STABILITY OF CERTAIN RINGS OF HIGHEST WEIGHT VECTORS

51. IntroductionLet Cm'" be the space of complex m x n matrices, P(Cm)") be the algebra of complexpolynomials on Cd'~. Let GLm(C) x GL.(C) act on P(Cm,") as the following:(gi, gZ)f(x) ~ f(g,'xg,),where x E Cat", (gi, g2) E GLm x GL., f E P(Cm'"). This action induces an action of thesubgroup Of x GL. on P(Cm)") by restriction.Let G be a complex reductive algebraic group, (V, p) be a rational representation of G.Let B = TU be a Borel subgroup of G, where T is a majximal torns of …     

An型扭双指标代数

给出了F (Δ)-有限的A_n型偏序集的扭双指标代数的完全分类     

用等效网络方法求均匀弹簧纵振动的本征频率

利用机电类比方法导出了均匀质量弹簧在几种特定边界条件下的本征频率方程,并给出了相应的本征频率公式。体现了等效网络理论分析机械振动问题的优越性。     

40J激光装置研制

 报道了一台输出能量在40J量级的激光装置。该装置从星光Ⅱ激光装置分光作为光源,由放大器链、能源系统和支撑桁架等三大部分构成。对整个激光装置的模拟计算结果表明：装置的增益能力足够输出40J,B积分满足ΔB小于1.8的要求。研制了一种全腔水冷新型放大器,对其小信号增益系数和增益均匀性进行了测量,实验得出增益系数β为0.034cm ^-1,增益均匀性为91.84%。结果表明这种放大器完全能满足此激光装置的设计要求。     

稀磁半导体的研究进展

本文主要介绍了III-V族稀磁半导体(Ga,Mn)As的研究进展,包括(Ga,Mn)As的生长制备、基本磁性质、磁输运特征、磁光性质、磁性起源、相关的异质结构和自旋注入等,同时还简单介绍了其它稀磁半导体如IV族、III-VI族和IV-VI族等稀磁半导体的研究进展,在文章的最后描述了理想的稀磁半导体应该具备的特征以及对未来的展望。     

LBO晶体上1 064，532 nm倍频增透膜的镀制及性能分析

 用电子束蒸发沉积方法在X切LBO（X-LBO）晶体上镀制了两种不同膜系结构的1 064和532 nm倍频增透膜，其中一种膜系结构为基底/ZrO₂/Y₂O₃/Al₂O₃/SiO₂/空气，另一种为基底/0.5Al₂O₃/ZrO₂/Y₂O₃/Al₂O₃/SiO₂/空气，两种膜系结构的主要差别在于有无氧化铝过渡层。测量了薄膜的反射率光谱曲线，发现两种增透膜在1 064和532 nm处的反射率均小于0.5％，实际镀制结果与理论设计曲线的差异主要是由材料折射率的变化引起的。且对样品在空气环境中进行了温度为473 K的退火处理，结果发现两种膜系结构均表现了较优异的光学性能，氧化铝过渡层的加入使薄膜具有强的热应力性能。     

北京谱仪Ⅲ飞行时间计数器系统刻度中的关联分析

利用电子对事例对北京谱仪Ⅲ飞行时间的测量误差, 以及不同测量之间的关联因子随击中位置的变化进行了仔细的研究. 加权的飞行时间由不同的测量值及其相关的误差矩阵计算而得. 蒙特卡罗研究表明. 为北京谱仪Ⅲ开发的关联分析算法 可以正确地处理包含公有误差项的多个实验测量结果的合并, 并且能够为粒子鉴别提供可靠的飞行时间信息.     

物光的偏振性对全息记录质量的影响

通过对菲涅耳三维漫反射全息记录光路中物光与参考光偏振状态的实验检测，发现线偏振的激光被不同表面材料的物体散射和漫反射后变成“部分偏振光”，几乎所有目标物都有显著的消偏振现象，全息干板上实际记录的是线偏振的参考光与“部分偏振”的物光形成的相干度较低的干涉条纹。物光偏振度的大幅度下降影响干涉条纹的衬比度，并增加全息图的噪声。给出实验方案和检测光路，采用在参考光路中插入1/4波片的方法，可充分利用非偏振物光各个振动方向的光能，提高条纹的衬比度。     

光信息科学与技术专业的教学改革——双语教学

分析了光信息科学与技术专业的特点,探讨了该专业双语教学改革的特点和提高双语教学效果的方法,为专业发展提出了思路。     

（Ti,Al）N Film on Normalized T8 Carbon Tool Steel Prepared by Pulsed High Energy Density Plasma Technique

Under optimized operating parameters, a hard and wear resistant （Ti,Al）N film is prepared on a normalized T8 carbon tool steel substrate by using pulsed high energy density plasma technique. Microstructure and composition of the film are analysed by x-ray diffraction, x-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and scanning electron microscopy. Hardness profile and tribological properties of the film are tested with nano- indenter and ring-on-ring wear tester, respectively. The tested results show that the microstructure of the film is dense ahd uniform and is mainly composed of （Ti,Al）N and A1N hard phases. A wide transition interface exists between the film and the normalized T8 carbon tool steel substrate. Thickness of the film is about lO00nm and mean hardness value of the film is about 26 GPa. Under dry sliding wear test conditions, relative wear resistance of the （Ti, Al）N film is approximately 9 times higher than that of the hardened T8 carbon tool steel reference sample. Meanwhile, the （Ti,Al）N film has low and stable friction coefficient compared with the hardened T8 carbon tool steel reference sample.