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  1984年   7篇
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51.
介绍用X-射线荧光光谱仪测定钛铁中Si、Mn、P、Al含量的方法,通过试验确定了合适的研磨时间、压力和保压时间,用压片法制样,建立了各元素的工作曲线,各元素的测定范围分别为Si3.00%~6.00%,Mn1.00%~3.00%,P0.030%~0.070%,Al5.00%~9.00%。通过强度测量得到测定Si、Mn、P、Al的相对标准偏差分别为0.074%、0.308%、0.383%、0.040%,精密度满足测试要求。将该方法测定结果与化学法比对,准确度满足国家标准方法分析误差的要求。  相似文献   
52.
化学镀非晶态Ni—P层的初期沉积过程研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
迟毅  张磊 《电化学》1997,3(4):433-437
化学镀非晶态Ni-P镀层初期沉积过程和沉积层状态是影响结合强度的决定性因素.对不同基体材料初期沉积的观察发现,有些非晶态镀层的初期沉积中含有微晶.微晶的产生与否与基体材料以及镀层材料晶格的错配度有关,当镀层与基体材料点阵常数相差不大,镀层的初期沉积沿基体晶格外延生长出现微晶层,反之,点阵常数相差较大时,初期沉积物中未发现微晶.  相似文献   
53.
钼钨铌磷杂多化合物的研究(Ⅰ):杂多酸的合成和表征   总被引:4,自引:0,他引:4  
提出了分步酸化一分步加料合成[PNb_2Mo_xW_(10-x)O_(40)]~(5-)(x=0,2,4,6)系列杂多酸的方法,给出了最佳配料比和生成反应的pH值,并进行了红外、紫外、极谱、电位滴定及热稳定性研究。  相似文献   
54.
以TGA为手段, 进行了丙烯酸化环状磷腈/环氧丙烯酸酯光固化体系热降解动力学的研究, 同时与加入粉末状环状磷腈混合体系进行了对照. 采用Kissinger, Flynn-Wall-Ozawa和Friedman三种方法计算了固化膜降解反应活化能, 证明了磷腈结构的引入, 使得体系在高温阶段的活化能有所提高, 表明降解变得困难, 热稳定性得到提高. 而反应型丙烯酸化环状磷腈相对粉末状环状磷腈混合体系具有更高的降解活化能.  相似文献   
55.
研究了乙基罗丹明B 磷钒钼杂多酸 PVA体系超高灵敏显色反应的适宜条件、灵敏度和选择性 ,及在实际工作中的应用。缔合物的最大吸收波长为 5 86nm ,表观摩尔吸光系数为 1.4×10 5L·mol- 1·cm- 1。方法用于钢铁、化学试剂和铬铁矿等中痕量磷的直接测定 ,结果满意  相似文献   
56.
评述了作为配体催化剂的手性三配位及四配位磷化合物的合成及其在某些不对称的合反应中的应用。  相似文献   
57.
用俄歇电子能谱(AES)分析方法研究了Fe-P-Ce合金中铈与磷的晶界共偏聚状态。在60~180eV能量区间发现了铈在晶界偏聚所引起的俄歇峰,与含铁、铈和磷金属间化合物的合金的俄歇能谱相比,铈与磷的晶界共偏聚形成了具有一定结构的界面二维相,其结构类似Fe-Ce-P金属间化合物。  相似文献   
58.
本文报道双环笼状磷酸酯酰氯(1)与邻氨基酚和邻苯二胺的反应。1.与邻氨基酚在硼酸和三乙胺存在下一锅反应可得关环产的1-氧代-4-(2'-苯并 唑基)-2,6,7-三氧杂-1-磷杂双环[2.2.2]辛烷(2)。改变1和邻苯二胺反应的加料顺序可得单酰化产物1-氧代-4-(-N-邻苯二胺甲酰基)-2,6,7-三氧杂-1-磷杂双环[2.2.2]辛烷(5)和双酰化产物1,1'-氧代-4,4'-(N,N'-邻苯二胺二甲酰基)-双(2,6,7-三氧杂-1-磷杂双环[2.2.2]辛烷)(4)。对产物的IR, ^1H, ^3^1P NMR和MS谱进行了研究, 并确定了2的晶体和分子结构。结构分析表明, 笼状结构OP(OCH2)3C中基本上不存在应力, 仍保持C3v的对称性。晶体属单斜晶系, 空间群P21/c, 晶胞参数: a=0.6176(1), b=1.6105(2), c=1.1354(1)nm,β=92.52(1)°, Z=4, 最终偏离因子R=0.056。  相似文献   
59.
在一定的酸度条件下,结晶紫与磷钼杂多酸离子缔合物的流动注射分光光度法可直接测定痕量磷.灵敏度高,重现性和选择性好.水中常见离子不干扰痕量磷的测定,工作曲线的线性范围为0~500μg·L~(-1)的磷,检出下限达1.0μg·L~(-1),以120h~(-1)采样频率,对各种天然水样进行测定,回收率为92.5%~105.0%,相对标准偏差为0.1%~6.7%.  相似文献   
60.
前文提出了一般有机分子的广义αN指数的概念, 建立了计算分子广义αN指数的方案。在此基础上, 本文将中性磷萃取剂的广义αN指数用于其密度、折光率、纸上层析比移值以及磷氧键红外特征频率等物理性质的研究, 取得了满意的相关结果, 说明这种能分辨有微小结构差异的广义αN指数是反映分子性质的一个良好的拓扑指数。  相似文献   
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