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用核黄素 蛋氨酸光照法和黄嘌呤氧化酶 细胞色素C还原法证实,在1.0×10-6~1.0×10-5mol/L范围内四羧基锰酞菁(TcPcMn)表现出良好的清除超氧阴离子自由基(O—·2)的活性;用黄嘌呤氧化酶 NBT还原法测算出的TcPcMn清除O—·2的二级反应速率常数为7.77×105mol-1·L·s-1,表明TcPcMn作为超氧化物歧化酶(SOD)模拟酶能很好的抑制O—·2的还原性.TcPcMn既能催化H2O2与4 氨基安替比林和酚的显色反应,也能催化邻苯二胺的聚合,表明TcPcMn具有过氧化物酶(POD)活性.用邻苯三酚自氧法得出,TcPcMn将O—·2的氧化性转化成了POD和H2O2的氧化性.因此只要牺牲一定的POD底物,TcPcMn就可以清除掉因歧化O—·2而产生的H2O2,继而能避免因发生Fenton反应而产生氧化性高于O—·2的羟自由基,从而彻底消除O—·2的氧化性,与SOD相比,这是TcPcMn的一个优势. 相似文献
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酞菁锌参杂二氧化硅凝胶基质的光谱学特征 总被引:1,自引:0,他引:1
利用溶胶-凝胶技术将四磺化酞菁锌(ZnPcS4)成功地引入到了二氧化硅凝胶基质中,制备了均匀掺杂的有机/无机复合干凝胶。研究ZnPcS4分子在溶胶-凝胶过程中紫外-可见吸收光谱的变化规律以探索其在复合体系中的存在状态。实验表明,在溶胶阶段,随着时间的延长,紫外-可见吸收光谱中单体的吸收峰强度增大,说明凝胶中酞菁单体的浓度增大;而形成凝胶后,随着时间的延长,紫外-可见吸收光谱中单体的吸收峰强度减小,二聚体的吸收峰强度增大,说明由于体系结构和微化学环境的变化,酞菁分子趋向于聚合。 相似文献
5.
酞菁钴薄膜的折射率及吸收特性 总被引:3,自引:1,他引:2
通过真空镀法在单晶硅片上制备了酞菁钴薄膜,在波长扫描和入射角可变全自动椭圆偏振光谱仪上研究了CoPc薄膜的椭偏光谱并分析了其电子结构。 相似文献
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高分辨双晶XRF研究酞菁化合物中硫杂质的化学态 总被引:1,自引:1,他引:1
酞菁化合物是一种大π键共轭体系的平面分子结构,它以颜色鲜艳、化学稳定性和价格便宜等特点,已在颜料工业上得到了广泛地应用.随着高科技的发展,酞菁化合物的应用进入静电复印的领域.研究中发现:酞普化合物的晶体结构直接影响它的色泽、耐热性、稳定性以及光电导性.在诸多的酸苦晶型中,β-型酞菁是比较稳定的一种,其它晶型届亚稳态型.近年来,光敏性较好的X-型用于激光印刷机感光鼓的载流子产生层[1].用作静电复印中的酞育粗颜料,一般多为a一型,且含有大量的有机和无机杂质[2],经高温真空升华提纯后,转变为卢一型.有趣… 相似文献
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