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21.
本文用主成份分析法对一组群体健康资料进行分析的结果表明,在所有致病因素中,主要因素为:社会环境因子,年龄因子和工作因子。目前,在一个大学的各人群、年龄组中,以中年知识分子的健康状况最差。实践证明,主成份分析法的应用能较好地利用资料所提供的信息,更好地揭示内在规律,并且将分析结果数量化。  相似文献   
22.
在已进行研究的基础上 ,介绍了连接软管对 80 K分置式斯特林制冷机热性能影响的模拟方法。通过对模拟结果与实验结果的对比与分析 ,证明了本模拟方法具有良好的准确性 ,揭示了连接软管尺寸对整机热性能的影响 ,对指导制冷机的设计有重要意义  相似文献   
23.
研究了地上三维场景模型与地下三维矿体模型的构建方法,提出了基于散点构网的地质实体充填算法模型.结合地理信息系统的建设方法,以辽宁某铁矿为原型,开发了其地上下三维可视化信息系统,实现了各类三维模型的创建、三维显示与浏览、空间属性查询、交互操作、测量与空间分析等功能.系统既实现了地上下三维模型的快速建立,又解决了以往三维模型中只能显示,不能查询、量测、编辑等问题,可以宏观地把握、微观地洞察矿区地上下整体地形地质特征和地理信息空间分布,更客观全面地表达矿山三维地理信息实体,可作为数字矿山、智能采矿的基础.  相似文献   
24.
李艳阳  杨仕娥  陈永生  周建朋  李新利  卢景霄 《物理学报》2012,61(16):165203-165203
采用高H2稀释的SiH4等离子体放电, 特别是甚高频等离子体增强化学气相沉积技术是当前高速制备优质微晶硅薄膜的主流方法. 尽管在实验上取得了很大的突破, 但其沉积机理一直是研究的热点和难点. 本文通过建立二维时变的轴对称模型,在75 MHz放电频率下, 对与微晶硅沉积非常相关的甚高频电容耦合氢等离子体放电进行了数值模拟, 研究了沉积参数对等离子体特性的影响, 并与光发射谱(OES)在线监测结果进行了比较. 结果表明: 电子浓度 ne在等离子体体层中间区域最大, 而电子温度 TeHαHβ的数密度在体层和鞘层界面附近取极大值; 当气压从1 Torr (1 Torr=133.322 Pa)增大至5 Torr时, 等离子体电势单调降低, 在体层中间区域 ne先快速增大然后逐渐减小, Te先下降后趋于稳定; 随着放电功率从30 W增大到70 W, 电子浓度 neHαHβ的数密度均线性增大, 而电子温度 Te基本保持不变; OES在线分析结果与模拟结果符合得很好.  相似文献   
25.
采用美国宾州大学开发的AMPS(Analysis of Microelectronic and Photonic Structures)软件模拟了p/i界面缺陷态密度(Npt/i)和非晶孵化层厚度(d)对pin型氢化微晶硅(μc-Si:H)薄膜太阳电池性能的影响.结果表明:随着Npt/i的增大,电池的开路电压Voc和填充因子FF单调减小,短路电流Jsc基本不变;随着d的增大,Jsc和FF单调减小,Voc反而增大;Npt/i和d值的增大均会导致电池光电转换效率η下降.通过对电池内部的电场及能带的分析,对上述模拟结果进行了解释.  相似文献   
26.
甚高频高速沉积微晶硅薄膜的研究   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
采用甚高频化学气相沉积(VHF-PECVD)技术制备了系列微晶硅(μc-Si:H)薄膜样品,重点研究了硅烷浓度、功率密度、沉积气压和气体总流量对薄膜沉积速率和结晶状态的影响,绘制了沉积气压和功率密度双因素相图. 以0.75nm/s的高速沉积了器件质量级的微晶硅薄膜,并以该沉积速率制备出了效率为5.5%的单结微晶硅薄膜电池. 关键词: 微晶硅薄膜 高速沉积 甚高频化学气相沉积  相似文献   
27.
All as-deposited AZO films by direct current magnetron reactive sputtering (DC-MS) exhibit ZnO characteristic (002) and (103) diffraction peaks. Especially, AZO films prepared at 200℃ show a strongest (002) c-axis pref- erential orientation due to the minimum stress along the (002) orientation. The results show that larger stress easily induces a rougher surface. The film real and imaginary parts of dielectric constants show a sharp changes near the optical absorption edge due to the interband direct transition. The film blue and red shifts of the optical absorption edge can be explained in terms of the change of Free-electron concentration in as-deposited AZO films.  相似文献   
28.
为提高高铬铸铁的韧性和耐磨性能,以15Cr Mo2Cu1为研究对象,研究纳米颗粒变质剂对高铬铸铁组织、硬度、韧性、耐磨性的影响。对变质处理前后高铬铸铁的硬度和韧性进行实验。结果表明:铸态未变质的组织中,M7C3型碳化物粗大,变质处理后,碳化物尺寸变小,形状由粗大板条状变为小块状;热处理后,变质高铬铸铁硬度平均值可达HRC64.15,冲击平均值可达12.7 J/cm2,提高了耐磨性。  相似文献   
29.
为探讨元素Nb对CuZrAl体系磨损性能的影响,制备了CuZrAlNb非晶复合材料.通过扫描电镜、X射线衍射仪和摩擦磨损试验机分别对Cu44.6Zr48 Al4 Nb3.4和Cu45Zr48Al4Nb3合金的显微组织、相组成及摩擦磨损性能进行研究.结果表明:Nb元素微量添加能够改变合金的显微结构及磨损性能.Cu45Zr48 Al4 Nb3为非晶复合材料,摩擦系数相对较大、耐磨系数最大,磨损机制为黏着磨损并伴随磨粒磨损,耐磨性能好;Cu44.6Zr48Al4Nb3.4为非晶合金,其摩擦系数、耐磨系数小于Cu45Zr48Al4Nb3非晶复合材料,磨损机制为黏着磨损.该研究为实际生产CuZrAlNb非晶复合材料提供了基础数据.  相似文献   
30.
Using a radio-frequency reactive magnetron sputtering technique,a series of the single-phased Ag2O films are deposited in a mixture of oxygen and argon gas with a flow ratio of 2:3 by changing substrate temperature(T s).Effects of the T s on the microstructure and optical properties of the films are investigated by using X-ray diffractometry,scanning electron microscopy and spectrophotometry.The single-phased Ag2O films deposited at values of T s below 200℃ are(111) preferentially oriented,which may be due to the smallest free energy of the(111) crystalline face.The film crystallization becomes poor as the value of T s increases from 100℃ to 225℃.In particular,the Ag2O film deposited at T s = 225℃ loses the 111 preferential orientation.Correspondingly,the film surface morphology obviously evolves from a uniform and compact surface structure to a loose and gullied surface structure.With the increase of T s value,the transmissivity and the reflectivity of the films in the transparent region are gradually reduced,while the absorptivity gradually increases,which may be attributed to an evolution of the crystalline structure and the surface morphology of the films.  相似文献   
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