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151.
The effects of the plasma etching process induced gate oxide damages on device's low frequency noise behavior are investigated on MOSFET's fabricated with different field plate perimeter to gate area ratio antennas. Abnormal 1/f noise spectrum with a shoulder centered in the frequency range of 100 and to 1 kHz was frequently observed in small geometry devices, and it is attributable to a nonuniform distribution of oxide traps induced by plasma etching process  相似文献   
152.
We have demonstrated feasibility to form silicon-on-insulator (SOI) substrates using plasma immersion ion implantation (PIII) for both separation by implantation of oxygen and ion-cut. This high throughput technique can substantially lower the high cost of SOI substrates due to the simpler implanter design as well as ease of maintenance. For separation by plasma implantation of oxygen wafers, secondary ion mass spectrometry analysis and cross-sectional transmission electron micrographs show continuous buried oxide formation under a single-crystal silicon overlayer with sharp Si/SiO2 interfaces after oxygen plasma implantation and high-temperature (1300°C) annealing. Ion-cut SOI wafer fabrication technique is implemented for the first time using PIII. The hydrogen plasma can be optimized so that only one ion species is dominant in concentration and there are minimal effects by other residual ions on the ion-cut process. The physical mechanism of hydrogen induced silicon surface layer cleavage has been investigated. An ideal gas law model of the microcavity internal pressure combined with a two-dimensional finite element fracture mechanics model is used to approximate the fracture driving force which is sufficient to overcome the silicon fracture resistance.  相似文献   
153.
万谦  邹曦露 《波谱学杂志》1992,9(2):205-208
描述了一种延长EPR波谱仪中速调管使用寿命的方法.根据这种方法,只要正确地调谐微波桥的工作状态和适当地调整功率电平器的功率校正电平.即使对于已经严重老化的速调管仍然可以继续使用一段时间,维持仪器的正常运行.  相似文献   
154.
It has been found that the subthreshold currents of fully depleted silicon-on-insulator (SOI) MOSFETs show a transient behavior under certain front-gate and back-gate voltage conditions. The cause of this anomaly is explained, and applications for the phenomenon are pointed out. Particularly, a simple way to measure the silicon film thickness is suggested  相似文献   
155.
本文报道了一种测角单晶NMR探头。该探头采用单线圃双调谐电路,工作频率在90MHz-110 MHz连续可调,可进行交叉极化大功率去耦实验。文中提出了一种简单而有效的测角装置,可使单晶绕三个互相垂直轴转动实现单晶的NMR测量。作为典型的应用例子,本文利用该探头实现了单晶DGO(2NH2CH2COOH·H2C2O4)屏蔽张量的测量。  相似文献   
156.
胡逸群  费跃平 《光学学报》1994,14(6):26-631
讨论了横向位移双曝光散斑图维纳谱的信息分布,并由此导出杨氏纹图的一般表达式。讨论了条纹可见度与应变,面内转动,照明光束直径与条纹图图空间坐标的关系,指出了在条纹可见度影响下最大可见条纹数目。还讨论了散斑衬比与衍射晕的关系。  相似文献   
157.
InGaAs/GaAs(100) multiple-quantum-well-based inverted cavity asymmetric Fabry-Perot modulators are vertically integrated with GaAs/AlGaAs heterojunction phototransistors to yield all-optical photonic switches. The photonic switches using `normally on' modulator pixels exhibit an output on-off ratio of 12:1 with internal optical gain of 4 dB. The photonic switches using `normally off' modulator pixels yield similar contrast and gain, but exhibit intrinsic bistable behavior. The inverted cavity modulators employed permit utilizing the transparency of the GaAs substrate at the operating wavelength and offer advantages for fabricating large arrays for optical signal processing  相似文献   
158.
A coaxial-cavity cyclotron resonance maser (CRM) oscillator with tapered guide magnetic field is proposed. It is shown that the transmission quality can be improved by tapering the guide magnetic field. Simulation indicates that the efficiency of a millimeter-wave gyrotron oscillator may be reached up to 38.7% by optimizing the tapered magnetic field.  相似文献   
159.
CCD狭缝摄象     
陈良益  孙传东 《光子学报》1992,21(4):374-380
在过去的几十年中,各靶场已广泛应用狭缝摄影对种种飞行弹丸的多项重要技术参数进行测试,它在许多测试项目中应用的有效性、广泛性和经济性已被人们所肯定。据报道,在国外的一些靶场所进行的发射试验中,狭缝摄影机曾占全部测试设备中所使用的摄影仪器的百分之九十,这是因为狭缝摄影有其独特的、其它方法不可比拟的优点。  相似文献   
160.
Hollow spherical molybdenum disulfide has been successfully synthesized via a solvothermal method using Cyanex 301 as sulfur source and modification agent. The hollow spheres are characterized by transmission electron microscopy, scanning electron microscopy, X-ray diffraction and Energy-Dispersive X-ray analysis. The influences of reaction conditions are also discussed while a mechanism is proposed to explain the formation of the peculiar morphology.  相似文献   
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