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41.
用模拟万用表测电容   总被引:1,自引:0,他引:1  
周炼刚 《物理实验》2002,22(3):36-37
介绍了用模拟万用表和秒表测量电容的简单方法,对测量结果的误差原因进行了分析,给出了提高测量精度的几点措施。  相似文献   
42.
I.IntroductionThepcrformanccsofAcousto-optic(AO)dcviccareoftenlimitcdbythepropertiesofAOmcdiawhenitisusedinAOsigna1processingsystems.Thespectrumanalyzersandcorre1ationreceivers,forinstancc,areexpcctcdtoimprovcthereso1utionanddynamicrangcwhilereducingtheproccssorvolume.Rccent1y,ancwclassofmateria1s,themercurousha1ides,promiscstocontributeimportantsolutionstosuchnccdsandisrefincdtopractica1uti1izations.Themecurousha1ideweconsidcrinthispapcrismecurouschloride(Hg,C1,).Thesing1ecrystalofHg,Cl…  相似文献   
43.
采用快速提拉法生长出了透明、完整的γ-LiAlO2晶体,但是晶体的高熔点和易挥发性限制了γ-LiAlO2晶体质量.采用气相传输平衡法(vapor transport equilibration technique,VTE)工艺对晶体改性,半高宽(FWHM)值从116.9arcsec降至44.2arcsec,继续升高VTE处理温度至1300℃,FWHM值反而升高至55.2arcsec.快速提拉法生长出来晶体,[100]方向和[001]方向的热膨胀系数分别为17.2398×10-6/K,10.7664×10-6/K.经过三步VTE处理后[100]和[001]方向热膨胀系数降至16.6539×10-6/K和10.1784×10-6/K.  相似文献   
44.
Orlicz范数下的Hardy-Hilbert不等式   总被引:2,自引:0,他引:2  
给出了Orlicz范数下的Hardy-Hilbert不等式的一种形式,建立了当N-函数M(u)及其余N-函数N(u)均满足Δ′条件时Orlicz范数下的积分型及双级数型Hardy-Hilbert不等式.  相似文献   
45.
从文化背景、精神意向、人生态度、思维方式等方面,对儒家文化与基督文化进行了比较研究。并试图对这两种文化分别进行扬弃与整合。  相似文献   
46.
通过对“可见光区域是否存在Compton效应”的讨论而进一步深化到经典条件下“光的量子理论能否包含光的经典电磁理论”的实验验证,发现了Lorentz-Compton佯谬,并基于逆Compton散射设计了一个敏感而又可行的双赢判决性散射实验来解决此佯谬。  相似文献   
47.
利用在束γ谱学实验技术, 通过173Yb(19F,4nγ)反应 布居了188Au的高自旋态, 并对其准粒子带结构进行了研究. 基于实验测量结果, 对原有的双奇核188Au能级纲图做了较大的修改. 通过系统性比较, 对15+以上的能级结构进行了讨论.  相似文献   
48.
测量了19F+27Al耗散反应产物B,C,N,O,F和Ne的激发函数,入射束流的能量从110.25MeV到118.75MeV, 能量步长为250keV. 从产物的 能量自关联函数中提取了反应中所形成的中间双核系统的转动惯量, 与相粘模型计算的刚体转动惯量相比较, 结果表明形成的双核系统有大的形变.  相似文献   
49.
关于矩阵和算子迹的一组不等式   总被引:1,自引:1,他引:0  
给出关于半正定矩阵迹和正算子迹的一组不等式,得到与邱贤忠关于实数的不等式的类似结果.  相似文献   
50.
1 INTRODUCTION Silicon and its alloy have been widely applied in such fields as electronic industry, high-temperature structural ceramics, etc. In addition, the researches on silicon and its relevant materials greatly promote the rapid development of modern optics and infor- mation technology. Therefore, more and more at- tention is focused on the structure of silicon, oxide of silicon and the interfaces between silicon and metal or nonmetal. As an ideal passive film on the Si surface, S…  相似文献   
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