电子储存环中闭合轨道和色散函数的校正

电子储存环中,由磁铁元件制造误差和安装误差导致的闭合轨道和色散函数的畸变,通常会引起一系列的负面效应,介绍了以合肥光源储存环为模型,用响应矩阵的奇值分解法对闭合轨道和色散函数进行校正的可行性研究结果.     

感应叠加型固态冲击磁铁脉冲发生器设计与实验

文章介绍了用于冲击磁铁的感应叠加型脉冲发生器的实验装置. 电路中采用3.3kV/800A IGBT开关, 大尺寸纳米晶磁环, 2.5kV/50uF储能电容. 设计了基于CPLD的多路延时可调、光耦输入触发驱动电路. 探讨了IGBT短路时的失效原因及保护措施. 利用现有的组元电路, 进行了多个单元叠加的样机实验, 给出了实验波形. 结果表明输出脉冲上升下降时间较快, 脉宽可调, 最大脉冲电流可达2kA, 可以满足束流注入技术的进一步提高的要求.     

真空室材料二次电子产额特性研究

设计了针对加速器真空室材料样品的二次电子产额测试装置.对测试装置的设计及测试过程进行了详细介绍,并给出了常见真空室材料的二次电子产额测试结果以及不锈钢材料在经过镀TiN薄膜处理前后的测试对比结果,分析了影响二次电子产额的一些因素,为真空室的表面处理提供了依据.     

合肥光源逐束团测量和横向反馈系统及初步反馈效果实验

合肥光源逐束团测量和横向反馈系统不仅可以完成合肥光源逐束团的横向振荡、流强测量、纵向振荡和常规反馈任务，同时还开发了对多束团储存环中指定束团的激励，以及形成单束团和不同数量的束团串等附加功能．介绍了该系统研制中所涉及的部分关键问题，如矢量运算模块的开发、梳状（notch）滤波器研制、数据处理程序的开发和应用，并给出了相空间重建、模式分析和带束流反馈实验的初步结果．     

不锈钢管道溅射镀TiN薄膜实验研究

在不锈钢管道溅射镀膜装置上,通过对不锈钢管道真空室进行溅射镀TiN膜的反复多次实验及对镀膜实验结果的分析,得到了一整套适用于加速器管道真空室内壁溅射镀TiN膜的表面处理参数.实验结果表明,在压强为80～90 Pa、基体温度为160～180 ℃的镀膜参数下,不锈钢管道内壁能获得符合加速器物理要求的TiN薄膜.     

波长移动器的效应与模拟

 超导扭摆磁铁(或称波长移动器, WLS)能产生短波长同步辐射, 研究了WLS 的效应与模拟问题。用磁场积分估计其效应,近似计算了一阶和三阶传输系数的最大项;用三个分段常 数非矩形磁极准确地模拟一阶效应,以便设计补偿手段。     

不锈钢管道低温溅射镀TiN薄膜技术

设计了一套适用于加速器细长管道真空室的低温溅射镀TiN薄膜装置。利用该装置,对86 mm×2 000 mm的不锈钢管道真空室进行溅射镀TiN膜实验,并对镀膜实验结果进行分析,得到了适用于加速器管道真空室内壁溅射镀TiN膜的表面处理参数。样品测试结果表明：在压强为80～90 Pa、基体温度为160~180 ℃的镀膜参数下,不锈钢管道内壁获得的TiN薄膜最佳,薄膜沉积速率为0.145 nm/s。镀膜后真空室的二次电子产额明显降低。     

电子储存环中离子俘获不稳定性和高频清洗的模拟

介绍了用强–弱模型对电子储存环中离子俘获不稳定性和高频清洗机制进行模拟研究的结果.模拟结果可合理地解释在合肥光源(HLS)储存环上观察到的现象.     

合肥光源电子储存环束流闭轨的局部校正

 在合肥同步辐射装置运行过程中,发生储存环的束流轨道偏移。利用现有设备对束流闭轨的位置进行了多次测量和分析,利用测量数据计算得到校正铁强度与束流位置之间移动的响应矩阵。并利用最小二乘法计算得到三个校正铁的凸轨系数,用于束流闭轨的局部凸轨校正,取得了预期的效果。     

合肥光源相空间测量

介绍了在合肥光源（HLS）上的相空间测量系统和测量结果,同时进行了工作点(Tune值)的计算。研究了电子储存环上三种相空间测量和计算方法：双位置单圈法、单位置双圈法和单位置单圈法。通过对仿真数据的计算和比较,论证了这三种方法的正确性和可行性,并分析了这三种方法的适用条件和在不同条件下的优缺点,为合肥光源的相空间测量提供了新的设计思路。