低温烧结氧化铝陶瓷

选用CaO—MgO—SiO2（CMS）和TiO2两种添加剂来降低氧化铝陶瓷的烧结温度。通过设计正交试验讨论烧结助剂和烧结温度对氧化铝陶瓷的相对密度的影响规律,并用扫描电子显微镜观察了不同配方氧化铝陶瓷的显微结构。结果发现：CMS质量分数为6％、TiO2质量分数为1％、烧结温度为1500℃时氧化铝陶瓷的相对密度98．71％。同时晶体发育比较均匀,没有出现晶体的异常长大和二次再结晶现象。     

Dispersion of Polyacenic Semiconductor（PAS） in Polyethylene： Molecular Dynamics Simulation

The dispersing process of polyacenic semiconductor (PAS) in polyethylene(PE) was simulated by using molecular dynamics(MD) methods. The results show that this process can be divided into three stages. In the first stage, PAS particles in the crystal region of PE are expelled to the amorphous region; in the second stage, PAS particles aggregate due to small surface areas and PE chains are adjusted continuously, which makes the crystal region complete; PAS particles are separated from each other and the total energy increases in the third stage. During the whole dispersing process, PAS particles are more stable in the amorphous region than in the crystal region. All the simulation results are in good agreement with the experimental results.     

壳聚糖硫酸盐催化对羟基苯甲酸酯合成的研究

本文研究了制备壳聚糖硫酸盐催化剂的相关影响因素,考察壳聚糖硫酸盐催化活性和稳定性,并用其催化合成对羟基苯甲酸丁酯。重点讨论催化剂用量,酸醇量比和反应时间对酯化率的影响,确定了较佳的反应条件。     

九龙山构造致密砾岩储层裂缝发育的控制因素

根据野外露头、岩心、成像测井和薄片等资料,对砾岩储层裂缝的分布特征和控制因素进行研究。结果表明:珍珠冲组致密砾岩储层裂缝可分为穿砾缝、砾缘缝和砾内缝3种类型,其中穿砾缝是该区的主要裂缝类型;裂缝的发育程度受砾石成分、砾径、砾石接触关系、填隙物成分以及构造部位等因素控制;石英砂岩砾中的裂缝发育程度要高于燧石砾;随着砾径和砾石之间接触面积的增加,裂缝的发育程度变好;碎屑颗粒填隙物的存在有利于裂缝的形成,而随着黏土杂基含量的增加,裂缝发育程度变弱;构造高部位和断层附近是该区裂缝发育的最有利区域,同时也是天然气富集的有利场所。     

基于相对熵的区间型直觉模糊集多属性决策方法

针对属性权重完全未知且属性值为区间的直觉模糊集的多属性决策问题进行了研究,定义了区间型直觉模糊数相对熵和含参数新的得分函数,然后由TOPSIS方法得到权重,最后通过实例分析验证了所提出方法的有效性和可行性.     

新型功能材料杜仲胶的研究与应用

从高弹性杜仲胶的诞生及结构的发现,从杜仲胶硫化过程3个阶段及相对应的3类材料的发现,从杜仲胶材料工程学的形成及“橡—塑统一材料谱”概念的提出,论证了杜仲胶的广泛应用及发展前景。提出了杜仲胶、天然橡胶、顺丁橡胶共混的新观点。     

氟硅改性聚氨酯自组装膜的合成及性能

以甲苯二异氰酸酯、聚酯二元醇、2,2-二羟甲基丙酸和十三氟-1-辛醇等为原料合成了氟醇封端的聚氨酯预聚体(FPU)。 通过FPU侧链含有的羧基官能团与异氰酸酯基硅烷偶联剂(Si-NCO)反应制备了含硅氧烷官能团功能性树脂(FPUSi)。 采用红外光谱(FT-IR) 对产物结构进行了表征,用TGA和水接触角等测试了自组装薄膜的表面性能。 结果表明,在N2气氛围下,FPU和FPUSi的热失重温度（T5％）均为178 ℃;硅基表面经FPUSi自组装膜修饰后,其表面水接触角达到81°。 微摩擦测试结果表明,当载荷为400 mN时,FPUSi自组装薄膜的稳定摩擦系数达到0.09。     

层间热处理对SiO2/ZrO2双层膜的影响

 以正硅酸乙酯和丙醇锆为前驱体,用溶胶-凝胶法在K9基片上提拉镀制SiO₂/ZrO₂双层膜。采用不同实验步骤制备了2个样品,样品1镀完SiO₂后直接镀ZrO₂ ,样品2镀完SiO₂经热处理后再镀ZrO₂。采用原子力显微镜、椭偏仪、紫外-可见分光光度计对薄膜进行表征。针对SiO₂/ZrO₂双层膜,考虑到膜间渗透的影响,采用３层Cauchy模型进行椭偏模拟,椭偏参数的模拟值曲线与椭偏仪的测量值曲线十分吻合,进而发现热处理可以使SiO₂/ZrO₂双层膜之间的渗透减少近23 nm,从而提高其峰值透射率。利用输出波长1.064 mm,脉宽8.1 ns的激光束对样品进行了损伤阈值的测试,用光学显微镜观察损伤形貌,结果发现两者损伤阈值分别为13.6 J/c2和14.18 J/cm²,均为膜的本征损伤。