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本文研究线性特征值问题Aφ-λBφ=0,其中A、B为线性对称运算子且B正定,提出了能够求得特征近似值,同时求得其上下限的广义最小二乘法,证明了特征值上下限定理,导出了特征值的第一上限、第一下限、第二上限、第二下限。本文方法可以求解微分方程的特征值及微分方程组的特征值、矩阵特征值等问题,后两类问题的两个算例结果精度很高。 相似文献
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Wu Shengjian 《数学年刊B辑(英文版)》1994,15(4):453-462
Suppose that f(z)is a meromorphic function of order λ(0<λ<+∞)and of lower order μ in the plane.Let ρ be a positive number such that μ≤ρ≤λ.(1)If f^(l)(z)(0≤l<+∞)has p(1≤p<+∞)finite nonzero deficient valnes αi(i=1,…,p)with deficiencies δ(αi,f^(l)),then f(z)has a (0,∞)accumulative line of order ≥ρin any angular domain whose vertex is at the origin and whose magnitude is larger than max(π/ρ,2π-4/ρ ∑i=1^p arcsin √δ(αi,f^(l))/2).(2)If f(z) has only p(0<p<+∞)(0,∞),accumulative lines of order≥ρ:arg z=θk(0≤θ1<θ2<…<θp<2π,θp+1=θ1+2π),then λ≤π/ω,where ω=min I≤k≤p(θk+1-θk),provided that f^(l)(z)(0≤l<+∞)has a finite nonzero deficient value. 相似文献
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首先利用Lagrange对偶 ,将球约束凸二次规划问题转化为无约束优化问题 ,然后运用单纯形法求解无约束优化问题 ,从而获得原问题的最优解 相似文献
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Fabrication and Characterization of Ni Thin Films Using Direct-Current Magnetron Sputtering 总被引:1,自引:0,他引:1 下载免费PDF全文
Ni films are deposited by using ultra high vacuum dc magnetron sputtering onto silicon substrates at room temperature, and the high-quality and high-density films are prepared. The parameters, such as thickness, density and surface roughness, are obtained by using small-angle x-ray diffraction (XRD) analyses with the Marquardt gradient-expansion algorithm. The deposition rate is calculated and the Ni single layer can be fabricated precisely. Based on the fitting results, we can find that the surface roughness of the Ni films is about 0.7nm, the densities of Ni films are around 97% and the deposition rate is 0.26nm/s. The roughness of the surface is also characterized by using an atomic force microscope (AFM). The changing trend of the surface roughness in the simulation of XRD is in good agreement with the AFM measurement. 相似文献
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利用102MeV的^28Si束流,通过^60Ni(^28Si,2pn)熔合蒸发反应布居了^85Zr核的高自旋态,测量了γ-γ符合及DCO比值,建立了一个有43条能级,75条γ跃迁的能级纲图,新增加了36条γ跃迁,25条能级。将能级自旋推高到(49/2^ ),首次观察到了转边带的第二回弯。并确认了一条建立在17/2^-负字称带上的磁转动带。 相似文献