首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   577篇
  免费   49篇
  国内免费   86篇
化学   144篇
晶体学   7篇
力学   18篇
综合类   1篇
数学   13篇
物理学   78篇
综合类   451篇
  2024年   5篇
  2023年   17篇
  2022年   26篇
  2021年   15篇
  2020年   17篇
  2019年   14篇
  2018年   14篇
  2017年   15篇
  2016年   9篇
  2015年   12篇
  2014年   40篇
  2013年   24篇
  2012年   23篇
  2011年   30篇
  2010年   29篇
  2009年   57篇
  2008年   27篇
  2007年   43篇
  2006年   31篇
  2005年   28篇
  2004年   14篇
  2003年   23篇
  2002年   14篇
  2001年   12篇
  2000年   12篇
  1999年   11篇
  1998年   22篇
  1997年   13篇
  1996年   22篇
  1995年   10篇
  1994年   14篇
  1993年   6篇
  1992年   3篇
  1991年   4篇
  1990年   8篇
  1989年   6篇
  1988年   2篇
  1987年   4篇
  1986年   4篇
  1985年   6篇
  1984年   2篇
  1983年   2篇
  1982年   1篇
  1978年   3篇
  1975年   1篇
  1961年   1篇
  1958年   1篇
  1957年   15篇
排序方式: 共有712条查询结果,搜索用时 15 毫秒
71.
直流磁控溅射沉积含He钛膜的研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
研究了用He/Ar混合溅射气体的直流磁控溅射制备钛膜中,He的掺入现象.分析结果表明,大量的He原子(He/Ti原子比高达56%)被均匀地引入到Ti膜中,其He含量可由混合溅射气体的He分量精确控制.通过调节溅射参数,可实现样品中He的低损伤引入.研究还发现,溅射沉积的含氦Ti膜具有较高的He成泡剂量和高的固He能力,这可能是溅射沉积形成了纳米晶Ti膜所致.纳米晶Ti膜较粗晶材料具有很高浓度的He捕陷中心,使He泡密度增大而泡尺寸减小.随He引入量的增加,Ti膜的晶粒尺寸减小,He引起的晶体点阵参数和X射线衍射峰宽度增大,晶体的无序程度增加.Helium trapping in the Ti films deposited by DC magnetron sputtering with a He/Ar mixture was studied. He atoms with a surprisingly high concentration (He/Ti atomic ratio is as high as 56%)incorporate evenly in deposited film. The trapped amount of He can be controlled by the helium partial amount. The introduction of the helium with no extra damage(or very low damage) can be realized by choosing suitable deposition conditions. It was also found that because of the formation of nanophase Ti film a relative high He flux for bubble formation is needed and the amount of the retain He in sputtering Ti films is much higher than that in the coarse grain Ti films. The nanophase Ti film can accommodate larger concentration of trapped sites to He, which results in a high density and small size of the He bubbles. With the increasing He irradiation flux, the grain size of Ti film decreases and the lattice spacing and width of the X ray diffraction peak increase due to the He introduction, and the film tends to amorphous phase.  相似文献   
72.
区间值模糊命题逻辑的最大子代数及其广义重言式   总被引:8,自引:0,他引:8  
将S-型蕴涵算子改为R0-蕴涵算子,从而找到区间值模糊逻辑I[0,1]的一个最大子代数IQ,进而将王国俊教授在逻辑系统W中的广义重言式理论推广应用到IQ中。  相似文献   
73.
微细电火花加工机床微进给机构的分析   总被引:2,自引:1,他引:1  
微进给机构是微细电火花机床最重要的组成部分之一.运用直接耦合的方法,在ANSYS软件环境下,对微细电火花机床的微伺服系统中的高频响微进给机构进行了结构的静态分析和模态分析,得到该压电微进给机构的固有频率和振型以及在电压激励下的最大变形量,并据此设计加工出微进给机构.结果表明,所设计的微进给机构具有很高的固有频率,可以实现高精度、高频响进给,满足了微细电火花加工的要求.采用所设计的微进给机构进行的微细电火花加工获得了非常好的效果,加工效率大大提高,加工质量明显改善.  相似文献   
74.
点衍射干涉术在扫描力显微镜中的应用   总被引:1,自引:0,他引:1  
牟旭东  卓永模 《光学学报》1998,18(6):88-692
目前在扫描力显微镜中经常用到的氮化硅三角形探针本身可以作为一个基于点微射干涉的微干涉元件。本文讨论了一种根据这一原理设计的用于扫描力显微镜的干涉光探针,它利用微探针表面几何反身波与后向点衍射波之间的干涉来检测微探针的形变,其纵向分辨率达到0.01nm。  相似文献   
75.
样品中咖啡因经水溶解过滤后 ,采用高效液相色谱仪配有紫外检测器的HPLC进行测定 ,并以外标法进行定量 ,结果表明 :咖啡因测定的质量分数在 0 .2 5 %~ 5 .0 0 %之间 ,方法的回收率为 92 .0 %~ 99.6 %.本方法对速溶咖啡中咖啡因含量检测的各项技术指标完全符合分析测试的要求 .  相似文献   
76.
高合金钢的奥氏体具有一系列的特点,而这些特点又密切的和钢中的转变过程相联系.如上文提到的那些钢中(亦即P9类型的),在回火时奥氏体之转变就与一般碳钢迴然不同,在英美的文献上甚至专门给他一个名称——促变现象.我们  相似文献   
77.
一、引言耐磨强度是金属材料极重要的性貭之一,不论在工业应用上或者科学研究中都很迫切需要建立一种准确适用的确定材料耐磨性能的方法.近代的工业实践和科学研究已经提出并运用了许多方法,但这些方法都还具有一系列的缺点.  相似文献   
78.
在染整工业中,如何充分利用能量,对增加生产利润,已是比以往任何时候都显得更加重要。如将近代先进的机械与热交换器联合起来应用,无疑可以达到节约大量有效能量的目的。为此,布鲁格曼(Brugman)特为纺织品的整理工业研制了一种热交换器。目前已上市的有好几种标准规格,其水流量在4,000~18,000升/时范围之内。布鲁格曼着重介绍了热交换器的以下一些特征:  相似文献   
79.
一、引言最近在耐热性问题的探讨方面对于铜基合金作为耐热材料的研究已经成为新的课题,这就由于铜材料本身具有着高的导热性,在强冷的条件下可以利用它在600℃~800℃下进行工作;布苏联采用铜做坩埚也就是在强冷的条件下进行工作的.我  相似文献   
80.
开发水源与防止水污是一个问题的两个方面,是目前世界上最为严重的问题之一。本文介绍的技术是最近研究的成果。不仅对处理印染工业废水有显著成效,并适用于一般工业废水的处理。此处介绍的设备可处理3000吨/天的工业废水。一、臭氧与活性碳联合工艺处理印染工业废水简介染厂的废水是工业废水中最难处理的一种。它的污染有以下几个方面:(1)BOD 与COD;(2)染料;(3)悬浮固体物;(4)pH;(5)臭氧。迄今为止尽管也推广了不  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号