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941.
由于影响基坑沉降的因素较多,并且在实际工作中监测数据存在非等距的情况,通过传统的非等距GM(1,1)模型的建模原理分析了其预测精度低的原因,同时指出背景值是影响非等距GM(1,1)模型精度的关键因素之一.在此基础上,提出运用Newton插值法和Newton-Cotes求积公式优化背景值,结合工程实例,表明优化后的非等距GM(1,1)模型在沉降预测中的有效性. 相似文献
942.
943.
每年高考解析几何试题总是五彩缤纷、精彩不断,不乏有许多点睛之作,或给人以启迪,或给人以思考.研究高考试题,这是我们教学研究的一个规定动作,引导学生剖析试题内涵,寻找试题间的联系,这是我们教学中不得不停留的地方,所以我们可以从联系的角度去审视高考试题,置知识于系统中,着眼于知识之间的联系和规律,从而深入数学的本质. 相似文献
944.
945.
LEACH协议和PEGASIS协议是典型的分层路由协议,但是也有各自的不足。在LEACH协议中会出现分簇不均的问题,而PEGASIS协议中,算法会导致长链,Leader的选举策略使节点能量消耗不均匀,并且还有拓扑重构的问题。基于LEACH协议和PEGASIS协议提出了一种新协议,该协议通过均分区域避免长链和分簇不均,以剩余能量最大的节点作为Leader节点的策略避免节点能量消耗不均,采用刷新路由表的方式避免拓扑重构。仿真实验的结果表明,本协议在均衡节点能量消耗和延长网络寿命方面能取得更好的效果。 相似文献
946.
在空气中900℃温度下,对纯天然无水芒硝(Na2SO4)和TbF3的混合粉末加热20min,制备了Na2SO4:TbF3发光材料。并测量了在室温中真空紫外-紫外光下的发射和激发光谱。发射光谱有一系列由于Tb3+离子的5D4→7FJ(J=6,5,4,3,2)和5D3→7FJ(J=6,5,4,3,2)跃迁发射峰。通过监测542nm处发光得到的激发光谱,分别由Tb3+离子4fn→4fn-15d跃迁(187,193,218nm),基质吸收(165,200,240nm)引起的强激发谱和禁戒的f-f跃迁产生的弱激发谱组成。在TbF3的掺杂量在0.3%~2%范围内,随着Tb3+离子掺杂量的增加,真空紫外区的激发谱相应地逐渐增强。 相似文献
947.
运用2006~2008年创新类券商年报的面板数据,采用非参数Malmquist指数方法,实证分析了我国创新类证券公司增长过程中全要素生产率的变动状况,并将其进一步分解为技术效率和技术进步.研究结果表明,2006~2008年我国创新类证券公司全要素生产率的平均增长率为19%,主要原因是技术进步水平的提高,但同时存在着纯技... 相似文献
948.
应用高雷诺数k-e湍流模型进行了轴流压气机叶轮内三维流动的计算.使用SIMPLE型算法求解了全三维雷诺平均质量加权N-S方程.对流项采用了高阶精度的上游加权近似和TVD类型的MUSCL差分格式.采用非正交适体坐标和同位网格系,速度的协变物理分量被选作为独立求解变量.为了消除非物理的压力和速度振荡,对界面上的逆变速度分量采用Rhie和Chow动量插值方法.求解中考虑了周期边界条件和运动壁面边界条件.对两个轴流叶轮进行了计算,计算结果表明全三维湍流计算能有效地预测轴流叶轮对道内及无叶间隙处的分离,以便改进气动设计、几何设计以提高轴流压气机的性能. 相似文献
949.
Effects of high-dose Ge ion implantation and post-implantation annealing on ZnO thin films 下载免费PDF全文
This paper reports that ion implantation to a dose of 1×1017
ions/cm2 was performed on c-axis-orientated ZnO thin films deposited on
(0001) sapphire substrates by the sol-gel technique. After ion implantation,
the as-implanted ZnO films were annealed in argon ambient at different
temperatures from 600-900℃. The effects of ion implantation
and post-implantation annealing on the structural and optical properties of
the ZnO films were investigated by x-ray diffraction (XRD),
photoluminescence (PL). It was found that the intensities of (002) peak and
near band edge (NBE) exitonic ultraviolet emission increased with increasing
annealing temperature from 600-900℃. The defect related deep
level emission (DLE) firstly increased with increasing annealing temperature
from 600- 750℃, and then decreased quickly with increasing
annealing temperature. The recovery of the intensities of NBE and DLE occurs
at \sim 850℃ and \sim 750℃ respectively. The relative
PL intensity ratio of NBE to DLE showed that the quality of ZnO films
increased continuously with increasing annealing temperature from 600 -
900℃. 相似文献
950.
采用基于密度泛函理论的平面波超软赝势方法对纯Al N,Cu单掺杂以及Cu与O共掺杂Al N超胞进行了几何结构优化,计算了掺杂前后体系的晶格常数、能带结构、态密度与光学性质.结果表明:掺杂后晶格体积增大,系统能量下降;Cu掺入后Cu 3d电子与N 2p电子间有强烈的轨道杂化效应,Cu与O共掺后Cu和O之间的吸引作用克服了Cu原子之间的排斥作用,能够明显提高掺杂浓度和体系的稳定性.光学性质分析中,介电函数计算结果表明Cu与O共掺杂能改善Al N电子在低能区的光学跃迁特性,增强电子在可见光区的光学跃迁;复折射率计算结果显示Cu与O掺入后由于电磁波穿过不同的介质,导致折射率发生变化,体系对低频电磁波吸收增加. 相似文献