首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   31篇
  免费   1篇
  国内免费   9篇
化学   12篇
综合类   29篇
  2014年   1篇
  2013年   1篇
  2011年   2篇
  2010年   3篇
  2009年   4篇
  2008年   5篇
  2007年   4篇
  2006年   1篇
  2005年   2篇
  2004年   1篇
  2003年   4篇
  2002年   10篇
  2001年   3篇
排序方式: 共有41条查询结果,搜索用时 46 毫秒
21.
自组装膜的研究应用新进展   总被引:6,自引:0,他引:6  
对最近几年界面科学、分子工程学等化学领域中研究最多的自组装膜体系进行了总结。并分别对其结构、性能、应用等方面的新进展作了较全面的概述。对深入研究自组装膜体系具有一定的借鉴意义。  相似文献   
22.
电极电势对Au/CaM膜电化学行为的影响   总被引:2,自引:1,他引:1  
采用交流阻抗的方法,在包含1mmol/L Fe(CN)^3-/4-6的0.15mol/L的NaCl溶液中,研究了不同电极电势对Au/CaM膜电化学行为的影响,结果表明,CaM的空间构型随电极电势的变化不断变化,且在一定电势范围内,随着电极电势的增大,CaM在Au表面的排列越致密。为利用电化学方法研究CaM在不同电场中的变化规律提供了新的思路。  相似文献   
23.
以苯磺酸铜为催化剂,由己二酸和正丁醇合成了己二酸二丁酯,实验表明:己二酸0.05mol,醇酸摩尔比2.4/1,催化剂用量0.5mol%(基于己二酸的摩尔百分数,下同),反应时间2.5h,反应温度85℃~90℃,环己烷5mL作带水剂,酯化率可达95.0%。催化剂重复使用8次,酯化率平均可达89.6%。在此基础上,考察了其它Lewis酸的催化效果,并以苯磺酸铜为催化剂合成了其它7种己二酸酯。  相似文献   
24.
电化学石英晶体微天平的近期应用进展   总被引:3,自引:1,他引:3  
本文对近几年来电化学石英晶体微天平(EQCM)在吸附,膜的形成,腐蚀和电沉积等方面的应用进行了概述,并对其应用现状和前景进行了分析。  相似文献   
25.
δ-MnO2对TiO2光催化降解甲基橙的抑制作用   总被引:2,自引:0,他引:2  
采用动力学方法研究了在水悬浮液中δ-MnO2颗粒物对P-25 TiO2光催化降解甲基橙活性的影响, 并利用紫外-可见漫反射光谱(DRS)和光致发光光谱(PL)对受δ-MnO2污染前后的TiO2样品进行了表征. 动力学研究结果表明, 在3种不同初始pH值条件下, δ-MnO2对TiO2光催化剂都具有明显的致毒效应, 共存δ-MnO2的浓度越大, 致毒效应越明显. 表征结果表明, 由于δ-MnO2 与TiO2之间的界面接触, 使得TiO2吸收带边蓝移, 紫外光区的吸收强度降低, 光致发光信号(PL)明显减弱. 因此, δ-MnO2导致TiO2的禁带宽度增大, 光利用率降低, 并且是光生电子与空穴的复合中心.  相似文献   
26.
十八硫醇自组装膜对TiO2光电氧化甲醇的敏化作用   总被引:3,自引:0,他引:3  
纳米电极;甲醇光电氧化;十八硫醇自组装膜对TiO2光电氧化甲醇的敏化作用  相似文献   
27.
自组装膜;钙调素膜在不同pH值溶液中的循环伏安行为  相似文献   
28.
Au/席夫碱自组装单层膜的电化学行为   总被引:1,自引:0,他引:1  
用交流阻抗技术对Au/席夫碱自组装单层膜的电化学行为进行研究的结果表明,酸性较强时,席夫碱单分子膜的膜电容随酸性的增强而增大;实验还表明,Au/席夫碱自组装单层膜可与Cu^2 发生作用,其速度随Cu^2 浓度的变化而不同,为深入研究膜的结构、席夫碱络合物的生物活性等打下了必要的基础。  相似文献   
29.
本文分析创新人才培养的意义,说明了创新人才的概念,提出了产学研合作的培养大学生创新人才的体系。加强产学研教学体系的建设,可实现创新人才培养的系统性功能,促进高等院校创新人才的培养。  相似文献   
30.
采用循环伏安法分别研究了甲醛、甲酸对铂电极上甲醇氧化的影响.结果表明,加入甲醛可使甲醇的氧化蜂电流增大,进一步分析说明,甲醇氧化蜂电流的增加不单是由于甲醛的氧化引起的,甲醛的氧化中间体或解离产物在铂电极上的吸附也促进了甲醇的氧化,并提出了可能的吸附模型.而甲酸对甲醇氧化的促进作用不明显,可能与甲酸甲酯对甲醇氧化的抑制作用有关.  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号