粉体流动性能的测试研究

运用Carr和Jenike两种粉体流动性能的测试方法对水泥生料的流动性能进行了测试研究，并就相关结果进行了比较，研究表明Jenike法能更全面的反映出粉体的流动性能。     

兰州皋兰山顶春季大气气溶胶的监测与分析

对兰州皋兰山顶春季大气气溶胶连续采样，得到了大气背景、浮尘、扬沙、沙尘暴等不同天气条件下的气溶胶质量浓度．通过沙尘天气的过程分析，得到不同沙尘天气条件下，TSP浓度的时间变化规律．与兰州大学小二楼顶的监测数据进行比较分析，可以看出兰州市的污染状况和TSP的时空分布．通过各类沙尘天气不同粒径气溶胶粒子的浓度分析，发现气溶胶粒子粒径的分布规律和气溶胶来源不同．     

缓蚀阻垢剂水解聚马来酸酐的研究和应用

水解聚马来酸酐（HPMA）是一种无磷水处理剂,能与水中钙、镁等离子形成螯合物,并能促使晶格畸变.HPMA的阴离子被碳酸钙晶核吸附后,使晶核带有电荷,由于同性电相斥,微小的晶粒分散到水溶液中,使沉淀转为流动性好的松散性水渣,对剥离老垢有良好的效果.HPMA与其他低磷缓蚀阻垢剂如ATMP、PBTCA等配伍,形成的复合缓蚀阻垢剂,广泛应用于工业循环水处理.简述水解聚马来酸酐（HPMA）的合成、性能以及以水解聚马来酸酐为主体的复配新型缓蚀阻垢剂,分析水解聚马来酸酐（HPMA）的发展和应用前景.     

研究反应堆应急计划制定中的若干问题

结合我国研究反应堆应急计划的实践经验,参照美国核管会（NRC）建议的有关方法,对研究反应堆应急计划制定中涉及的应急状态等级的划分依据、应急行动水平的定量化、应急计划区的确定、严重事故的考虑以及多堆应急计划的管理等若干问题进行讨论,并对有关问题的改进和完善提出了初步的看法。     

后处理厂与核电厂概率安全评价方法学的比较

为了确保中国动力堆乏燃料后处理中间试验工厂(中试厂)安全可靠地设计和运行,在用确定论方法对其事故进行分析的同时,有必要应用概率安全评价(PSA)方法对中试厂进行安全评价.该文借鉴核电厂PSA实践经验,研究了国际上后处理厂PSA的应用情况,从设计安全基本原则、PSA方法学、可靠性数据、事故辐射后果等方面,比较了概率安全评价技术在核电厂与核燃料后处理厂应用中的异同,最后确定了后处理厂概率安全评价的具体方法独立的故障树演绎技术,并实际应用于中试厂的概率安全评价.结果表明,后处理厂比核电厂具有较低的风险和较好的安全性.     

新乡至郑州高速公路软土路基压密注浆的试验研究

新乡—郑州高速公路工程No.5部分路段属于软弱土地基路段,经过方案比选采用了压密注浆方案对路基软弱土进行处治,并对压密注浆效果及影响因素进行了分析.     

催化动力学光度法测定微量铬(Ⅵ)的研究

研究了在硫酸介质中,微量Ｃｒ（Ⅵ） 催化溴酸钾氧化罗丹明Ｂ褪色反应及其动力学条件,建立了催化动力学光度法测定微量Ｃｒ（Ⅵ） 的新方法。方法的测定范围为０～５．０ μｇ／２５ ｍ Ｌ,检出限为１．２４×１０－ ６ｇ／Ｌ。本法可直接用于水样及电镀废水中Ｃｒ（Ⅵ） 的测定。     

Research on the optimum hydrogenated silicon thin films for application in solar cells

Hydrogenated silicon (Si:H) thin films for application in solar cells were deposited by using very high frequency plasma enhanced chemical vapour deposition (VHF PECVD) at a substrate temperature of about 170℃. The electrical, structural, and optical properties of the films were investigated. The deposited films were then applied as i-layers for p-i-n single junction solar cells. The current--voltage (I-V) characteristics of the cells were measured before and after the light soaking. The results suggest that the films deposited near the transition region have an optimum properties for application in solar cells. The cell with an i-layer prepared near the transition region shows the best stable performance.     

Effect of substrate temperature on the growth and properties of boron-doped microcrystalline silicon films

Highly conductive boron-doped hydrogenated microcrystalline silicon (\mu c-Si:H) films are prepared by very high frequency plasma enhanced chemical vapour deposition (VHF PECVD) at the substrate temperatures $T_{\rm S})$ ranging from 90$^\circ$C to 270$^\circ$C. The effects of $T_{\rm S}$ on the growth and properties of the films are investigated. Results indicate that the growth rate, the electrical (dark conductivity, carrier concentration and Hall mobility) and structural (crystallinity and grain size) properties are all strongly dependent on $T_{\rm S}$. As $T_{\rm S}$ increases, it is observed that 1) the growth rate initially increases and then arrives at a maximum value of 13.3 nm/min at $T_{\rm S}$=210$^\circ$C, 2) the crystalline volume fraction ($X_{\rm c})$ and the grain size increase initially, then reach their maximum values at $T_{\rm S}$=140$^\circ$C, and finally decrease, 3) the dark conductivity ($\sigma _{\rm d})$, carrier concentration and Hall mobility have a similar dependence on $T_{\rm S}$ and arrive at their maximum values at $T_{\rm S}$=190$^\circ$C. In addition, it is also observed that at a lower substrate temperature $T_{\rm S}$, a higher dopant concentration is required in order to obtain a maximum $\sigma _{\rm d}$.     

乳化-热交联法制备明胶微球

采用乳化-热交联法制备了明胶微球,研究了乳化条件对微球粒径大小和溶胀性的影响.研究结果表明,最佳的乳化条件为:明胶溶液质量分数为20%,水油比为1:5(体积比),乳化温度为50℃,乳化时间为30 min,冷却时间为1.5 h,冷却温度为4℃.采用该方法可制备出粒径为50～1400 μm,溶胀率为150%～400%的明胶微球.