对基于磁控溅射方法沉积的HfO2薄膜的紫外光学特性及薄膜结构的研究

本文基于磁控溅射方法,功率从160 W增加到240 W,在石英衬底上沉积氧化铪薄膜(HfO₂),并对沉积后的薄膜进行退火处理. 利用X射线衍射谱、X射线光电子能谱、紫外-可见-近红外透射谱和椭圆偏振仪对HfO₂薄膜进行研究,对比了退火前后HfO₂薄膜的光学特性及薄膜结构的变化. 实验结果显示,HfO₂薄膜对波长大于200 nm的入射光具有很低的吸收系数. 优化退火温度和时间,可以将沉积后的HfO₂薄膜从非晶态转化成多晶态. 退火有助于结晶生成和内应力的增加,同时退火可以优化薄膜的化学计量比,提升薄膜的光学密度及折射率. 对功率在220 W左右沉积的薄膜进行退火,获得的HfO₂薄膜具有较高并且稳定的光学折射率(>2)和紫外光透射率,可在紫外波段减反膜系统中得到应用.     

中国酒文化系列课程建设及教学探讨

鉴于中国酒和酒文化在我国国民经济及文化中的重要地位,结合在四川大学开展的中国酒文化系列课程建设和教学实践,在教学内容、教学手段、考核方式和师资队伍建设等方面进行了探讨,为酒文化及其他相关课程的教学建设和改革提供了思路.     

不同工作压强下ICP刻蚀对SiC表面损伤的研究

采用CF4/O2作为刻蚀气体,对不同工作压强下ICP刻蚀SiC材料的刻蚀速率以及随之引入的刻蚀损伤进行了研究.结果表明,随着工作压强的增加,ICP刻蚀S iC材料的速率先缓慢增加,然后急剧降低.通过XPS光电子能谱分析发现刻蚀后样品表面的F、O含量均有所增加,表面污染加剧,刻蚀引入的损伤随着工作压强的增加而增加.     

用光伏谱方法研究InGaAs/GaAs应变量子阱的性质

采用低温光伏谱方法,研究了应变In_0.18Ga_0.82/GaAs单量子阱结构中各子能级之间的光跃迁,并与理论计算的结果进行比较,对光伏谱的谱峰跃迁能量随温度变化的分析,表明量子阱中的应变与温度基本无关．研究了光伏谱的谱峰半高宽度随温度的变化关系．讨论了声子关联、混晶组分起伏及生长界面不平整对光伏谱谱峰宽度的影响关键词：     

聚焦Ga~ 离子束注入方法研制半导体量子线结构

采用聚焦Ga~ 离子束注入方法,在GaAs/Al_(0.3)Ga_(0.7)As多量子阱材料上尝试制备半导体量子线。通过低温光致发光谱,测量了量子线的光电特性,并观察了由于沟道效应导致的深层量子阱的光谱蓝移。     

InGaAs/GaAs应变量子阱的光谱研究

分别用光致发光谱(PL)、光伏谱(PV)及时间分辨谱(TRPL)的方法,测量了应变InGaAs/GaAs单量子阱和多量子阱在不同温度下的光谱,发现单量子阱与多量子阱有不同的光学性质。多量子阱PL谱发光峰和PV谱激子峰的强度与半高宽都比单量子阱的大,但单量子阱的半高宽随着温度的升高增大很快,这是由激子-声子耦合引起的。通过时间分辨谱研究发现了量子阱子能级之间的跃迁,多量子阱的发光寿命明显比单量子阱的长。我们利用形变势模型对量子阱的能带进行了计算,很好地解释了实验结果。