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71.
为了研究从简单易得的原料在无催化剂的条件下一锅法合成N-甲基十氢吖啶-1,8-二酮化合物,我们以各类醛(脂肪醛、芳香醛、二醛)、达咪酮或1,3-环己二酮和甲胺为原料,以乙二醇或水为溶剂,经微波辐射,一步反应得到了一系列N-甲基十氢吖啶-1,8-二酮化合物。反应时间从传统热反应的4-5小时缩短至2-10分钟,产率较高(56-95%),并且不需要使用催化剂。该反应后处理方便,只需要简单洗涤,环境友好,为合成此类化合物提供了一种简便、有效的合成方法。该方法不仅适用于一元脂肪醛、芳香醛,还适用于芳香二醛,因此可以合成含有一个或两个十氢吖啶结构单元的杂环化合物。 相似文献
72.
重铬酸钾容量法测定铁,因指示剂自身氧化而要多消耗滴定剂,且所用汞盐也污染环境。本文采用硫代硫酸钠滴定碘法,以双铂电极作工作电极通过电流变化判断终点,突跃明显。试液勿需分离,在pH4存在氟氢化铵条件下,仅滴定铜量;另在pH1.5条件下,滴定铜、铁合量,由两次消耗滴定剂的体积差计算铁量。滴定10毫克铜时,共存元素的允许量(毫克)为:钼(Ⅵ)、钙、氨(100),镉、汞(Ⅱ)、镍、铅、锌、铬(Ⅲ)、锡(Ⅳ)、钴、硅、铝、钨(Ⅵ)、钛(Ⅳ)(50),砷(Ⅴ)、锑(Ⅴ)、铁(Ⅲ)(10);钒(Ⅴ)的干扰可在 相似文献
73.
微波辐射下三组分“一锅法”合成5-芳基-1,5,6,7,8,9-六氢化-2H-吡唑[5,4-b]并喹啉-6-酮 总被引:1,自引:0,他引:1
在微波辐射下以芳醛、1,3-环己二酮或达米酮和氨基吡唑为原料, 用乙二醇作能量转移剂, 三组分“一锅法”快速合成了一系列吡唑[5,4-b]并喹啉类化合物. 该方法速度快(30~90 s), 产率高(88%~98%), 环境友好. 产物结构通过红外光谱、核磁共振谱和元素分析证实, 化合物4e的单晶经X射线衍射分析, 进一步确证了产物结构. 相似文献
74.
75.
76.
77.
主要研究了热处理制度对掺杂Er^3+离子的含有LaF3纳米晶体的氟氧化物玻璃陶瓷的上转换发光和近红外发光性质的影响。制备了ErF3掺杂的SiO2-Al2O3-Na2O-LaF3系统玻璃,将其在不同温度下处理不同的时间,测试其上转换和近红外的发光行为的变化,并相应进行了XRD测试,基于XRD数据计算了晶粒大小和结晶度,考察了热处理制度对该材料微观结构及发光性能的影响。结果表明:在一定的温度下保温,LaF3晶体从玻璃基体中析出,并且随着热处理温度的升高和时间的延长,晶粒不断长大,结晶度持续增加,因为上转换的发光与基质的声子环境密切相关,所以随着氟化物晶体的增多,相应的玻璃陶瓷的上转换发光的强度也增大,而在氟氧化物玻璃中检测不到上转换发光。但是,对于近红外1530nm处的铒离子发光,氟化物晶体的析出对于其发光性质并没有太大的影响。 相似文献
78.
在溶剂热条件下,基于芳香四羧酸合成了2种新颖的配位聚合物:{[Zn2(tptc)(1,4-bimb)2]·H2O}n(1)和{[Ni(tptc)0.5(1,2-bimb)(H2O)]·H2O}n(2),其中,tptc为对-三联苯-3,3″,5,5″-四羧酸,1,4-bimb为1,4-二(咪唑-1-亚甲基)苯,1,2-bimb为1,2-二(咪唑-1-亚甲基)苯。结构分析表明,1为三维结构,拓扑符号为(86);2为二维层状网络,通过氢键相互作用进一步扩展为三维超分子结构。此外,我们还研究了1对阳离子、阴离子的荧光感应以及2的磁性质。 相似文献
79.
嵌入式实时操作系统uC/OS-Ⅱ公开所有的源代码,90%的代码使用标准的ANSIC语言书写,它体积小、执行速度快,具有良好的可裁减性和可移植性.作为一种多任务实时操作系统,uC/OS-Ⅱ具有较高的可靠性和实时性,能满足对实时性和可靠性要求较高的嵌入式系统.通过详细研究uC/OS-Ⅱ的特点和内核结构,完成了uC/OS-Ⅱ在军用FM80386EX上的移植并给出了相关代码,同时对内核进行测试、数据分析,对内存管理、代码临界区、信号量机制提出了改进方法.移植成功后,uC/OS-Ⅱ可实时完成各个任务的调度,通过嵌入式操作系统uC/OS-Ⅱ在各个任务间实现通信,用户可以根据需要完成自己的多任务操作. 相似文献
80.
交错波纹板原表面换热器通道内对流换热的数值研究 总被引:8,自引:0,他引:8
对具有正弦波形通道交叉排列的原表面换热器多通道单元内三维稳态层流流动与换热特性进行了分析,利用数值模拟方法探讨了上下波纹板交错角θ、波纹相对节距P/H(波长/波高)及雷诺数RP对流动与换热性能的影响.结果表明:在入口段流动与换热性能的变化较大,此变化在沿主流方向第4个单元后基本消失;在水力直径基本相同的前提下,阻力系数厂及平均努谢尔特数Nu随θ的增大而增大;f及Nu在P/H为1.5~3.1的范围内随P/H的增大而增大,在RP大于900及P/H为3.1~4.0时随P/H的增大却开始减小;壁面局部Nu的最大值发生在主流尾部以及与流体出口邻近的2个入口处附近,最小值在上下波纹板的接触点上产生。 相似文献