Crystallographic report: Bis(norfloxacin)dilead(II) tetranitrate, [Pb2(H‐Norf)2(ONO2)4]

The centrosymmetric binuclear structure of [Pb₂(H‐Norf)₂(ONO₂)₄]shows the geometry around each lead(II) atom to be distorted trigonal bipyramidal with Pb–O distances ranging from 2.357(3) to 2.769(4) Å. Copyright © 2003 John Wiley & Sons, Ltd.     

关于非光滑不变凸多目标规划的Wolfe型对偶

本文讨论定义在Banach空间上的,既具有等式约束又具有不等式约束的,非光滑(F,P)不变凸多目标规划的Wolfe对偶性,Mond-Weir型对偶性可类似讨论之。     

First‐principles calculations of Mössbauer hyperfine parameters for solids and large molecules

Electronic structure calculations based on density functional theory were performed for solids and large molecules. The solids were represented by clusters of 60–100 atoms embedded in the potential of the external crystal. Magnetic moments and Mössbauer hyperfine parameters were derived.     

PZT铁电薄膜的制备及电学性能研究

使用硝酸锆作锆源的溶胶－凝胶方法制备ＰＺＴ铁电薄膜。他们的电学性能被测试包括电滞回线，电流Ｉ（ｔ）特性，漏电流，矫顽场疲劳和老化。测到的ＰＺＴ薄膜剩余极化８．２μＣ／ｃｍ~２，矫顽场６８ｋＶ／ｃｍ．簿膜的寿命可超过１０~（１１）周期。     

离子注入浅结制备技术

根据近年来的文献资料总结报道几种离子注入浅结制备技术，即：大角度偏转注入、分子离子注入、双离子注入，通过介质掩膜注入，注入固体源驱入扩散再分布、等离子体浸没离子注入（ＰＩＩＩ）和反冲离子注入等。     

统计复用信道的数字用户环路复用设备

将信道传输容量动态分配技术应用于数字用户环路复用设备中，可用效地解决复用设备线路复用率和话音传输质量之间的矛盾，从而使复用设备具有最佳的传输效果。本文介绍了一种性能优良的统计复用信道的数字用户环路复用设备。     

a—Si等离子体刻蚀的研究

将等离子体刻蚀应用于非晶硅的刻蚀中,得到边缘整齐、分辩率高、重复性好、图形清晰的满意效果。通过调整工艺条件,可严格控制刻蚀速率。其特点优于湿式化学腐蚀,是一种非晶硅特性研究和器件制造中值得推广和使用的方法。     

SDH中泊松分布下误块率与误码率的关系分析

本文较详细地介绍了ＳＤＨ中的ＢＩＰ误码校验方式，推导了泊松分布下，ＢＩＰ误块率与误码率的一般关系式，给出了ＳＤＨ中几种典型的误块率与误码率的关系曲线，并做了计算机模拟验证     

热辐射驱动烧蚀平面金靶的数值定标定律

利用一维辐射流体力学编码数值研究了辐射烧蚀波在平面金靶中的传播情况,并在常温边界条件下得到了辐射流、烧蚀压、质量烧蚀率和特征等离子体密度的定标定律。