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InSb材料在近来的锂离子电池负极材料研究中受到了重视.使用基于局域密度泛函理论的第一原理赝势法,计算了锂离子电池非碳类负极材料InSb各种锂嵌入情况时的形成能以及相应的电子结构.讨论了锂嵌入时的体积变化、能带结构、电子态密度以及电荷分布等性质.计算发现,闪锌矿结构的InSb材料,锂嵌入到主体材料的间隙位置时的形成能平均每个锂原子都在2.2eV左右.
关键词:
InSb
锂嵌入形成能
电子结构
第一原理计算 相似文献
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半导体量子结构和Si基光电子材料设计的新进展 总被引:6,自引:3,他引:3
黄美纯 《厦门大学学报(自然科学版)》2001,40(2):242-250
评述近年来在半导体量子结构电子态理论应用于Si基光电子材料设计方面的重要进展。着重对有直接高技术应用背景的论题进行讨论和展望。最近关于Si纳米晶光增益和纳米硅/氧超晶格材料超稳定电致发光等具有突破性发现的实验研究成果具有重要意义。对本课题组在该领域的主要贡献及最近关于Si/O超晶格结构的理论研究进展也作简要报道。这些研究正酝酿着信息领域光电子集成技术的重大突破。 相似文献
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用半经验的紧束缚方法sp^3s^*计算了薄层应变超晶格(InxGa1-xAs)n/(GaAs)n(001)的电子结构。给出了组份X为0.53的超晶格(InxGa1-xAs)n/(GaAs)n的带隙值随层厚n的变化关系,以及超晶格(InxGa1-xAs)12/(GaAs)12的带隙值随组份X的变化关系。在得到超昌格能量本征值和本征函数的基础上,计算了该晶格系统的光学介电函数虚部,并与体材料GaAs和 相似文献
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用半经验的紧束缚方法sp3s*计算了薄层应变超晶格(InxGa1-xAs)n/(GaAs)n(001)的电子结构.给出了组份X为0.53的超晶格(InxGa1-xAs)n/(GaAs)n的带隙值随层厚n的变化关系,以及超晶格(InxGa1-xAs)12/(GaAs)12的带隙值随组份X的变化关系.在得到超晶格能量本征值和本征函数的基础上,计算了该超晶格系统的光学介电函数虚部,并与体材料GaAs和体合金InxGa1-xAs的光学性质作了比较.计算结果表明,应变超晶格在较宽的能量范围有较好的光谱响应. 相似文献
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Si基光发射材料由于它具有与先进的Si微电子技术兼容和成本低廉的优势,是光电子集成(OEIC)工程应用的首选材料.但由于体材料Si属于间接带隙半导体,不可能成为有效的光发射体.如何设计具有直接带隙硅基材料,备受实验研究工作者和材料设计理论工作者的关注.本文介绍一种新的硅基超晶格Ⅵ(A)/Sim/Ⅵ(B)/Sim/Ⅵ(A)的能带结构计算.在密度泛函理论框架内,采用混合基从头算赝势法模拟计算表明,其中Se/Si6/O/Si6/Se及Se/Si6/S/Si6/Se超晶格具有相当理想的直接带隙特征,其带隙处于红外波段.预期这类新材料及有关器件会有优越的光发射和各种光学性能,其制作也可较方便地与硅微电子工艺兼容.预计该材料在信息光电子领域将有强大的应用潜力. 相似文献
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InSb是很有应用前途的Li离子电池非碳类负极材料. 使用基于密 度泛函理论的第一原理赝势法,计算了InSb 在Li嵌入时的125种不同情况下的总能、形成能 以及平衡体积等,进而参考电压轮廓实验曲线,筛选出了若干条理论上可能的反应路径,得到了Li嵌入时的电压轮廓曲线. 结果表明,从体InSb相到Li_3Sb相之间没有中间经历五个相及五个相以上的反应路径;中间经历一个相的最可能反应过程为Li+In_4Sb_4→Li_1In_4Sb_4,11Li+Li_1In_4Sb_4→Li_12Sb_4+4In;中间经 历四个相的仅有一条反应路径:Li+In_4Sb_4→Li_1In_4Sb_4,2Li+Li_1In_4Sb_4→ Li_3In_4Sb_4,4Li+Li_3In_4Sb_4→Li_7In_3Sb_4+In,3Li+Li_7In_3Sb_4→Li_10In_2Sb_4+In,2Li+Li_10In_2Sb_4→Li_12Sb_4+2In.
关键词:
InSb
Li嵌入
电压轮廓曲线
从头计算 相似文献