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71.
药用植物化学分类法与红外指纹图谱的相关性研究 总被引:27,自引:6,他引:21
本文首次采用傅里叶变换红外光谱法(FTIR)对五加科、桔梗科、木兰科、樟科、豆科、蕨类等科目中的典型药用植物进行了系统研究,比较了各科内植物的异同,并且讨论了相同植物不同药用部位、不同采药时间对其红外谱图的影响。结合药典中关于药物主体有效成分的记载,分析了各药用植物谱图中主要成分的特征基团,对主要吸收峰进行了指认。在传统形态比较分类方法的基础上,FTIR可以成为一种快速、可靠、客观、有效的化学分类学的补充方法。 相似文献
72.
为了更好地理解和应用样本分位数的极限分布,利用Slutsky定理,推导了样本分位数的极限分布. 相似文献
73.
近年来,羟自由基(^.OH)对DNA氧化损伤已受到广泛关注,但是很少研究^.OH对RNA的氧化损伤。其实,RNA与DNA一样,也是核酸的两大组分之一,也有许多重要功能。所以^.OH攻击RNA也会引起重后果,会造成细胞功能衰退甚至细胞死亡等。为此,我们建立了Vit.C-CuSO4-Phen-H2O2-PNA这一产生和测定^.OH氧化损伤RNA的化学发光体系,以便加强^.OH氧化损伤RNA的研究。通过对本体系测定条件的研究,得出了本体系最佳组方是:Vit.C,CuSO4,Phen,H2O2和RNA,浓度分别为350μmol/L,55μmol/L,350μmol/L,0.2mol/L和20μg/mL,体系pH为5.5,体系终体积为1mL。随后,利用本体系检测了槲皮素,咖啡酸,黄芩甙和芦丁抗^.OH氧化损伤RNA的作用,发现这四种抗氧化剂均能有效抑制^.OH氧化损伤RNA的分子机理,结果发现,^.OH清除剂硫脲几乎抑制全部发光,推测是因硫脲清除了引发剂^.OH所致;O^-.2清除剂SOD只能抑制小部分发光;^1O2清除剂叠氮化钠和苯甲酸都能抑制绝大部分发光。这些事实提示,^.OH是RNA氧化损伤的引发剂;O^-.2只是导致RNA氧化损伤的次要因素,^1O2才是导致RNA氧化损伤的最主要因素。 相似文献
74.
两水相体系中聚乙二醇浓度的测定 总被引:2,自引:0,他引:2
1 引言 利用两水相体系作为生物反应器进行生物转化反应,或者提取生物大分子,近年来受到国内外关注。聚乙二醇(PEG)-葡聚糖(Dextran)是最常用的两水相体系,在实际应用中,了解上下两相的组成是十分必要的,因此,建立合适的测定两水相体系的方法是研究和应用两水相体系的基础工作。本文用分光光度法测定PEG 相似文献
75.
利用傅里叶变温红外光谱仪分别测定了三羟甲基甲胺(TAM)、季戊四醇(PE)及其二元体系变温红外谱。实验表明,多元醇分子中羟基吸收峰随温度升高耐发生位移向高波数移动,此结果既能反映多元醇及其二体系固-固相变的温度区间,又与转变热相对应,从而揭示了多元醇及其二元体系固-固相变贮热的机理。 相似文献
76.
本文首次报道须在两种金属离子同时作用下的振荡反应——KBrO_3-CH_3CH(NH_2)CO_2H-MnSO_4-[Fe(phen)_3]SO_2-H_2SO_4体系的振荡反应,对反应产物作了分析,研究了两种金属离子在振荡反应中的不同作用,Mn~(2+)起催化氧化丙氨酸以产生丙酮酸的作用,而[Fe(phen)_3]~(2+)则是丙酮酸-BZ型反应的催化剂.研究了温度变化对振荡反应的影响,从而得出振荡反应各阶段的表观活化能.考察了Cl~-、自由基抑制剂及反应物浓度对振荡反应的影响.实验证明,振荡反应同时受Br~-及Br_2的控制,振荡机理与Br_2-水解控制模型相同. 相似文献
77.
本文报道了一种测角单晶NMR探头。该探头采用单线圃双调谐电路,工作频率在90MHz-110 MHz连续可调,可进行交叉极化大功率去耦实验。文中提出了一种简单而有效的测角装置,可使单晶绕三个互相垂直轴转动实现单晶的NMR测量。作为典型的应用例子,本文利用该探头实现了单晶DGO(2NH2CH2COOH·H2C2O4)屏蔽张量的测量。 相似文献
78.
在微波放电系统中,对NH_3-F-F_2-CF_3I体系进行研究,结果表明,向IF(X)传能的诸多媒介中,N_2(A)及N(~2D)起着主要作用,并且这一结论在经微波激发后的N_2与CF_3I的直接反应中得到了进一步证实。 相似文献
79.
Low-Temperature Growth of Polycrystalline silicon Films by SiCl4/H2 rf Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition 总被引:4,自引:0,他引:4 下载免费PDF全文
Polycrystalline silicon film was directly fabricated at 200℃ by the conventional plasma enhanced chemical vapour deposition method from SiCl4 with H2 dilution. The crystallization depends strongly on the deposition power.The maximum crystMlinity and the crystalline grain size are over 80% and 200—50Onm, respectively. The results of energy dispersive spectroscopy and infrared spectroscopy measurements demonstrate that the film is mostly composed of silicon, without impurities such as Cl, N, C and bonded H. It is suggested that the crystallization at such a low temperature originates from the effects of chlorine, i.e., in-situ chemical, etching, in-situ chemical cleaning, and the detachment of bonded H. 相似文献