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报道了用射频等离子体溅射的方法在高阻单晶硅衬底上制备碳氮非晶薄膜,并利用拉曼光谱和红外吸收谱对其进行的结构分析研究.分析结果表明该膜中氮主要以CN,CN键形式与碳结合.在对薄膜进行退火处理后,薄膜的红外透过率增加,同时还观察到CN单键的红外吸收峰.说明高温退火对CN单键的形成有促进作用 相似文献
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铷原子频标中微波腔HE_(111)模的谐振特性 总被引:1,自引:0,他引:1
采用模匹配法对铷原子频标中圆柱谐振腔HE_(111)模的谐振特性进行了理论分析。通过计算几种填充复杂结构介质的圆柱谐振腔的TE_(011)模的谐振频率,并与仿真结果相对照,验证了该方法的正确性。在此基础上,对腔泡位置、长度对HE_(111)模的谐振频率的影响进行了分析。其结论对于原子频标中谐振腔的设计及介质加载谐振腔理论的完善具有一定的理论指导价值。 相似文献
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用金属有机气相外延生长了一系列具有不同应变、不同周期以及不同缓冲层的InGaAs应变超晶格。用X射线双晶衍射方法得到了样品的摇摆曲线。结合计算机模拟得到了样品的应变、组分等结构参数。对不同缓冲层的超晶格结构也进行了分析。 相似文献
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本文探讨了LP-MOVPE法在GaAs和InP衬底上生长21个周期的InGaAs/GaAs和20个周期的InGaAs/InP两种应变超晶格的条件,并用X射线衍射分析了这两种应变超晶格,分析观察到三级卫星峰和六级卫星峰。 相似文献
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采用模匹配法对铷原子频标中多层介质加载圆柱谐振腔TEo模的谐振特性进行了分析.通过计算多种填充复杂结构介质的圆柱谐振腔的谐振频率并与已有结果相对照,验证了该方法的正确性,在此基础上分析了影响谐振频率的一些主要因素.采用的方法精确、有效,其结论对于原子频标中谐振腔的设计及介质加载谐振腔理论的完善具有一定的理论指导价值. 相似文献
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表面科学技术在空间的应用 总被引:4,自引:0,他引:4
介绍了表面科学技术在空间的应用、内容包括航天器表面与空间环境的相互作用,空间材料表面改性,空间薄膜以及涂镀层技术。 相似文献
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射频溅射制备α-Ge/SiO2多层膜崔敬忠彭军张兴旺陈光华张仿清(兰州大学物理系,兰州730000)由于在非晶太阳能电池和半导体器件方面的重要性,α-Ge和α-SiO2得到了深入的研究[1,2].近年来,用共溅射的方法制备的Ge/SiO2纳米材料由... 相似文献