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Research on the boron contamination at the p/i interface of microcrystalline silicon solar cells deposited in a single PECVD chamber
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This paper studies boron contamination at the interface between the
p and i layers of μ c-Si:H solar cells deposited in a
single-chamber PECVD system. The boron depth profile in the i layer
was measured by Secondary Ion Mass Spectroscopy. It is found that
the mixed-phase μ c-Si:H materials with 40% crystalline
volume fraction is easy to be affected by the residual boron in the
reactor. The experimental results showed that a 500-nm thick μ
c-Si:H covering layer or a 30-seconds of hydrogen plasma treatment
can effectively reduce the boron contamination at the p/i interface.
However, from viewpoint of cost reduction, the hydrogen plasma
treatment is desirable for solar cell manufacture because the
substrate is not moved during the hydrogen plasma treatment. 相似文献
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采用量子化学半经验方法RHF/AM1对4种六元杂环化合物进行水溶液中的构型优化, 经振动分析, 未出现虚频率。在此基础上用RHF/CIS方法分别计算了它们的荧光光谱, 并与其气相计算的结果进行了对比, 在水溶液中的计算结果能更好地符合实验值。 相似文献
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Fabrication of high growth rate solar-cell-quality μc-Si:H thin films by VHF-PECVD 总被引:4,自引:0,他引:4
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Several series of Si:H films were fabricated by the very high frequency plasma enhanced chemical vapour deposition (VHF-PECVD) at different substrate temperatures (T_s) and silane concentration (SC=[SiH_4]/[SiH_4+H_2]%). The results of Raman spectroscopy showed structural evolution of the Si:H films with the variation of T_s and SC. The results of x-ray diffraction (XRD) measurements indicated that T_s also influences the crystal orientation of the Si:H films. The modulation effect of T_s on crystalline volume fraction (X_c) is more evident for the high SC, which shows different trend compared to low SC. In addition, the growth rate of the films also showed a regular change with the variation of SC and T_s. Different samples in the series showed a similar increase in dark conductivity and a decrease in photosensitivity with increasing T_s and decreasing SC. Device-quality microcrystalline silicon materials were deposited at a high growth rate, characterized by relatively low dark conductivity and relatively high photosensitivity in a certain crystalline range. The microcrystalline silicon solar cell with a conversion efficiency of 4.55% has been prepared by VHF-PECVD. 相似文献
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联锁保护系统是加速器驱动次临界系统(ADS)先导专项(C-ADS)核心系统之一,用于对加速器控制及人身和设备保护。为此设计搭建了基于可编程逻辑控制器(PLC)和PROFINET协议的联锁控制系统,对加速器各个关键部件的信号进行采集和控制。为满足加速器对可靠性的严格要求,该联锁系统选用最新型的PLC和I/O模块,并采用高可靠性容错和冗余技术的硬件设计。本文还对该联锁系统的冗余状态和非冗余状态做了可靠性分析对比。基于该系统的实验物理和工业控制系统(EPICS)的控制接口也已成功开发,并在线应用。 相似文献
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