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332.
模糊支持向量机中隶属度确定的新方法 总被引:4,自引:1,他引:3
针对目前模糊支持向量机方法中,一般使用样本与类中心之间的距离关系构建隶属度函数的不足,提出一种改进的隶属度确定方法.该方法不仅考虑样本与类中心之间的关系,还考虑样本之间的关系根据样本的类中心与传统支持向量机构造的分类面构建2个超球,由样本点与超球的位置关系计算其隶属度,能够有效地区分样本点、噪音点以及孤立点.通过文本分类实验表明,与其他两种隶属度函数方法相比,基于双超球的模糊支持向量机方法可以更有效地将文本训练集中的噪音剔除,具有较好的分类性能. 相似文献
333.
选用辛酸亚锡[Sn(Oct)2]和钛酸四丁酯(TBT)作为聚乳酸(PLA)/聚碳酸亚丙酯(PPC)的酯交换反应催化剂, 研究了溶液条件下单一催化剂及复合催化剂对PLA/PPC酯交换反应的催化作用. 通过对反应产物的分子结构、 热力学及流变学行为进行分析, 结果发现, 无论在单一催化剂还是复合催化剂作用下, PLA与PPC分子间均发生了酯交换反应, 同时伴随着断链反应. 其中, 当Sn(Oct)2作为单一催化剂或Sn(Oct)2/TBT作为复合催化剂时, 样品更倾向发生断链反应而非显著的酯交换反应. 进一步分析纯样品在催化剂Sn(Oct)2或TBT作用下的反应情况, 结果发现, PPC在反应最初阶段以高分子量的分子链断链为主, 且会发生明显的解拉链降解, 从而导致PLA/PPC在等质量比时酯交换反应程度不高, 这为今后更好地研究PLA/PPC酯交换反应提供了思路. 相似文献
334.
由于需要优化设计布水器,对其性能参数进行了深入研究,设计安装了布水器性能测试平台及测温系统.该平台可用于对比分析不同参数、不同类型布水器的斜温层效果,通过相关模拟计算及实验,初步得出相同出口流速的径向型布水器在大雷诺数也可以取得较好的斜温层效果,另外,在相同出口流速及一定的容忍度下,八角形布水器的斜温层效果优于径向型,而在相同雷诺数下,径向型布水器的分层效果优于八角形布水器. 相似文献
335.
336.
337.
变压器油中溶解气体含量检测故障诊断仪的设计 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了应用变压器油中溶解气体含量检测来诊断变压器故障的方法,针对气体传感器之间存在的"交叉敏感"设计了基于人工神经网络的气体检测系统.神经网络采用使用最为广泛的BP网络.从而能构成对气体的较准确的分析测试.单片机选择Intel 16位的80C196KB,简化了接口电路的设计.设计中采用了油中气体分析法来确定变压器的故障并通过数码管显示出故障类型并由单片机来实现. 相似文献
338.
文章利用分子束外延(molecular beam epitaxy,MBE)法在蓝宝石衬底上制备拓扑绝缘体Bi_2Se_3和掺杂Mn的拓扑绝缘体Bi_2Se_3的异质结薄膜。利用反射高能电子衍射仪(reflection high-energy electron diffraction,RHEED)和X射线衍射仪(X-ray diffraction,XRD)对不同条件制备的样品晶相进行分析,获得最优的制备参数,主要包括衬底温度为390℃、Bi和Se的流量比为1∶10以及Mn流量对应的温度为590℃;利用综合物性测量系统(physical property measurement system,PPMS)测量了样品的温度电阻、磁电阻和霍尔电阻。测量结果表明,与纯Bi_2Se_3薄膜相比,Bi_2Se_3和掺杂Mn的Bi_2Se_3构成的异质结薄膜的电阻随温度的升高表现出金属性-绝缘性的转变和更强的磁阻特性,而且由于异质层间的近邻效应导致异质薄膜表现出p型导电特性。 相似文献
339.
以烟炱为原料制备水溶性碳量子点(CQDs),此碳量子点具有过氧化物模拟酶活性,可催化H_2O_2氧化3,3',5,5'-四甲基联苯胺(TMB)产生显色反应,而葡萄糖氧化酶(GOx)可催化葡萄糖氧化产生H_2O_2,基于上述原理,建立了一种以CQDs为过氧化物模拟酶的葡萄糖测定方法。以TMB为底物,研究了温度、p H值等条件对催化性能的影响。结果表明,pH 3.5、35℃、0.5 mmol/L TMB、1μg/mL CQDs时,此方法检测葡萄糖的线性范围为0.025~0.40 mmol/L,检出限为5.10μmol/L(S/N=3),尿液中的常见干扰物不干扰测定。实际尿液中的加标回收率为95.0%~105.1%。 相似文献
340.
利用传输矩阵法理论,研究介质光学厚度对一维光子晶体(AB)5(ACB)2(AB)5缺陷模的影响,结果表明:随着介质A、B或C的光学厚度按奇数倍、偶数倍增大时,光子晶体主禁带中的缺陷模均向禁带中心移动,出现缺陷模向禁带中心简并的趋势,且光学厚度按奇数倍增加时简并的趋势更明显,同时缺陷模移动速度以A介质光学厚度奇数倍增大时为最快;当介质A、B或C的光学厚度按奇或偶倍数增大到一定数值时,均出现对称分布于禁带中心两侧的新缺陷模,而且光学厚度按偶数倍增大时出现的新缺陷模要比偶数倍增大时的快。介质光学厚度对光子晶体缺陷模的影响规律,对光子晶体设计窄带多通道光学滤波器件、高灵敏度光学开关等具有积极的参考意义。 相似文献