全文获取类型
收费全文 | 193篇 |
免费 | 17篇 |
国内免费 | 9篇 |
专业分类
化学 | 19篇 |
晶体学 | 2篇 |
力学 | 7篇 |
综合类 | 1篇 |
数学 | 7篇 |
物理学 | 44篇 |
综合类 | 139篇 |
出版年
2024年 | 4篇 |
2023年 | 9篇 |
2022年 | 11篇 |
2021年 | 13篇 |
2020年 | 8篇 |
2019年 | 8篇 |
2018年 | 11篇 |
2017年 | 11篇 |
2016年 | 7篇 |
2015年 | 13篇 |
2014年 | 18篇 |
2013年 | 15篇 |
2012年 | 8篇 |
2011年 | 11篇 |
2010年 | 15篇 |
2009年 | 9篇 |
2008年 | 21篇 |
2007年 | 4篇 |
2006年 | 6篇 |
2005年 | 4篇 |
2004年 | 3篇 |
2003年 | 1篇 |
2002年 | 1篇 |
2001年 | 1篇 |
2000年 | 3篇 |
1999年 | 1篇 |
1998年 | 2篇 |
1997年 | 1篇 |
排序方式: 共有219条查询结果,搜索用时 15 毫秒
11.
12.
13.
城市道路工程中存在的质量问题是可以预防并消除的,为了保证工程质量,使我们的市政道路工程做得更好、更完美,我们应该进一步理顺质量管理体系,提高企业内部素质,加强对工程实施过程中的监督管理,抓住关键问题和重要工序,严格遵守设计及施工规范技术标准,控制质量问题的出现,引入责任到人的竞争机制,从制度上保证工程质量的稳步提高,确保在施工过程中努力克服各种通病,力争市政工程施工质量达到优良。本文主要对城市道路工程中存在的问题进行了分析,进而提出相应的防治措施。 相似文献
14.
基于GIS和USLE模型的巢湖流域土壤侵蚀评价 总被引:3,自引:0,他引:3
土壤侵蚀是全世界都关心的土地资源与环境保护问题。巢湖作为中国第五大淡水湖,近年来由于水体富营养化产生的水华现象引起多方重视,对巢湖流域土壤侵蚀评估对于环境保护战略与土地规划政策具有重要的意义。基于GIS平台,采用通用土壤流失方程(USLE)来评估巢湖流域14县/区2000年到2010年土壤侵蚀空间分布变化趋势。研究表明:(1)巢湖流域土壤侵蚀严重区域主要分布在金安区、舒城县、居巢区以及含山县的丘陵地区,即杭埠河-丰乐河流域、裕溪河流域与柘皋河流域的上游地区;(2)从2000年到2010年,土壤微度侵蚀、强度侵蚀、极强度侵蚀和剧烈侵蚀区域占巢湖流域总面积比例分别减少了0.5%、0.05%、0.21%和0.23%,而轻度侵蚀、中度侵蚀区域所占比例分别增加了0.98%和0.01%,总体呈现土壤强度侵蚀、极强度侵蚀与剧烈侵蚀区域向轻、中度侵蚀转移的趋势。(3)植被覆盖度变化是巢湖流域土壤侵蚀分级发生变化的主要原因,总体上,2000~2010年研究区由于植被覆盖度的波动性增加呈现土壤侵蚀分级波动性降低的趋势。 相似文献
15.
CrN弹性和热力学性质的第一性原理研究 总被引:1,自引:0,他引:1
本文采用平面波赝势密度泛函理论方法研究了立方相CrN平衡态的结构和弹性性质,计算结果与已有的实验值和理论值符合较好.首次利用准谐德拜模型计算了CrN的热力学性质,得到了不同温度下,CrN的体积随压强的变化关系,以及德拜温度、摩尔热容量、熵和内能随压强及温度的变化关系. 相似文献
16.
采用静电纺丝技术结合溶胶过程制备W(V)掺杂的PVP/(NH4)6Mo7O24·4H2O前躯体,经缓慢控温焙烧前躯体,600℃时获得结晶度良好的MoO3及Mo0.97W(V)0.03O3-δ微纳米片.通过热重-差热分析(TG-DTA)、X-射线光电子能谱(XPS)、红外光谱(FT-IR)、X-射线粉末衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FE-SEM)和紫外-可见分光光度计(UV-Vis)等表征手段研究W(V)掺杂对MoO3微纳米片晶体生长和结构的影响;以亚甲基蓝(MB)的光降解为模型反应研究其光催化性能.结果表明,热处理温度600℃时生成的Mo0.97W(V)0.03O3-δ纳米片光催化活性最好. 相似文献
17.
粘土或泥页岩的比表面积与其膨胀压或水化趋势有函数关系,是表征泥页岩水化特性或粘土膨胀量的指标。目前,测定粘土或泥页岩比表面积的方法较多,本文选择了两种方法进行对比实验研究。结果表明, CST法是一种简便、省时且较为精确的方法。 相似文献
18.
为了解决在单晶硅衬底上生长的InGaN/GaN多层量子阱发光二极管器件发光效率显著降低的问题,使用周期性δ型Si掺杂的GaN取代Si均匀掺杂的GaN作为n型层释放多层界面间的张应力。采用稳态荧光谱及时间分辨荧光谱测量,提取并分析了使用该方案前后的多层量子阱中辐射/非辐射复合速率随温度(10~300 K)的变化规律。实验结果表明引入δ-Si掺杂的n-GaN层后,非辐射复合平均激活能由(18±3)meV升高到(38±10)meV,对应非辐射复合速率随温度升高而上升的趋势变缓,室温下非辐射复合速率下降,体系中与阱宽涨落有关的浅能级复合中心浓度减小,PL峰位由531 nm左右红移至579 nm左右,样品PL效率随温度的衰减受到抑制。使用周期性δ型Si掺杂的GaN取代Si均匀掺杂的GaN作为生长在Si衬底上的InGaN/GaN多层量子阱LED器件n型层,由于应力释放,降低了多层量子阱与n-GaN界面、InGaN/GaN界面的缺陷密度,使得器件性能得到了改善。 相似文献
19.
20.