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41.
<正>五沟煤矿年设计产量60万t/a,2009年核定产量为150万t/a。地面根据设计建设处理能力为2000m~3/d的污水处理厂。由于五沟煤矿地质条件复杂,富水较大,随着回采工作面的增加,中央泵房实际排水量为4500 m~3/d,矿井污水经沉淀池自然沉淀后直接排入河流。矿井可采煤层顶、底板在正常情况下多为泥岩和粉砂岩,少量是砂岩。其中砂岩坚硬致密,顶、底板较容易管理 相似文献
42.
通过调变溶剂热的反应条件,我们合成了3种Ni (Ⅱ)基的配位聚合物(CPs)[Ni (CH3-BDC)(3-TBT)(H2O)2]·EtOH·2H2O (CP1)、[Ni3(CH3-BDC)3(3-TBT)2(H2O)5]·2DMF·2H2O (CP2)和[Ni3(CH3-BDC)3(3-TBT)2(H2O)6]·2DMF·4H2O (CP3),其中CH3-H2BDC=5-methylisophthalic acid,3-TBT=2,4,6-tris (3-pyridyl)-1,3,5-benzene。X射线单晶衍射分析表明,3个CPs都是由相似的Ni2(CH3-BDC)2的双核单元构建的,并分别呈现出从零维(0D)、2D到3D结构的网络骨架。反应条件的微小调变,导致了不同结构的配位聚合物。同时,催化实验表明,3在无溶剂的温和反应条件下,CP3对苄醇及其衍生物与苯胺的氧化-偶联反应表现出极好的催化活性和循环稳定性。 相似文献
43.
反应温度对加氢残渣油四组分含量和结构的影响 总被引:2,自引:1,他引:1
以沙轻减渣为原料,在高压釜内研究了不同反应温度下加氢反应前后渣油的四组分含量及其结构组成变化。结果表明,加氢残渣油中的饱和分含量明显增加,而芳香分和胶质的含量均降低,四组分含量随反应温度的升高均呈现规律性变化。加氢后四组分的H/C摩尔比和平均相对分子质量均降低,芳碳分率增加。随反应温度升高,四组分的H/C摩尔比和平均相对分子质量降低,烷基碳分率降低;芳香分、胶质和沥青质的芳碳分率增加;胶质和沥青质的总环数和芳环数均降低。渣油加氢过程中四组分都发生了明显的氢解和脱烷基反应。加氢反应中,胶质和沥青质结构单元间的各种桥键可发生明显地断裂,导致其结构单元数减少,且结构单元数随反应温度的升高而减少。 相似文献
44.
45.
对硝基苯酚分子印迹聚合物最佳功能单体的筛选及其水样固相萃取中的应用 总被引:2,自引:2,他引:0
以对硝基苯酚(4-NP)为对象,采用非印迹聚合物(NIP)库筛选法选出乙烯基咪唑为最佳功能单体,通过实验选出乙腈为最合适的聚合溶剂、三甲氧基丙基三甲基丙烯酸酯(TRIM)为交联剂制备分子印迹聚合物。对固相萃取进行了优化,用pH=2.5的磷酸盐缓冲溶液上样、体积比为45∶55的乙腈和磷酸盐缓冲溶液淋洗、甲醇洗脱条件下,聚合物具有最佳印迹效果。4-NP分子印迹聚合物的表观吸附量达到5.8 mg/g。该印迹聚合物对4-NP及其结构类似物苯酚和对氯苯酚的萃取回收率分别为96.0%、78.8%和77.8%,表明具有较高的选择性,还成功地用于自来水样品中4-NP的固相萃取,回收率达到93.1%。由此可得该方法快速、有效,可用于分子印迹聚合物优化制备。 相似文献
46.
3,5-二氰基-2,4,6-三甲基吡啶在新型光电功能材料的合成中有重要的应用价值.本文在CCl4中光照1,4-二氢-3,5-二氰基-2,4,6-三甲基吡啶,高产率地合成了3,5-二氰基-2,4,6-三甲基吡啶. 相似文献
47.
阿维拉霉素高产菌株的推理选育 总被引:2,自引:0,他引:2
为获得阿维拉霉素高产菌株,在研究菌株Streptomyces viridocbromogenes96(SV-96)葡萄糖及氨盐代谢的基础上,采用“NTG随机诱变 氨基乙酸和2-脱氧-D葡萄糖联合抗性”的试验方案进行阿维拉霉素高产菌株的推理选育,获得了氨基乙酸和2-脱氧-D-葡萄糖联合抗性高产突变株SV-GT-596.该菌株遗传性能良好,阿维拉霉素产量高达56.4mg/L,较出发菌株提高了162.3%.实验表明,氨基乙酸和2-脱氧-D-葡萄糖抗性推理选育可克服随机筛选的盲目性,提高筛选工作效率. 相似文献
48.
对一类有界独立或相依的随机变量序列|ξn|,获得了它的伯努利大数定律、波雷尔强大数定律及常返性定理.作为应用,得出了Loève专著[1]中的推广的伯努利大数定律、常返性定理,改进了[1]中的推广的波雷尔强大数定律. 相似文献
49.
(+)-(1S,2S,5R)-8-联苯薄荷醇的合成 总被引:4,自引:0,他引:4
以(R)-( )-pu legone为起始原料,经1,4-加成,还原两步反应合成了手性辅助试剂( )-(1S,2S,5R)-8-联苯薄荷醇及其差向异构体(-)-(1R,2S,5R)-8-联苯薄荷醇,总产率95%。其结构经1H NMR,13C NMR,IR,MS和X-射线衍射仪表征。 相似文献
50.