉反应合成了吡啶基二噻吩乙烯轴向配位锰(Ⅱ)-卟啉化合物,通过紫外可见(UV-Vis)吸收光谱研究了其光致变色性能和抗疲劳性,并结合荧光光谱对无损读取功能进行了探究。实验结果表明,该化合物具有良好的光致变色性能及优良的抗疲劳性,通过波长为254、490和550 nm的光调控可无损地实现信息的写-读-擦过程,该物质有望应用于二进制存储设备中。 相似文献
188.
改性Y型分子筛的吸附脱硫性能以及苯,萘对吸附的影响 总被引:2,自引:0,他引:2
采用离子交换法制备了经金属离子改性的Y型分子筛吸附剂, 并用XRF, XRD, XPS对吸附剂的化学组成, 晶相结构等进行了表征. 以含噻吩, 苯并噻吩的辛烷溶液为模型燃料考察了吸附剂的吸附脱硫性能以及苯, 萘对脱硫的影响. 结果表明, Cu(Ⅰ)Y, CuZnY具有较大的吸附容量, 而苯对苯并噻吩吸附脱除性能几乎没有影响, 但对噻吩的吸附性能影响较大, 萘对苯并噻吩和噻吩的脱除都有较大的抑制作用. 并由此推测, 吸附剂与苯并噻吩或萘的结合比噻吩或苯更紧密, 吸附的机理是π络合. 相似文献
189.
在pH=5.2的(CH2)6N4-HCl底液中,以噻吩三氟甲酰丙酮/邻菲罗啉(HTTA/phen)混合物修饰电极电解预富集200s后用石墨炉原子吸收法进行铕(Eu)的测定。工作曲线范围0.29 ×10-8~5.9 ×10-8mol/L(Eu),相对标准偏差(RSD)为5.26%。Eu检出限(CL)可达到5.9×10-10mol/L,是HTTA修饰电极预富集的63.5%,比采用热解涂层石墨管(PGT)直接测量的文献报道值低两个数量级,是钽涂层石墨管(TaPGT)测量方式的1/20。将两种试剂以适当浓度混合,在预富集过程中形成三元混配络合物,使测量灵敏度和选择性都有一定提高,常见高子不干扰测定,并可显著改善其它稀土元素存在对测定的干扰。 相似文献
190.