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102.
根据生产实际,综合利用并列、赋闲列和拟水平试验设计,运用多重比较进行方差分析,寻找水泥熟料的最佳工艺.不仅解决了不同水平多因素试验问题,同时还可考虑交互作用,大大减少了试验次数,从而提高经济效益. 相似文献
103.
本文报道了对分子束外延(MBE)生长的In0.25Ga0.75As-GaAs应变层量子阱结构在77K下的压力光荧光(PL)研究的结果。流体静压力从0到50kbar.,给出了In0.25Ga0.75As-GaAs应变层量子阱的Γ谷压力系数,实验观察到了量子阱中能级与势垒GaAs中X谷的能级交叉。通过对其压力行为的分析,给出了In0.25Ga0.75As-GaAs异质结的导带与价带跃变比:Qc=△Ec:△Ev=0.68:0.32。对(InGa)As-GaAs应变量子阱常压下的理论分析与实验符合很好。本文也对Al0.3Ga0.70As-GaAs量子阱进行了讨论。
关键词: 相似文献
104.
In the presence of an applied static and uniform magnetic field, a cylindrical Kadomtsev-Petviashivili equation is derived for a relativistic electromagnetic solitary wave propagating in collisionless plasma consisting electrons, positrons, and ions in the case of weak relativistic limit. This equation is solved in a stationary frame to obtain explicit expression for the velocity, amplitude and width of solitons. The amplitude of the solitary wave has a maximum value at a critical αc of the ratio of the ion equilibrium density to the electron one, and it increases as the applied magnetic field becomes larger. 相似文献
105.
利用关于乘积分布密度的相对熵和相对熵率的概念,建立了相依连续型随机变量序列关于参考微分熵的一类强偏差定理,证明中给出了将Laplace变换应用于微分熵强偏差定理的研究的一种途径. 相似文献
106.
采用光学显微镜和扫描电子显微镜等手段,对某轻型汽车40Cr后桥半轴断裂件的组织及断口特征进行了分析结果表明:半轴在调质处理时的淬火温度不够高,使其表层和心部组织中存在较多的铁素体相,造成了工件最终的硬度和疲劳强度不足,导致半轴在使用中发生扭转疲劳断裂. 相似文献
107.
Jing Yuan 《Applied Acoustics》2004,65(1):45-57
A hybrid active noise controller (ANC) is proposed to solve some existing problems, which are related to the non-minimum phase (NMP) path models between uncollocated sensors and actuators in many ANC systems. For hybrid ANC schemes, the NMP path causes design difficulties to both feedforward and feedback control. These problems can be solved effectively by adding an extra actuator in the ANC system. A new design procedure is presented to take the greatest advantage of the extra actuator. Theoretical analysis and experimental results are presented to show the improved performance of the proposed ANC. 相似文献
108.
对以本征Si及重掺杂p型和n型Si作为中间层的Fe/Si多层膜的层间耦合进行研究,并通过退火,增大Fe,Si之间的扩散,分析界面扩散对层间耦合的影响. 实验结果表明,层状结构良好的制备态的多层膜,Fe,Si之间也存在一定程度的扩散,它是影响层间耦合的 主要因素,远远超过了半导体意义上的重掺杂,使不同种类的Si作为中间层的层间耦合基本 一致.进一步还发现,在一定范围内增大Fe,Si之间的扩散,即使多层膜的层状结构已经有了相当的退化,Fe/Si多层膜的反铁磁耦合强度基本保持不变.
关键词:
Fe/Si多层膜
层间耦合
界面扩散 相似文献
109.
110.