关于丢番图方程x3+1=86y2整数解的讨论

利用递归数列、同余式证明了丢番图方程x^3＋1=86y^2仅有整数解（x,y）=（-1,0）,（7,±2）。     

微表处在高速公路沥青混凝土路面维修工程中的应用

微表处作为一种良好的路面养护措施,现已广泛应用于高速公路的养护.结合贵州省某高速公路沥青混凝土路面维修工程,从原材料选择、混合料的设计、施工及使用情况等方面,介绍了微表处技术实际运用的实施效果.     

论钙在植物细胞中盐胁迫信号转导中的作用

阐述了在植物细胞中盐胁迫对钙信使系统的影响,以及钙在调节蛋白激酶、离子通道、离子泵中的作用,并分析了钙和ABA在转导盐胁迫信号中的相互作用。     

基于HFSS的双层宽带微带贴片天线的研究

采用HFSS10电磁场仿真软件设计和仿真了一种新型宽频带双层微带贴片天线,本文中天线采用聚四氟乙烯和空气两层介质,通过增加空气介质层的厚度,同时利用圆形金属电容片补偿馈电探针引起的电感,对微带天线进行耦合馈电,仿真结果表明天线的阻抗带宽达到了23%（VSWR≤2）,从而实现了宽频带微带天线的设计.     

基于Nd∶YVO_4晶体四波段腔面膜的研制

黄光激光器作为一种接近人眼敏感区域的激光器在诸多领域都发挥着重要的作用,而谐振腔又是激光器中重要组成部分.本文以Nd∶YVO4(c-cut)晶体为基底,利用真空镀膜设备研制出四波段腔面膜.通过分析膜系设计过程中膜层电场强度和优化膜系,使膜层中驻波场强得到合理分布,从而在理论上减小膜层损伤的可能性;通过TFCalc软件对测试结果进行工艺反馈分析,经过多次模拟实验,发现在不同控制波长下,采用相同监控方法监测不同的膜厚比例系数,通过调整工具因子解决了光谱曲线漂移的问题,制备出膜层牢固、化学性能稳定、满足四个波段光谱输出的黄光激光器腔面膜.     

Methodological Study on AMS Measurement of U Isotope Ratios in Nanogram U Samples

The determination of uranium isotopic composition in trace samples is important in different fields. A new measurement method that uses an accelerator mass spectrometry （AMS） technique has been developed for the analysis of uranium isotopic ratios in ultra-trace uranium samples at the China Institute of Atomic Energy. As result, about 5-nanogram level uranium samples analyzed with AMS is achieved.     

耀变体S5 0716+714的混沌特性研究

长期观测显示,耀变体S5 0716+714具有复杂的光变行为.本文运用混沌理论,研究了S5 0716+714四个较大爆发阶段的射电、光学和X波段的光变曲线.分别计算了它们的关联维和Lyapunov指数.结果表明:1)光变曲线的关联维和Lyapunov指数都介于纯混沌系统与随机噪声之间;2)相轨迹是一个与Rossler吸引子相似的混沌系统,由于受到各种内在或外在因素的影响产生噪声,导致关联维和Lyapunov指数均比Rossler吸引子大,相轨迹出现紊乱.从这两个混沌判据上看,三个波段均表现出很强的混沌特性,因此推断S50714+716的光变是一个混沌现象.     

前后光栅周期对于双光栅结构薄膜太阳能电池光俘获效应的影响

本文用时域有限差分法对硅层等效厚度为100 nm的具有不同前后光栅周期的介质/金属双光栅结构薄膜太阳能电池进行了模拟分析,比较了三角形最佳相同与不同周期光栅结构的吸收光谱特性,分析了光栅高度、填充比、硅吸收层厚度对最佳相同和不同周期光栅结构光吸收特性的影响,以及相应结构中导致光吸收增强的共振模式.结果表明前后光栅周期为1:1的共形双光栅结构中存在光泄漏现象,偏离1:1后的光栅结构可有效地抑制低级次衍射光的泄漏,前光栅周期小于后光栅周期的结构光吸收性能的提高来自于平面波导模式在吸收层中的有效激发和传播,而前光栅周期大于后光栅周期的结构光吸收性能的提高则来自于后光栅界面上所激发的等离子体极化模式.在较厚的硅吸收层厚度,前后光栅周期比为1:2和1:3的电池结构也会出现光泄漏现象,从而使具有最大光吸收效率的结构偏离这些周期比结构的位置.     

卫星激光通信滤光膜的研制

为满足卫星激光通信中超高速数据传输的特殊要求,采用电子束和离子辅助沉积技术,制备了532 nm、632 nm和1 064 nm波长处高反射,808 nm和1 550 nm处高透射的多波段滤光膜.选取了H₄和SiO₂作为高低折射率材料,通过对膜系设计曲线的不断优化,减少了灵敏层的个数,得到了相对易于制备的膜系结构;采用电子束加热蒸发方法并加以离子辅助沉积系统制备薄膜, 采用光控与晶控同时监控的方法控制膜厚;通过不断调整工艺,提高了薄膜的抗激光损伤能力,减小了膜厚控制误差,提高了透射波段的透过率及反射波段的反射率,最终得到了光谱性能较好的滤光膜.该薄膜能够承受雨淋、盐雾、高低温等环境测试,满足使用要求.