钚质谱分析灵敏度的提高

质谱分析时，在样品涂样过程中加入发射剂来提高钚的电离效率是一种可靠的方法。一般采用的发射剂有活性炭颗粒和树脂珠，因活性炭颗粒和树脂珠在样品涂样和测量过程中存在一些问题，所以实验研究中衔活性炭颗粒研磨成细粉，制成活性炭粉，克服了活性炭颗粒容易使铼带烧穿的缺点。初步研究了活性炭粉在钚质谱分析中的离子产额，发现使用活性炭粉可以提高钚质谱分析灵敏度近20倍。     

三嗪类光学探针与标记分析

评述了以三聚氰氯作桥联剂或骨架而合成的三嗪类衍生物、特别是其光学标记探针的研究进展及分析应用。     

葡辛胺的催化加氢合成工艺的研究

系统地研究了以Ｒａｎｅｙ镍为催化剂同呼正辛胺形成Ｓｃｈｉｆｆ碱后催化加氢合成葡辛胺的反应，通过对反应条件的优化，特别是通过向反应体系中加入催化剂量的三乙胺，改善了催化剂的性能，降低了催化剂的用量，有效地抑制了副反应的发生，缩短了反应时间，反应产率达到７０％以上，并对失活的Ｒａｎｅｙ镍催化剂的再生进行了初步试探。     

从防垢剂对碳酸钙晶形分布影响的角度研究防垢机理

为研究防垢剂的作用机理, 收集了不同防垢剂加入前后出现的碳酸钙垢. SEM分析表 明, 加入防垢剂前, 碳酸钙垢的SEM表现为方解石的六方柱和菱面体; 加入防垢剂后, 碳酸钙垢的形态发生变化, 且防垢剂的效果越好, 垢的形态改变程度越大. 进一步通过FT-IR, XRD对碳酸钙垢进行了定性、定量分析, 发现加入防垢剂后, 垢中除方解石外, 出现了六方方解石和文石, 且防垢率越大, 垢中六方方解石的含量越高. 上述结果说明, 加入防垢剂后垢形态改变的本质原因是垢中碳酸钙晶型分布发生了变化. 结垢过程主要包括不稳定相的生成和消失、介稳相的生成和消失、稳定相的生长三个阶段. 不出现防垢剂时, 介稳相可以转变为稳定相, 碳酸钙垢的主要成分为方解石; 加入防垢剂后, 防垢剂阻止了介稳相的生成和转化, 导致碳酸钙垢中出现了六方方解石和文石. 防垢率越大, 碳酸钙垢中六方方解石含量越高, 说明防垢剂主要通过将结垢过程控制在第二阶段或第一阶段而起到防垢作用.     

卡尔曼 波—分光光度法用于复方雷锁辛涂剂中苯酚与间苯二酚的测定

本文研究了卡尔曼滤波－分光光度法及其在多组分混合物同时光度测定中的应用。测定复方雷琐辛涂剂中苯酚与间苯二酚，平均回收率分别为100.86％与98.76％。     

助熔剂N_aCl－CdCl_2对CdS∶Cu，In结晶状态作用规律研究

发现在确定的热处理温度和时间下，随炉料中助熔剂ＮａＣｌ－ＣｄＣｌ２，总含量的增加，ＣｄＳ：Ｃｕ，Ｉｎ多晶的粒度分布变窄，数均粒径具有最大值，晶粒外型趋于规整且表面平滑．进而证明，多晶的结晶状态对其光电性能具有显著的影响．