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31.
我们用最近研制成功的LMA型低频力学谱测试系统对NiTi合金马氏体相进行了在很大频率范围内(0.003~1Hz)的低频等温力学谱和温度谱的测量.我们研究的形状记忆合金NiTi(Ni50.2at%)试样长34mm,直径1mm细丝.经一定热处理,分别在333K.343K和353K做了内耗随频率的变化的测量。实验表明:频率越小,内耗越大,也就是内耗随频率减少而增大。同时我们采用阶梯升温的方法在八个温度下每个温度测量三种频率(1Hz,0.1Hz,0.01Hz)的内耗,结果清楚地表明:不同频率下,内耗峰都出现在372K(99℃)。而且频率越低,峰高越高。这是具有相变峰的特点:相变峰的峰温不随测量频率不同而变化,相变峰高度随频率减少而增大。我们还测量了在1Hz与0.5Hz频率下内耗随温度的变化。本文用马氏体相的位错理论初步讨论了上述实验结果。 相似文献
32.
An overview of theoretical and experimental studies of the coherent type-B e
+
e-pair production by photons in aligned crystals performed at Nuclear Physics Institute at Tomsk Polytechnic University is given. 相似文献
33.
34.
35.
We analyze diffusion from a periodic array of hemispherical droplets through a membrane. We find that the multiple sources do not interact strongly, even when the droplets are closely spaced, so that the flux through the membrane appears nearly additive. 相似文献
36.
37.
38.
Theoretical and experimental investigations on the performance of micro-perforated -panel absorbers are reviewed in this paper. By reviewing recent research work, this paper reveals a relationship between the maximum absorption coefficient and the limit of the absorption frequency bandwidth. It has been demonstrated that the absorption frequency bandwidth can be extended up to 3 or 4 octaves as the diameters of the micro-holes decrease. This has become possible with the development of the technologies for manufacturing micro-perforated panels, such as laser drilling, powder metallurgy, welded meshing and electro-etching to form micrometer order holes. In this paper, absorption characteristics of such absorbers in random fields and in high sound intensity are discussed both theoretically and experimentally. A new absorbing structure based on micro-perforated-panel absorbers demonstrate experimentally high sound absorption capability. This review shows that the micro-perforated-panel absorber has potentials to be one of ideal absorbing materials in the 21st century. 相似文献
39.
V. Edon M.C. Hugon B. Agius L. Miotti C. Radtke F. Tatsch J.J. Ganem I. Trimaille I.J.R. Baumvol 《Applied Physics A: Materials Science & Processing》2006,83(2):289-293
The influence of processing parameters on the electrical characteristics of RuO2/LaAlO3/Si metal-oxide-semiconductor structures was investigated. In particular, the sputtering regime during deposition of LaAlO3 on Si and the atmosphere used in the post-deposition annealing step were addressed by determining capacitance-voltage and
gate current-voltage characteristics. These results were correlated with compositional information obtained by Rutherford
backscattering spectrometry and nuclear reaction analysis. A post-deposition annealing step in oxygen at 600 °C resulted in
better electrical characteristics of the final structure as compared to the same treatment performed in nitrogen. This result
is explained by oxygen ability to heal oxygen vacancies in the LaAlO3 film, especially at the dielectric/semiconductor interface region. A thermalized sputtering regime during deposition of LaAlO3 on Si leads to capacitors with electrical characteristics superior to those deposited in ballistic regime.
PACS 77.84.Dy; 81.15.Cd; 81.40.Gh; 73.40.Qv; 82.80.Yc 相似文献
40.
在假定股票价格服从Ito过程条件下,讨论了采用组合期权交易策略的投资者获益的概率及损益的数学期望,得到了具体计算式,只要投资者获得相应数据,通过具体计算式加以计算,便可以为期权投资者提供数量上的重要参考依据,对期权投资者具有实用价值。 相似文献