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81.
为了提高反射率,软X射线投影光刻中使用的掩膜是制备在多层膜上的反射式掩膜,由于有微缩光学系统,它有相对较大的特征尺寸;同时由于它是制备在镀有多层膜的较结实基片上,使用中有能力避免软X射线照射引起的掩膜热变形,便于实现高精度的光刻复制。在反射式掩膜技术中,需要着重考虑的是掩膜缺陷修复和降低多层膜的损伤。 相似文献
82.
利用二元光学理论改进菲涅耳波带板, 能大幅度提高衍射效率.本文介绍利用传统的照相复制和真空镀膜技术制作位相型菲涅耳波带板的方法, 指出了膜料选择和膜厚控制的依据, 实测了位相台阶数为2时的衍射效率, 为通常菲涅耳波带板的近4 倍. 相似文献
83.
在“超越紫外线光刻极限的新工艺”[1]短文中介绍过:集成电路中线条的宽度到2003—2006年以后将降到光刻工艺的极限100nm以下,目前正在研制的光刻极限以后的新工艺有5种,其中的一种是利用几十keV高能量电子束进行印刻.这种电子束的直径可以小到n... 相似文献
84.
首先控制聚苯乙烯纳米球(PS球)乳液在基片上的干燥温度,采用自组装方法,使用单一粒径的PS球制备出单层的PS球亚稳态正方排列结构模板。然后,在模板上通过磁控溅射法沉积一层银膜。利用纳米球光刻技术,去掉PS球模板得到二维正方点阵排列的准正方形银纳米颗粒阵列结构。 相似文献
85.
86.
在高数值孔径光学光刻中,成像光入射角分布在较大范围内,传统的单底层抗反膜不足以控制抗蚀剂-衬底界面反射率(衬底反射率)。考虑照明光源形状以及掩模的影响,提出了一种新的双层底层抗反膜优化方法,依据各级衍射光光强求衬底反射率的最小权重平均值来配置膜层。针对传统掩模、衰减相移掩模以及交替相移掩模的情况,用该方法优化双层底层抗反膜。结果表明,如果成像时进入物镜光瞳的高阶光越多,高阶光光强越大,则掩模对底层抗反膜优化的影响越大。在某些成像条件下,如使用交替相移掩模实现成像,有必要在底层抗反膜优化中考虑掩模的影响。 相似文献
87.
Cs^+-K^+ ion exchanges are performed on z-cut KTiOPO4 crystals with chromium coating covered. The temperature of ion exchange is 430℃, and the time range from 15min to 30min. The dark mode spectra of the samples are measured by the prism coupling method. The channel structures on the samples are observed by a microscope and the near field pattern of the channel waveguides are measured by the end-fire coupling method. The refractive index of the samples increases and the increments at surface are modulated due to the existence of Cr film. In the region covered by Cr film, the refractive index of the samples at the surface increases dramatically in a shallow layer. The results of energy dispersive x-ray spectra indicate that in the region covered with Cr film, Cr ions participate in the ion exchange process, and enhance the refractive index. The results may provide a possibility that achieves index enhancement and Cr doping synchronically. 相似文献
88.
针对DMD数字光刻,利用ZEMAX光学设计软件,设计出了一套适用于型号 0.7XGA DMD的10片式光刻投影物镜。该物镜采用非对称性结构,前组为改进的三分离物镜,后组为匹兹伐物镜加平像场镜,分辨率为2 m,近轴放大倍率为-0.15,像方数值孔径NA为0.158,全视场波像差小于/20 ,畸变小于0.014%,焦深为20 m,通过各项评价可知系统已经达到了衍射极限。在对该镜头进行公差分析后,利用Monte Carlo方法,模拟组装加工了100组镜头,得到90%的镜头MTF>0.46,50%的镜头MTF>0.51,证明了这种非对称性结构加工和校装的可能性。 相似文献
89.
激光直写邻近疗效应的校正 总被引:3,自引:0,他引:3
邻近效应是限制光刻系统分辨力的一个重要因素,它也限制了激光直写在亚微米和亚半微微米光刻中的应用,分析了激光直写邻近效应产生的原因,指出它和电子束直写及投影光刻的区别,提出了一种简便有效的邻近校正方法,实验表明,通过光学邻近校正(OPC),利用微米级激光直写系统,制作出0.6μm的实用光刻线条。 相似文献
90.