激光诱导等离子体光谱技术的实验装置进展

简述了近几年来国内外激光诱导等离子体技术的发展情况,着重从实验装置的几个方面进行分析,包括激光能源、采光装置、接收装置。另外对双路脉冲激光蒸发、激发技术进行了简短的讨论。     

柚皮蒸馏产物的GC/MS分析

用水蒸气蒸馏法对柚皮外果皮进行了挥发性成分提取。用GC/MS分析法进行了分离鉴定,初步分离出50余个峰,鉴定了44种物质,用面积归一法测定其质量分数。在被测物质中,烃类化合物有13种和含氧有机化合物有31种,主要物质为柠檬烯(75.09%),α 蒎烯(0.84%),β 月桂烯(6.71%),芳樟醇(1 08%),芳樟酯(1.43%),萘酮(4.89%)。     

有机药物分子与DNA相互作用的研究进展

综述了有机药物分子与DNA相互作用的模式、影响因素、并着重介绍了其相互作用的电化学等研究方法,概括了其近几年的研究进展,并在此基础上提出了在药物分子与DNA相互作用的研究工作中应解决的问题.     

氯唑沙宗在SC-CO2中的溶解及微粒制备

用静态法测定氯唑沙宗在超临界CO2中的溶解度,考察温度(308~328K)和压力(10~30MPa)对溶解度的影响,并用经验关联方程对其进行关联。研究结果表明:氯唑沙宗的溶解度可达到105mol/mol,满足超临界流体快速膨胀(RESS)的实验要求;经验方程Chrastil及其修正式的关联效果比Mendez-Santiago-Teja方程好,特别是Adachi和Lu-Chrastil修正式,平均值绝对相关偏差(AARD)为0.0170。另外,通过超临界流体快速膨胀技术制备长度为0.5~5μm,宽度为0.1~1μm的氯唑沙宗棒状颗粒,体积为原料的1/20,甚至更小。实验证明,粒子的具体大小和形状与平衡温度(308~328 K)、平衡压力(10~30 MPa)、喷嘴温度(343~383 K)、喷嘴直径(0.1~0.4 mm)和喷射距离(10~30 mm)等操作参数密切相关。因为这些操作参数影响着超临界流体的溶解度、过饱和度和扩散情况等,从而决定了晶核的形成和生长。     

拟南芥花粉表面蛋白基因T-DNA插入突变体的鉴定

花粉表面蛋白质（Pollen coat proteins,PCPs）是一类在被子植物进行繁殖生长过程中起着重要作用的蛋白质．它们参与了花粉与柱头的识别、黏附、水合等过程,直接影响花粉的萌发能力．根据已经建立的拟南芥花粉表面蛋白数据库中的信息,从关国拟南芥生物资源中心购买了有T—DNA插入的SALK株系种子,并对这些株系进行了T—DNA插入位点的鉴定,实验结果为进一步研究花粉表面蛋白质奠定了基础．     

多元共渗处理对30Cr2MoV钢性能的影响

采用多元共渗的方法,分别在570℃,2 h,590℃,2 h,610℃,2 h的条件下对经过调质处理的30Cr2MoV钢进行多元共渗处理。通过金相分析、硬度测试、拉伸试验和腐蚀试验的方法测试分析了处理后样品的表面形貌、硬度分布、力学性能和抗蚀性。结果表明：经多元共渗处理后,材料的表面硬度,强度和抗蚀性均得到不同程度的提高,特别是经过590℃,2 h共渗处理后的样品综合性能最好。     

后奥运时期中国竞技体育的出路

在2008年北京奥运会上,我国竞技体育取得了巨大的突破。本文运用文献资料法、逻辑分析法等方法,通过审视中国竞技体育所折射出的问题,分析改革的重要性等方面,结合我国竞技体育的发展现状,阐述了后奥运时期中国竞技体育的出路,充分发挥我国社会主义制度的优越性,使中国竞技体育事业在后奥运时期更加辉煌。     

钒对日本青鳉的急性毒性及安全评价

以不同月龄的日本青鳉为受试生物,采用半静止生物测试法,比较研究V(Ⅴ)对日本青鳉成鱼和幼鱼的急性毒性效应.结果表明:V(Ⅴ)对日本青鳉成鱼的72 h和96 h LC50分别为4.91 mg/L和2.73 mg/L,安全质量浓度为0.273 mg/L,钒对幼鱼的72 h和96 h LC50分别为0.85 mg/L和0.43 mg/L,安全质量浓度为0.042 7 mg/L.根据有毒物质对鱼类的急性标准可得钒对日本青鳉有中至高等毒性,幼鱼对钒的毒性更为敏感.     

沉积态铀薄膜表面氧化的X射线光电子能谱

含铀(U)薄膜在激光惯性约束聚变的实验研究中有重要的用途.研究其在不同气氛下的氧化性能可以为微靶制备、储存及物理实验提供关键的实验数据.通过超高真空磁控溅射技术制备了纯U薄膜及金-铀(Au-U)复合平面膜,将其在大气、高纯氩(Ar)气及超高真空度环境中暴露一段时间后,利用X射线光电子能谱仪结合Ar~+束深度剖析技术考察U层中氧(O)元素分布及价态,分析氧化产物及机理.结果显示,初始状态的U薄膜中未检测到O的存在.Au-U复合薄膜中的微观缺陷减弱了Au防护层的屏蔽效果,使其在3周左右时间内严重氧化,产物为U表面致密的氧化膜及缺陷周围的点状腐蚀物,主要成分均为二氧化铀(UO_2).在高纯Ar气中纯U薄膜仅暴露6 h后表面即被严重氧化,生成厚度不均匀的UO_2.在超高真空度环境下保存12 h后,纯U薄膜表面也发生明显氧化,生成厚度不足1 nm的UO_2.Ar~+束对铀氧化物的刻蚀会因择优溅射效应而使UO_2被还原成非化学计量的UO_(2-x),但这种效应受O含量的影响.     

基于动态电压调节的高性能业务系统能耗优化

提出一种面向高性能业务主机基于动态电压调节技术的能耗优化方法,该方法测量应用程序在不同频率下的性能和能耗,并建立性能约束下的能耗优化模型,优化业务系统的能耗;利用功率计测试了3种典型计算机系统在不同频率下运行程序的能耗;根据测试数据和系统能耗优化模型,对能耗优化方法进行了实验验证,结果显示:对于不同的时间约束条件和程序,所提方法可以节省16％的系统能耗.