全文获取类型
收费全文 | 251篇 |
免费 | 145篇 |
国内免费 | 124篇 |
专业分类
化学 | 155篇 |
晶体学 | 32篇 |
力学 | 12篇 |
综合类 | 5篇 |
物理学 | 316篇 |
出版年
2024年 | 2篇 |
2023年 | 12篇 |
2022年 | 6篇 |
2021年 | 13篇 |
2020年 | 8篇 |
2019年 | 17篇 |
2018年 | 12篇 |
2017年 | 16篇 |
2016年 | 15篇 |
2015年 | 25篇 |
2014年 | 33篇 |
2013年 | 34篇 |
2012年 | 27篇 |
2011年 | 25篇 |
2010年 | 18篇 |
2009年 | 22篇 |
2008年 | 19篇 |
2007年 | 24篇 |
2006年 | 25篇 |
2005年 | 24篇 |
2004年 | 20篇 |
2003年 | 14篇 |
2002年 | 21篇 |
2001年 | 8篇 |
2000年 | 8篇 |
1999年 | 10篇 |
1998年 | 10篇 |
1997年 | 14篇 |
1996年 | 6篇 |
1995年 | 9篇 |
1994年 | 6篇 |
1993年 | 5篇 |
1992年 | 3篇 |
1991年 | 4篇 |
1990年 | 2篇 |
1989年 | 1篇 |
1988年 | 2篇 |
排序方式: 共有520条查询结果,搜索用时 15 毫秒
21.
22.
采用Ar^ 离子溅射源进行XPS和AES剖面分析,结果发现,Ar^ 对MoS2分子中的S原子产生“择优”选择刻蚀并随之生成非化学计量比的MoSx,Mo原子被还原,Mo3d结合能值向低端位移约1.7eV。应该注意的是,采用Ar^ 溅射进行XPS剖面分析时不能确定材料表面和界面元素的化学价态,S/Mo原子比同实验值之间亦存在差异,故应采用有关软件对实验结果进行修正。 相似文献
23.
24.
Theoretical Analysis of Interference Nanolithography of Surface Plasmon Polaritons without a Match Layer
下载免费PDF全文
![点击此处可从《中国物理快报》网站下载免费的PDF全文](/ch/ext_images/free.gif)
Interference nanolithography techniques based on long-range surface plasmon polaritons (LR-SPP) are hardly ever achieved by experiments at present. One key reason is that suitable liquid materials are difflcult to find as the match layer connects the metal film and the resist. We redesign a Kretschmann-Raether structure for interference lithography. A polymer layer is coated under the metal film, and an air layer is placed between the polymer layer and the resist layer. This design not only avoids the above-mentioned question of the match layer, but also can form a soft contact between the polymer layer and the resist layer and can protect the exposure pattern. Simulation results confirm that a device with an appropriately thick polymer layer can form high intensity and contrast interference fringes with a critical dimension of about λ/7 in the resist. In addition, the fabrication of the device is very easy. 相似文献
25.
自行设计研制了一台微波电子回旋共振等离子体刻蚀系统。该系统采用微波直接通过石英窗口产生右旋圆极化波,由Nd—Fe—B永磁磁钢形成高强磁场,通过共振磁场区域内的电子回旋共振效应产生均匀的高密度等离子体。利用该系统,结合光刻技术和反应离子束刻蚀技术,在以碳氢(CH)等元素为主要组成的有机聚合物(PMMA)表面制备出线宽3-4μm的光栅形图形。原子力显微镜(AFM)测试结果表明,所得图形线条清晰,侧边比较陡直。 相似文献
26.
27.
采用电化学刻蚀方法,成功制备出单尖的六硼化镧、钼、钨及钨铼合金场发射冷阴极尖锥,并对这几种场发射单尖锥阴极的电子发射性能进行了测试比较.结果表明,LaB6作为场发射阴极,具有良好的发射性能和稳定性.在〈111〉面单晶LaB6基片上,用PECVD法沉积非晶硅作掩膜,制备出具有一定高度的LaB6微尖锥场发射阵列,结果发现,LaB6基底较为平整,尖锥阵列呈现出各向异性.该结论对LaB6材料在场发射阴极方面的进一步研究具有重要的指导意义. 相似文献
28.
研究了在不同气体环境下,利用532 nm Nd∶YAG纳秒脉冲激光累积辐照单晶硅表面形成的微结构,结果表明,在其他条件相同,背景气体不同的情况下,背景气体对硅表面形貌的形成起着重要的作用。具体分析了真空、N2和SF6 3种环境气氛下形成的微结构,结果显示,在SF6中形成的锥形微结构的数密度比在N2和真空中的大,并且锥形具有更大的纵横比;在N2、真空和SF6中形成的微结构尺寸依次减小。SF6气氛下,激光辅助化学刻蚀的效率比在真空和N2气氛中的高。另外,辐照区域边缘有波纹微结构形成,分析认为,该微结构的形成是由表面张力波的冷却导致的。 相似文献
29.
研究了在不同气体环境下,利用532nmNd:YAG纳秒脉冲激光累积辐照单晶硅表面形成的微结构,结果表明,在其他条件相同,背景气体不同的情况下,背景气体对硅表面形貌的形成起着重要的作用。具体分析了真空、N2和SF6 3种环境气氛下形成的微结构,结果显示,在sF6中形成的锥形微结构的数密度比在N2和真空中的大,并且锥形具有更大的纵横比;在N2、真空和sF6中形成的微结构尺寸依次减小。sF6气氛下,激光辅助化学刻蚀的效率比在真空和N2气氛中的高。另外,辐照区域边缘有波纹微结构形成,分析认为,该微结构的形成是由表面张力波的冷却导致的。 相似文献
30.