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151.
提出一种新式变速皮带轮的结构并对其传动原理加以阐述,给出这种皮带轮的运动设计方法.  相似文献   
152.
This paper presents the SERS spectra of quinoline adsorbed on iron deposited on the silver electrode by the cathodic reaction of ferrousion. Adsorption and inhibition mechanism of quinoline were discussed by means of the SERS spectra.  相似文献   
153.
战略环境评价是环境评价的重要组成部分.其理论体系、评价指标、评价方法必须与经济发展与环境保护相协调.坚持可持续发展战略.研究战略环境评价方法的目的在于拓展环境评价的领域.本文较详细地论述了战略环境评价体系的建立.同时从社会、经济、环境高度协调发展的角度.探讨战略性环境影响评价的实质和特点.提出了“综合协调效益法”。对促进环境影响评价学科的发展具有一定的指导意义.  相似文献   
154.
化学沉积银膜上SERS效应研究   总被引:2,自引:1,他引:1  
  相似文献   
155.
日本大学中基础教学的调研项目,在1990-1993年阈实施。该项目由筑波大学原康夫教授主持领导,科研经费由日本政府的科、教、文部省专款拔给。参加该项目工作的,有来自各类大学从事物理教学的二十九位教授。他们叉组成几个工作小组,从事下述调研:  相似文献   
156.
用改良的Kepes磷酸饥饿法诱导大肠杆菌K—12AM1264同步化生长,细胞经8轮同步化步骤后可在磷酸不限制培养基中自由生长保持2~3次同步化细胞周期。K—12AM1264大肠杆菌的细胞增倍和分化周期分别为55和15min,同步化细胞周期可分达3个时相。细胞分裂期(P),细胞分裂和染色体复制起始间期(Q)以及染色体复制起始和细胞分裂间期(R)。R期又可分R1和R2两个亚期。在R1亚期胸腺呼啶掺入DNA的速度增加,在R2亚期掺入速度保持恒定。R1和R2期分别为15和10min。  相似文献   
157.
红外光学材料折射率温度系数测量装置   总被引:2,自引:2,他引:0       下载免费PDF全文
本文介绍一台红外光学材料折射率温度系数测量装置。该装置是由温控系统、精密测角系统、光学系统和电器控制系统等组成的一台高精度全自动化测量系统,采用改进的自准直法测量折射率温度系数值。该装置达到的主要技术指标:工作波长为2~12μm,温度范围为-50~150℃,测量不确定度为3%,可满足各种红外光学材料折射率温度系数测量的要求。利用该装置对红外材料锗折射率温度系数值进行了测量,并对测量数据进行了报道。  相似文献   
158.
杜石然先生早年偶读三上义夫《东西数学史》对数学史发生兴趣,开始业余研究数学史,1957年考入中国科学院,师从李俨、钱宝琮先生,开始数学史的专业研究.“文革”后,他转向中国科技通史和中国思想史的研究.1990年退休后,在日本佛教大学等执教十年.在这篇访谈中,科学史家杜石然先生回顾了他从事中国数学史和中国科学史研究的半个多世纪的历程,总结了编撰《中国数学简史》、《中国科学技术史稿》等重要学术著作的经验,并展望了中国科学技术史和中国数学史研究的前景.  相似文献   
159.
基团转移嵌段共聚研究   总被引:1,自引:1,他引:0  
本文采用双官能团引发剂和负离子型催化剂进行了甲基丙烯酸甲酯和甲基丙烯酸C7~9酯的基团转移嵌段共聚.讨论了温度、单体投料方式、引发剂-催化剂浓度比及单体浓度对聚合反应的影响,认为当两段反应温度分别为85℃和25℃时,引发剂浓度[I]=1.35×10-2mol/L,催化剂引发剂浓度比[Cat]/[I]=0.126,以活性较低的C7~9MA为第一嵌段单体,有利于C7~9MA和MMA的嵌段共聚.测定了嵌段共聚物的热形变温度;用GPC对嵌段共聚物的相对分子质量及分布进行了表征,结合IR、1HNMR和热形变温度分析,证明所得到的为PMMA-PC7~9MA-PMMA均相三嵌段共聚物.  相似文献   
160.
直流磁控溅射沉积含He钛膜的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了用He/Ar混合溅射气体的直流磁控溅射制备钛膜中,He的掺入现象.分析结果表明,大量的He原子(He/Ti原子比高达56%)被均匀地引入到Ti膜中,其He含量可由混合溅射气体的He分量精确控制.通过调节溅射参数,可实现样品中He的低损伤引入.研究还发现,溅射沉积的含氦Ti膜具有较高的He成泡剂量和高的固He能力,这可能是溅射沉积形成了纳米晶Ti膜所致.纳米晶Ti膜较粗晶材料具有很高浓度的He捕陷中心,使He泡密度增大而泡尺寸减小.随He引入量的增加,Ti膜的晶粒尺寸减小,He引起的晶体点阵参数和X射线衍射峰宽度增大,晶体的无序程度增加.Helium trapping in the Ti films deposited by DC magnetron sputtering with a He/Ar mixture was studied. He atoms with a surprisingly high concentration (He/Ti atomic ratio is as high as 56%)incorporate evenly in deposited film. The trapped amount of He can be controlled by the helium partial amount. The introduction of the helium with no extra damage(or very low damage) can be realized by choosing suitable deposition conditions. It was also found that because of the formation of nanophase Ti film a relative high He flux for bubble formation is needed and the amount of the retain He in sputtering Ti films is much higher than that in the coarse grain Ti films. The nanophase Ti film can accommodate larger concentration of trapped sites to He, which results in a high density and small size of the He bubbles. With the increasing He irradiation flux, the grain size of Ti film decreases and the lattice spacing and width of the X ray diffraction peak increase due to the He introduction, and the film tends to amorphous phase.  相似文献   
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