伊曲康唑对K562细胞增殖及HUVEC细胞血管形成的影响

老药新用是许多药物研究者关注的焦点.伊曲康唑作为临床应用近30年的抗真菌药物,其安全性毋庸置疑.近年来研究者们陆续发现伊曲康唑还具有抗肿瘤的作用,然而对于伊曲康唑抑制人慢性髓原白血病的增殖作用却鲜有报道.为了研究伊曲康唑抑制白血病K562细胞增殖的作用及其抑制血管形成的作用,采用MTT法、Annexin VFITC/PI双染法和基质胶血管形成实验等方法研究伊曲康唑对白血病K562细胞存活率、增殖曲线、细胞形态学变化、细胞凋亡、细胞周期变化和管腔形成的影响,揭示了伊曲康唑能够抑制K562细胞增殖并能抑制血管形成,以此为进一步研究与改造伊曲康唑的抗肿瘤作用提供基础数据.     

低碳合金类齿轮钢带状组织的控制

<正>CrMnTi系列及CrMo系列是沙钢集团淮钢特钢有限公司重点开发的低碳合金齿轮用钢,主要用于工程机械、汽车、摩托车等合金类齿轮。随着机械工业的发展,对齿轮钢的淬透性、高低温强度和硬度、抗热裂能力、耐磨性及耐热性都有了更高的要求,而齿轮钢的带状组织是影响其工艺性能和机械性能的重要因素之一,以前生产的20CrMnTi的带状组织及20CrMo带状组织如图1、图2所示,其级别     

浅谈塔式起重机伤害事故的分析和预防

随着建筑业的高速发展，施工对于机械化的依赖程度越来越高，塔式起重机的数量和种类不断增多，起重机械事故也是层出不穷．本文根据笔者常年搜集的资料以及总结工作中遇到的问题对事故类型进行总结，提出预防措施。     

亚硝酸根在纳米氧化锆-CTAB复合物膜修饰电极上的电化学行为及测定

制备了纳米ZrO2,采用XRD和原子力显微镜技术加以表征。构建了十六烷基三甲基溴化铵-纳米ZrO2修饰电极。用循环伏安法和示差脉冲伏安法研究了亚硝酸根(NO2-)在该修饰上的电化学行为,结果表明,该修饰电极对NO2-的氧化具有良好的电催化能力,示差脉冲伏安信号与其浓度在6×10-7～1.6×10-4mol/L范围内呈现良好的线性关系,检出限为1.3×10-7mol/L(S/N=3)。此外,方法已用于NO2-样品的测定。     

碳酸二苯酯与1,4-丁二醇熔融酯交换法合成聚(对亚丁基)碳酸酯的研究

利用TiO2-SiO2(PVP)凝胶基催化剂(TSP),无溶剂条件下,以碳酸二苯酯与1,4-丁二醇为单体,采用常压预聚和真空缩聚两步熔融酯交换法合成了聚(对亚丁基)碳酸酯(PBC),考察了工艺条件,并对PBC的结构及物理性质进行了表征.实验结果表明,最佳工艺条件如下:预聚时间为2 h,预聚温度为220~230℃(N2保护),缩聚温度为220℃,缩聚压力300 Pa,催化剂用量为0.15 wt%.优化条件下,PBC的特性黏数为1.12dL/g,Mn为49000,Mw为101000,PDI为2.07,Tg为-32.32℃,端羟基含量为6.2×10-4mol/g,苯酚残留量为5.26 wt%.在此工艺条件下,通过控制副产物苯酚的蒸出速率及其量,可以实现产品聚合度的可控,且苯酚几乎能够完全回收.     

大规模网络中基于FFT的呼叫阻塞率的快速算法

在大规模网络条件下,Kaufman提出的一维递推快速呼叫阻塞率（CBP）算法由于其呼叫阻塞率的计算将导致系统计算溢出,改进的Kaufman方案虽然消除了计算溢出,但是其计算时间随网络规模的变大呈指数增长．有鉴于此,文中提出了一种基于快速傅立叶变换（FFT）方法和计算溢出避免预处理机制的呼叫阻塞率快速计算方法．仿真结果表明,该算法消除了计算溢出且降低了计算复杂度,具有计算简单、无误差、速度快的优点．     

一种蓝色荧光材料的合成

本文设计和合成了一种带有吡唑啉侧链基因的低聚酰胺,可用作蓝色荧光材料。分子中特殊的氢键序列(AADADD)及芳酰胺链可与制着器件所用的高分子基材分子之间的形成较强的作用力,从而将发光基团“铆定”在功能膜中。     

猪附红细胞体形态特征的光镜和电镜观察

对猪附红细胞体(Ep ery throzoon su is)临床疑似病例和阳性感染手术摘脾猪血样中的病原形态进行的光镜和电镜观察。结果表明E.su is的形态近球形,直径在0.3~1.5μm之间,姬姆萨染色为紫红色圆点状,调节微调后有时可看到周围有淡蓝色的环绕,形似环形。阳性感染猪在摘除脾脏后第5 d出现明显的菌血症,红细胞的感染率18%~60%之间波动。临床疑似病例中只有部分血样为E.su is感染阳性,大部分为阴性;通过对E.su is外周血检查的不同方法进行比较,认为鲜血压片检查不适合作为E.su is感染的病原检查方法,采用血片的姬姆萨染色检查法时应以形态正常的红细胞上看到E.su is作为病原确诊的依据。     

厚胶光刻非线性畸变的校正

利用厚胶光刻技术制作大深度微结构元件是一种有效的途径,但厚胶光刻过程中的非线性畸变对光刻面形质量的严重影响限制了该技术的应用,基于此,提出了一种对掩模透射率函数进行校正的方法。分析空间像形成及其在光刻胶内传递、曝光、显影等过程中非线性因素的影响,利用模拟退火算法对掩模透射率函数进行校正,以提高光刻面形质量,并以凹面柱透镜为例,给出了校正前后的显影轮廓模拟结果,其校正后浮雕面形的体积偏差仅为2.63%。该方法在有效改善面形质量的同时,并没有引起掩模的设计、制作难度及费用增加,这对于设计、制作高质量的微结构元件有重要意义。