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111.
关键点(转折点及极值点)是刻画时间序列的最重要点,由此提出了一种新的基于三点时间序列关键点算法。首先,分析了三点组成的序列形态;其次,提出了转折点定理和三点转折定理,并给予了证明;最后,给出了算法及实验分析。实验结果表明该算法能精确定位序列中的关键点。  相似文献   
112.
关于蓼科(Polygonaceae)沙拐枣属(Calligonum L.)的分类,各分类学家存在着不同的见解,并受到越来越多的分类学家的关注.随着研究的逐步深入,沙拐枣属系统分类学在各方面都取得了一定的进展.本文从经典分类学的角度,对沙拐枣属在形态学、细胞学、孢粉学、进化关系等方面进行总结和论述,并提出了研究中所存在的科学问题,并针对相关问题进行了讨论.  相似文献   
113.
基于BP神经网络的企业内部控制体系评价研究   总被引:11,自引:0,他引:11  
对内部控制体系评价可以采用定性和定量两种评价标准。定性评价受评价人员的主观判断的影响,往往缺乏客观性,而定量评价则以其科学、精确、可比的特征受到审计机构的欢迎。本文构建了内部控制评价指标,把描述企业内部控制状况的特征信息作为神经网络的输入向量,而把代表相应综合评价结果的值作为神经网络的输出,并用足够的样本训练这个网络,使不同的输入向量得到不同的输出量值,从而对企业的内部控制状况进行了量化的评价。  相似文献   
114.
一个量子代理弱盲签名方案   总被引:1,自引:0,他引:1  
代理盲签名在电子支付系统、电子投票系统、移动代理系统和网络安全等方面有着广泛的应用.基于EPR (Einstein–Padolsky–Rosen)对的纠缠相干性和可控量子隐形传态,提出了一种量子代理弱盲签名方案.不同于经典的基于计算复杂性的代理盲签名方案,本方案利用量子力学的物理特性来实现消息盲化、签名及验证,因而保证了消息所有者的匿名性和无条件安全性.  相似文献   
115.
基于FPGA+DSP的高速中频采样信号处理平台的实现   总被引:3,自引:1,他引:2  
高速中频采样信号处理平台在实际应用中有很大的前景,提出采用FPGA+DSP的处理结构,结合高性能A/D和D/A处理芯片,设计了一个通用处理平台,并对其主要性能进行了测试。实验与实际应用表明,该系统具有很强的数据处理能力和很好的稳定性。  相似文献   
116.
目的:观察不同真空处理对甘蓝组织形态的超微结构影响。方法:对采后甘蓝进行真空预冷处理,制作光镜和电镜样品观察甘蓝组织的超微结构。结果:光学显微镜照片表明在各种条件处理下甘蓝组织的形态保持完整;透射电子显微镜(TEM)观察表明甘蓝经过真空冷却及冷藏后,经过慢速的156 Pa/min压降率和快速的624 Pa/min压降率处理的甘蓝,其组织的TEM成像表明无论是内部膜系统还是细胞器都显示明显的毁坏。而在312 Pa/min压降率下,甘蓝组织的TEM成像中没有发现受到损害的细胞器。结论:光学显微镜照片表明各种真空处理对甘蓝组织的影响不大,但透射电镜成像表明不同的真空处理和甘蓝的品质相关,经过中等压降率312 Pa/min处理的甘蓝获得了较好的质量和较长的货架期。  相似文献   
117.
结构处于自然环境中常会受到环境温度变化的影响,引起实测动力响应出现较大误差,进一步影响对结构健康状况的判定.另外,基于优化算法的损伤识别在反演损伤位置及量化损伤程度时,易出现局部最优解,且计算效率低下.针对以上难题,本文提出一种结合支持向量机与强化飞蛾扑火优化算法的损伤识别方法,用于对环境温度影响下的结构稀疏损伤进行识...  相似文献   
118.
采用基于密度泛函理论的第一性原理平面波超软赝势方法,计算了Ca掺杂MgF2晶体的几何结构、电子结构以及光学性质.结果表明:适量比例的Ca掺杂导致MgF2晶体禁带宽度变窄.在一定能量范围内,Ca掺杂对MgF2晶体的介电常数和吸收系数有调制作用,吸收系数增加有利于光生电子-空穴对的有效分离,提高了MgF2光催化效率,揭示了Ca掺杂MgF2体系在光催化方面的潜在应用.  相似文献   
119.
激光二维扫描显示技术的研究   总被引:6,自引:0,他引:6  
结合激光特性和电视扫描成像原理,提出一种二维激光光栅扫描方案,并实际建立一套光栅产生系统。通过实验得到均匀的扫描光栅,测得一组实验数据。对实验数据进行处理得到了振镜偏转角度和扫描频率之间具体的函数表达式及其图像表示,进而推导得到光栅大小和扫描频率之间的函数关系式。另外,对扫描光栅的特征参数进行了分析。  相似文献   
120.
李应辉  陈春霞  蒋城  刘永智 《电子学报》2009,37(8):1707-1711
 本文在研究光电耦合器工作原理、辐照理论及1/f噪声理论的基础上,分析了光电耦合器辐照噪声产生机理及特性,建立了光电耦合器总剂量辐照损伤噪声模型.研究结果表明,随着辐照总剂量增强, LED及光敏管氧化层中引入的氧化层陷阱密度增多,载流子数涨落增强,从而使电压噪声功率谱密度增加.实验结果验证理论分析的正确性,电压噪声功率谱密度可作为光电耦合器辐照损伤表征参量.  相似文献   
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