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221.
褶合光谱法考察羟自由基清除剂对紫外照射致DNA变异的作用 总被引:1,自引:1,他引:0
采用褶合光谱法考察了紫外线UV A ,UV B ,UV C导致的DNA变异 ,并以褶合光谱差谱值的形式量化表达DNA细微突变的程度。DNA受UV A ,UV B ,UV C作用后 ,差谱值依次增大 ,表明变异程度增大 ;添加二甲亚砜、甘露醇等羟自由基清除剂以后 ,在UV A ,UV B ,UV C作用下 ,差谱值有不同程度的降低 ,呈现一定的抑制变异作用。尽管DNA的变异程度有所区别 ,但它们的差谱点分布区域相似 ,提示UV A ,UV B ,UV C导致的DNA变异类型可能相似 ,两种羟自由基清除剂抑制DNA变异的作用机制也可能相似 相似文献
222.
金属磁记忆检测技术已经在对接焊缝疲劳损伤检测方面有了诸多研究成果,但是目前的研究主要集中于对接焊缝的拉压疲劳,与实际结构中焊缝的弯拉疲劳过程之间存在差异.为此,本研究开展了含对接焊缝的工字钢梁疲劳试验,旨在真实地模拟实际工程中对接焊缝的疲劳开裂过程,揭示疲劳过程中磁信号的变化规律.试验结果表明:焊缝的初始焊接状态对于磁信号分布曲线的变化趋势有一定的影响,对于同一焊缝,当其初始磁信号曲线分布趋势相似时,其峰值及谷值随疲劳周次的变化趋势基本一致;研究发现,磁信号分布曲线的突变可以表征宏观疲劳裂纹出现,但是在疲劳稳定阶段,磁信号法向分量对于疲劳损伤的累计更加敏感;经过标准化处理后的矢量合成磁场平均值特征曲线可以表征焊缝疲劳的变化过程,捕捉到疲劳裂纹萌生的广义时间节点,从而对宏观疲劳裂纹的出现起到预警作用. 相似文献
223.
通过调变辅助配体,设计合成了两个新的Cu(II)化合物Cu(mal)(tap)(H2O)]n(1) 和 [Cu2(mal)2(bpym)2(H2O)2]·2H2O(2) (其中H2mal =顺丁烯二酸, tap=1,4,5,8-四氮杂菲,bpym=2,2′-联嘧啶),并用X-射线单晶衍射技术对其进行了结构表征。化合物1是一维弓背状配位聚合链通过氢键和π–π 堆积作用拓展形成的三维超分子体系;化合物2 展现一个具有六连接α-Po(46)拓扑的3D→3D二重穿插结构。此外根据晶体结构,利用Gaussian 03W中的DFT方法对化合物1和2进行几何构型优化,同时,用DFT-BS方法研究了两个化合物的磁性,结果表明计算结果与实验结果吻合,它们均具有弱的反铁磁相互作用。 相似文献
224.
根据弱中子源点火理论推导了反应堆意外超瞬发临界事故的裂变产额估算公式,分析了堆外物体意外坠落在快中子临界装置表面的事故规模。对防止快中子临界装置发生超瞬发临界事故提出了对策建议。 相似文献
225.
Using quantum chemistry methods B3LYP/6-31++G(d,p) to optimize endohedral complexes X@(HBNH)12 (X=Li^0/+, Na^0/+, K^0/+, Be^0/2+, Mg^0/2+, Ca^0/2+, H and He), the geometries with the lowest energy were achieved. Inclusion energy, standard equilibrium constant, natural charge, spin density, ionization potentials, and HOMO-LUMO energy gap were also discussed. The calculation predicted that X=Na^0/+, K^0/+, Mg^0/2+, Ca^0/2+, H and He are nearly located at the center of (HBNH)12 cluster. Li^+ lies in less than 0.021 nm departure from the center. Li and Be^0/2+ dramatically deviate from the center. (HBNH)12 prefers to enclose Li^+, Be^2+, Mg^2+, and Ca^2+ in it than others. Moreover, M@(HBNH)12 (M=Li, Na, K) species are "superalkalis" in that they possess lower first ionization potentials than the Cs atom (3.9 eV). 相似文献
226.
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228.
229.
230.
分析张家界体育中心体育馆的风洞测压数据,分别考虑无周边建筑和有周边建筑2种情况,以屋盖和幕墙的风压为研究对象,研究周边场馆对屋盖和幕墙风荷载的干扰影响;采用干扰因子分析法和多阶模态力法分析屋盖等效风荷载.分析表明:在干扰影响下,屋盖峰值负压的干扰因子达到1.5,峰值正压的干扰因子达到5;干扰影响下的幕墙最不利风压集中位置为干扰体周边的幕墙凹陷处和干扰体周边的幕墙拐角处. 相似文献